[發明專利]光刻機雙光源曝光系統有效
| 申請號: | 202211031003.2 | 申請日: | 2022-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN115268235B | 公開(公告)日: | 2023-03-14 |
| 發明(設計)人: | 鐘敏 | 申請(專利權)人: | 上海圖雙精密裝備有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海互順專利代理事務所(普通合伙) 31332 | 代理人: | 韋志剛;曹月明 |
| 地址: | 200000 上海市浦東新區中國(*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光刻 光源 曝光 系統 | ||
1.光刻機雙光源曝光系統,包括曝光機架(1)和設置在曝光機架(1)內底部凹槽處的調節組件(3)以及螺栓安裝在曝光機架(1)右端的控制面板(5),所述曝光機架(1)內側壁螺栓安裝有導軌組件(6),所述調節組件(3)右端位移塊螺栓安裝有曝光平臺(4),所述調節組件(3)與控制面板(5)電連接;
其特征在于:還包括安裝在曝光機架(1)頂部的導流機構(2)和導軌組件(6)前端的曝光機構(7),所述曝光機構(7)包括螺栓安裝在導軌組件(6)位移滑塊前端的安裝側板(71),所述安裝側板(71)前端中側設置有曝光器(72)和螺栓安裝在安裝側板(71)前端左右兩側的調平推桿(73)以及螺栓安裝在安裝側板(71)底部中側的對齊傳感器(78),所述調平推桿(73)調節桿底部螺栓安裝有遮光件(74),所述遮光件(74)內側通槽壁固定安裝有掩模版(75)和負性光刻膠(76)以及粘黏固定在遮光件(74)底部的電路圖形板(77),所述調平推桿(73)與控制面板(5)電連接。
2.根據權利要求1所述光刻機雙光源曝光系統,其特征在于:所述曝光器(72)包括螺栓安裝在安裝側板(71)前端的曝光殼體(721),所述曝光殼體(721)底部粘黏設置有透光孔(722)和螺栓安裝在曝光殼體(721)內部的固定架體(723)。
3.根據權利要求2所述光刻機雙光源曝光系統,其特征在于:所述固定架體(723)底部左側螺栓安裝有微型電源(724)和螺栓安裝在固定架體(723)頂部左側的第一曝光光源(725)以及固定安裝在固定架體(723)內槽壁的透光鏡(728),所述固定架體(723)頂部右側設有聚合組件(727)。
4.根據權利要求3所述光刻機雙光源曝光系統,其特征在于:所述第一曝光光源(725)頂部螺栓安裝有第二曝光光源(726),所述微型電源(724)和第一曝光光源(725)以及第二曝光光源(726)均與控制面板(5)電連接。
5.根據權利要求3所述光刻機雙光源曝光系統,其特征在于:所述聚合組件(727)包括螺紋安裝在固定架體(723)頂部右側的調節螺桿(7271),所述調節螺桿(7271)固定安裝在第一遮光板(7272)底部,所述第一遮光板(7272)頂部焊接有鉸接環(7273),所述鉸接環(7273)焊接在第二遮光板(7274)底部。
6.根據權利要求5所述光刻機雙光源曝光系統,其特征在于:所述第一曝光光源(725)和第二曝光光源(726)內左壁均螺栓安裝有激光器(7275)和固定安裝在第一曝光光源(725)和第二曝光光源(726)內部的聚光鏡(7276),所述第一曝光光源(725)和第二曝光光源(726)內壁分別與聚合光柵(7277)和平行光柵(7278)外框壁螺栓連接,所述激光器(7275)與控制面板(5)電連接。
7.根據權利要求1所述光刻機雙光源曝光系統,其特征在于:所述導流機構(2)包括螺栓安裝在曝光機架(1)頂部的過濾機箱(21),所述過濾機箱(21)后端螺栓安裝有風機板(22)和螺栓安裝在過濾機箱(21)內部后側的過濾棉層(23)以及螺栓安裝在過濾機箱(21)頂部的離子發生器(24),所述過濾機箱(21)前端管道安裝有拉伸氣管(25)。
8.根據權利要求7所述光刻機雙光源曝光系統,其特征在于:所述拉伸氣管(25)底部與換向閥(26)頂部管道連接,所述換向閥(26)左右兩端出風口管道安裝有吹掃管(27)和管道安裝在換向閥(26)底部的換熱管(28),所述吹掃管(27)和換熱管(28)底部均管道安裝有橡膠套管(29),所述風機板(22)和離子發生器(24)以及換向閥(26)均與控制面板(5)電連接。
9.根據權利要求1所述光刻機雙光源曝光系統,其特征在于:所述電路圖形板(77)四周設有起到遮擋作用的遮光件(74),且該遮光件(74)頂部設有起到粘黏作用的樹脂膠層。
10.根據權利要求5所述光刻機雙光源曝光系統,其特征在于:所述第一遮光板(7272)和第二遮光板(7274)之間所形成的夾角為150度,且第一遮光板(7272)和第二遮光板(7274)表面均設有反光面。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海圖雙精密裝備有限公司,未經上海圖雙精密裝備有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202211031003.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種教學演示裝置
- 下一篇:一種可調節的塑料加工粉碎裝置





