[發明專利]場地散射不確定度仿真模型構建方法、裝置、設備及介質在審
| 申請號: | 202210984989.9 | 申請日: | 2022-08-17 |
| 公開(公告)號: | CN115524540A | 公開(公告)日: | 2022-12-27 |
| 發明(設計)人: | 沈倫玉;李華軍;徐文杰;魏平;吳杰;趙虔 | 申請(專利權)人: | 成都飛機工業(集團)有限責任公司 |
| 主分類號: | G01R29/10 | 分類號: | G01R29/10 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 楊子亮 |
| 地址: | 610092 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 場地 散射 不確定 仿真 模型 構建 方法 裝置 設備 介質 | ||
1.一種場地散射不確定度仿真模型構建方法,其特征在于,所述方法包括:
基于弗里斯傳輸公式和傳輸模型,獲取待測天線與探頭間的直達波的信號插損模型;其中,所述待測天線用于接收電磁波,所述探頭用于發送電磁波,所述直達波為未經反射從所述探頭處直接到達所述待測天線處的電磁波;所述傳輸模型為未經反射從所述探頭處直接到達所述待測天線處的電磁波功率的傳輸模型;
基于角度參數、反射率參數和所述直達波的信號插損模型,構建所述待測天線與所述探頭間的反射波的信號插損模型;其中,所述角度參數為在所述探頭和所述待測天線的增益中引入的角度參數,所述反射率參數為電磁波入射到吸波材料后的反射率參數;
基于所述直達波的信號插損模型和所述反射波的信號插損模型,構建所述反射波與所述直達波的比值模型;
基于未經場地反射時的測量結果和所述比值模型,獲得經場地反射時的測量結果;
基于所述未經場地反射時的測量結果和所述經場地反射時的測量結果,獲得不確定度分量;其中,所述不確定度分量為由場地反射引入的不確定度分量。
2.如權利要求1所述的場地散射不確定度仿真模型構建方法,其特征在于,所述基于所述未經場地反射時的測量結果和所述經場地反射時的測量結果,獲得不確定度分量,包括:
獲得所述未經場地反射時的測量結果的遠場方向圖和所述經場地反射時的測量結果的遠場方向圖;
基于所述未經場地反射時的測量結果的遠場方向圖和所述經場地反射時的測量結果的遠場方向圖,獲得所述不確定度分量。
3.如權利要求1所述的場地散射不確定度仿真模型構建方法,其特征在于,所述基于未經場地反射時的測量結果和所述比值模型,獲得經場地反射時的測量結果,包括:
通過如下關系式,獲得經場地反射時的測量結果:
S'21=S21(θ,φ)×(1+εabsrb)
其中,S'21表示經場地反射時的測量結果,S21為未經場地反射時的測量結果,φ表示電磁波的入射角,θ表示探頭的所處角度,εabsrb表示比值模型。
4.如權利要求3所述的場地散射不確定度仿真模型構建方法,其特征在于,所述基于所述直達波的信號插損模型和所述反射波的信號插損模型,構建所述反射波與所述直達波的比值模型,包括:
通過如下關系式,獲得所述反射波與所述直達波的比值模型:
其中,表示直達波的信號插損模型,表示反射波的信號插損模型,dR表示電磁波從探頭出發經吸波材料一次反射后到達待測天線的距離,dD表示待測天線與探頭間的直線距離,Γ(φ)表示電磁波以入射角φ入射到吸波材料后的反射率,Gprobe(θ”)表示探頭在θ”角度方向的增益;表示電磁波經反射一次后到達待測天線時,在θ'角度方向的增益;Gprobe(θ”=0)表示探頭視軸方向的增益;表示電磁波直接到達待測天線時,待測天線所在方向的增益。
5.如權利要求4所述的場地散射不確定度仿真模型構建方法,其特征在于,所述基于角度參數、反射率參數和所述直達波的信號插損模型,構建所述待測天線與所述探頭間的反射波的信號插損模型,包括:
通過如下關系式,獲得所述反射波的信號插損模型:
其中,λ表示電磁波的波長。
6.如權利要求4所述的場地散射不確定度仿真模型構建方法,其特征在于,所述基于弗里斯傳輸公式和傳輸模型,獲取待測天線與探頭間的直達波的信號插損模型,包括:
通過如下關系式,獲得所述直達波的信號插損模型:
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