[發(fā)明專利]基于循環(huán)刻蝕工藝的石英微透鏡制備方法及石英微透鏡在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210994615.5 | 申請日： | 2022-08-18 |
| 公開（公告）號： | CN115343788A | 公開（公告）日： | 2022-11-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉丹;程秀蘭;烏李瑛;劉民;張笛;瞿敏妮;權(quán)雪玲 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海交通大學(xué) |
| 主分類號： | G02B3/00 | 分類號： | G02B3/00;G03F7/00;G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海漢聲知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31236 | 代理人： | 胡晶 |
| 地址： | 200240 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 基于 循環(huán) 刻蝕 工藝 石英 透鏡 制備 方法 | ||
1.一種基于循環(huán)刻蝕工藝的石英微透鏡制備方法，其特征在于，包括：
光刻步驟：在石英表面上制備光刻膠柱體；
熱熔步驟：對帶有光刻膠柱體的石英表面進(jìn)行熱熔處理，將光刻膠柱體轉(zhuǎn)變?yōu)楣饪棠z透鏡體；
刻蝕步驟：對石英表面的光刻膠透鏡體進(jìn)行循環(huán)刻蝕處理，直至光刻膠完全消失，從而獲得石英微透鏡陣列。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于循環(huán)刻蝕工藝的石英微透鏡制備方法，其特征在于，所述光刻步驟采用：在石英表面上采用光刻曝光工藝制備光刻膠柱體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于循環(huán)刻蝕工藝的石英微透鏡制備方法，其特征在于，所述光刻膠柱體直徑為10～400μm，高度為2～10μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于循環(huán)刻蝕工藝的石英微透鏡制備方法，其特征在于，所述熱熔步驟采用：將帶有光刻膠柱體的石英放置于熱板上，經(jīng)過預(yù)設(shè)溫度和預(yù)設(shè)時間的熱熔處理后，圓柱狀的光刻膠柱體變?yōu)榍蚬谛臀⑼哥R形狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于循環(huán)刻蝕工藝的石英微透鏡制備方法，其特征在于，熱熔溫度為150～180℃，熱熔時間為5～10min。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于循環(huán)刻蝕工藝的石英微透鏡制備方法，其特征在于，所述刻蝕步驟采用：采用電感耦合等離子體增強(qiáng)刻蝕系統(tǒng)，調(diào)節(jié)包括刻蝕氣體流量、ICP功率、RF功率、氣壓以及溫度參數(shù)，通過控制刻蝕時間確保光刻膠完全刻蝕。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于循環(huán)刻蝕工藝的石英微透鏡制備方法，其特征在于，刻蝕氣體為CHF3和CF4。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基于循環(huán)刻蝕工藝的石英微透鏡制備方法，其特征在于，當(dāng)刻蝕氣體為CHF3和CF4時，總流量25sccm，ICP功率為600～800W，RF功率為150～300W，刻蝕腔室壓力為0.4～0.6Pa，溫度設(shè)置為5℃。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于循環(huán)刻蝕工藝的石英微透鏡制備方法，其特征在于，采用每刻蝕60s暫停30～60s的循環(huán)刻蝕法對光刻膠透鏡體進(jìn)行刻蝕，直至光刻膠完全消失，實(shí)現(xiàn)光刻膠透鏡至石英透鏡的轉(zhuǎn)移。
10.一種石英微透鏡，其特征在于，采用權(quán)利要求1至9任意一項權(quán)利要求所述的基于循環(huán)刻蝕工藝的石英微透鏡制備方法制備得到。
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