[發(fā)明專利]粉料攪拌研磨結(jié)構(gòu)、組件及設備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211036530.2 | 申請日: | 2022-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN115463716A | 公開(公告)日: | 2022-12-13 |
| 發(fā)明(設計)人: | 楊俊;敬文平;江志聰;劉利滔;楊雪屏;何小燕;韓瑋;鄧國平 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市宇陽科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類號: | B02C17/16 | 分類號: | B02C17/16;B02C17/18;B02C17/04;B02C17/10 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 劉光明 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區(qū)西麗街*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 攪拌 研磨 結(jié)構(gòu) 組件 設備 | ||
1.一種用于粉料攪拌研磨設備的粉料攪拌研磨結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:
攪拌盤,所述攪拌盤包括相對設置的第一表面和第二表面,所述第一表面的中心位置設有套筒部,所述套筒部用于供轉(zhuǎn)動軸穿設并可被所述轉(zhuǎn)動軸帶動旋轉(zhuǎn),所述第一表面上凸設有凸部,所述凸部用于在所述攪拌盤被帶動旋轉(zhuǎn)時撞擊流動的粉料,所述第一表面上還設有凹槽,所述攪拌盤上分布有若干貫穿所述第一表面和所述第二表面的漏料孔;
兩個所述攪拌盤能夠相互拼接,兩個所述攪拌盤中的任一者的凸部遠離所述第一表面的部分被配置為插入兩個所述攪拌盤中的另一者的凹槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粉料攪拌研磨結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一表面上設有至少兩個所述凸部和至少兩個所述凹槽,至少兩個所述凸部和至少兩個所述凹槽位于所述套筒部的外側(cè)且沿所述攪拌盤的周向交替且等距布置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粉料攪拌研磨結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一表面和所述第二表面的至少一者的邊緣凸設有環(huán)狀部。
4.一種用于粉料攪拌研磨設備的粉料攪拌研磨組件,其特征在于,包括至少兩個如權(quán)利要求1至3任一項所述的攪拌盤和轉(zhuǎn)動軸,所述轉(zhuǎn)動軸穿設在各所述攪拌盤的套筒部并可帶動各所述攪拌盤旋轉(zhuǎn),所述轉(zhuǎn)動軸被配置為與外部驅(qū)動機構(gòu)連接,相鄰的所述攪拌盤之間間隔設置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的粉料攪拌研磨組件,其特征在于,相互拼接的兩所述攪拌盤的套筒部相向的一側(cè)相互抵接。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的粉料攪拌研磨組件,其特征在于,所述粉料攪拌研磨組件包括至少兩組所述攪拌盤,每組所述攪拌盤包括相互拼接的兩個所述攪拌盤,相鄰的兩組所述攪拌盤之間通過套筒連接,所述轉(zhuǎn)動軸穿過所述套筒。
7.一種粉料攪拌研磨設備,用于將第一粉料處理成第二粉料,所述第二粉料的粒徑小于所述第一粉料的粒徑,其特征在于,包括:
容器,所述容器被配置為接收并容置所述第一粉料;
粉料攪拌研磨組件,所述粉料攪拌研磨組件如權(quán)利要求4至6任一項所述;
驅(qū)動機構(gòu),所述驅(qū)動機構(gòu)與所述粉料攪拌研磨組件的轉(zhuǎn)動軸連接,所述驅(qū)動機構(gòu)用于驅(qū)動所述粉料攪拌研磨組件轉(zhuǎn)動以帶動所述第一粉料在所述容器內(nèi)流動并使所述第一粉料破碎、分散以形成所述第二粉料。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的粉料攪拌研磨設備,其特征在于,所述容器內(nèi)還放置有若干可自由活動的研磨球體,所述粉料攪拌研磨組件轉(zhuǎn)動以帶動所述第一粉料流動時,所述研磨球體被配置為在所述容器內(nèi)活動以分散、破碎流動的所述第一粉料。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的粉料攪拌研磨設備,其特征在于,還包括儲存容器,所述儲存容器包括第一連接端和第二連接端,所述第一連接端與所述容器的輸入端連接,所述第一連接端用于向所述容器輸入所述第一粉料,所述第二連接端與所述容器的輸出端連接,所述第二連接端用于接收所述容器輸出的所述第二粉料。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的粉料攪拌研磨設備,其特征在于,所述容器和/或所述儲存容器設置有粒徑檢測器,所述粒徑檢測器用于檢測所述第一粉料和/或所述第二粉料的粒徑。
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