[發明專利]含銅高的鎳硫處理方法

在審

• 申請號: 202211018104.6
• 申請日: 2022-08-24
• 公開（公告）號: CN115323189A
• 公開（公告）日: 2022-11-11
• 發明（設計）人: 李濤;陸業大;丁淑榮;張杰磊;鄭明臻;王恒利
• 申請（專利權）人: 中國恩菲工程技術有限公司
• 主分類號: C22B15/00
• 分類號: C22B15/00;C22B3/08;C22B3/26;C22B23/00;C25C1/12
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 付麗麗;袁文婷

1.一種含銅高的鎳硫處理方法，其特征在于，包括如下步驟：

通過對含銅高的鎳硫原料進行第一段常壓浸出處理，得到第一上清液和第一濃密底流；

通過對所述第一濃密底流進行第二段常壓浸出處理，得到第二上清液和第二濃密底流；

對所述第二上清液進行低銅萃取處理，得到第一萃余液和低富銅液，其中，所述第一萃余液返回至所述第一段常壓浸出和所述第二段常壓浸出；以及，對所述第二濃密底流進行第一段加壓浸出處理，得到第三上清液和第三濃密底流；

將所述第三上清液返回至所述第一段常壓浸；并且，對所述第三濃密底流進行第二段加壓浸出處理，得到第四上清液和鐵渣；

對所述第四上清液進行高銅萃取，得到電積液和第二萃余液；

將所述第二萃余液返回至所述第一段加壓浸出和所述第二段加壓浸出；以及，將所述電積液與所述低富銅液混合后進行電積處理，得到電積銅。

2.根據權利要求1所述的含銅高的鎳硫處理方法，其特征在于，所述通過對含銅高的鎳硫原料進行第一段常壓浸出處理，得到第一上清液和第一濃密底流包括：

對所述含銅高的鎳硫原料進行磨礦處理，得到碎料；其中，所述含銅高的鎳硫原料中銅的含量為15％-30％；

對所述碎料進行第一段常壓浸出處理，得到第一浸出礦漿；

對所述第一浸出礦漿進行固液分離，得到第一上清液和第一濃密底流。

3.根據權利要求1所述的含銅高的鎳硫處理方法，其特征在于，在所述通過對含銅高的鎳硫原料進行第一段常壓浸出處理，得到第一上清液和第一濃密底流之后，還包括：

對所述第一上清液依次進行過濾、精濾、鎳鈷萃取分離后得到電池級硫酸鎳溶液和硫酸鈷溶液。

4.根據權利要求1所述的含銅高的鎳硫處理方法，其特征在于，所述通過對所述第一濃密底流進行第二段常壓浸出處理，得到第二上清液和第二濃密底流包括：

對所述第一濃密底流進行第二段常壓浸出處理，得到第二浸出礦漿；

對所述第二浸出礦漿進行液固分離處理，得到初級第二上清液和第二濃密底流；

對所述初級第二上清液依次進行過濾處理、精濾處理和冷卻處理，得到第二上清液。

5.根據權利要求1所述的含銅高的鎳硫處理方法，其特征在于，在所述對所述第二上清液進行低銅萃取處理，得到第一萃余液和低富銅液的過程中，

所述低銅萃取采用三級低銅萃取、兩級洗滌和三級反萃取的萃取方式；

其中，在所述三級低銅萃取中，每級低銅萃取的混合時間為2～4min，澄清速率為4～4.5m³/m².h；

所述第一萃余液中銅離子的濃度為10g/l。

6.根據權利要求1所述的含銅高的鎳硫處理方法，其特征在于，對所述第二濃密底流進行第一段加壓浸出處理，得到第三上清液和第三濃密底流包括：

對所述第二濃密底流進行第一段加壓浸出處理，第一段加壓浸出礦漿；

對所述第一段加壓浸出礦漿依次進行閃蒸分離和液固分離，得到第三上清液和第三濃密底流。

7.根據權利要求1所述的含銅高的鎳硫處理方法，其特征在于，對所述第三濃密底流進行第二段加壓浸出處理，得到第四上清液和鐵渣包括：

對所述第三濃密底流進行第二段加壓浸出處理，得到第二加壓浸出礦漿；

對所述第二加壓浸出礦漿依次進行閃蒸分離和液固分離，得到第四上清液和鐵渣。

8.根據權利要求1所述的含銅高的鎳硫處理方法，其特征在于，在對所述第四上清液進行高銅萃取，得到電積液和第二萃余液的過程中，

對所述第四上清液依次進行過濾、冷卻澄清和精濾后再進行高銅萃取處理，得到電積液和第二萃余液。