[發(fā)明專利]通過雙柱面透鏡的光子集成電路到玻璃襯底的對準(zhǔn)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210973776.6 | 申請日: | 2022-08-15 |
| 公開(公告)號: | CN115808751A | 公開(公告)日: | 2023-03-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉昌華;P·塔達(dá)勇;J·赫克;S·奈卡恩蒂 | 申請(專利權(quán))人: | 英特爾公司 |
| 主分類號: | G02B6/42 | 分類號: | G02B6/42;G02B6/43 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 林金朝 |
| 地址: | 美國加*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 通過 柱面 透鏡 光子 集成電路 玻璃 襯底 對準(zhǔn) | ||
一種電子設(shè)備包括光子集成電路(PIC),該P(yáng)IC包括至少一個光學(xué)信號源、被設(shè)置在PIC上以在基本上與PIC的第一表面平行的方向上引導(dǎo)由至少一個光學(xué)信號源發(fā)射的光的發(fā)射透鏡、以及被設(shè)置在PIC上并且具有四分之一圓柱形狀的彎曲表面的光學(xué)元件,該彎曲表面被配置為在基本上與PIC的第一表面正交的方向上引導(dǎo)從發(fā)射透鏡發(fā)射的光。
技術(shù)領(lǐng)域
實施例涉及光子集成電路(PIC)。一些實施例涉及將光學(xué)信號從PIC耦合到波導(dǎo)的技術(shù)。
背景技術(shù)
光子集成電路(PIC)可以生成光學(xué)信號。將光學(xué)信號光學(xué)耦合到波導(dǎo)允許將光學(xué)信號用于可以用作電子設(shè)備之間的高速接口的光學(xué)接口中。波導(dǎo)可以在玻璃襯底中制造,但是對于PIC和具有波導(dǎo)的玻璃襯底之間的光學(xué)耦合還沒有一種已被良好建立的解決方案。
附圖說明
圖1是根據(jù)一些實施例的具有光子集成電路(PIC)的電子設(shè)備的示例的視圖;
圖2是根據(jù)一些實施例的電子設(shè)備的光學(xué)元件的視圖;
圖3是根據(jù)一些實施例的安裝在玻璃襯底上的電子設(shè)備的示例的視圖;
圖4是根據(jù)一些實施例的安裝在玻璃襯底上的電子設(shè)備的另一示例的視圖;
圖5是根據(jù)一些實施例的具有多個光學(xué)通道的電子設(shè)備的示例的部分的視圖;
圖6是根據(jù)一些實施例的制造電子設(shè)備的方法的流程圖;
圖7示出了根據(jù)一些實施例的系統(tǒng)級圖。
具體實施方式
以下描述和附圖充分地說明了特定實施例,以使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠?qū)嵤┧鼈儭F渌麑嵤├梢越Y(jié)合結(jié)構(gòu)、邏輯、電氣、過程以及其他變化。一些實施例的部分和特征可以被包括在其他實施例的部分和特征中,或者替代其他實施例的部分和特征。權(quán)利要求中闡述的實施例包含那些權(quán)利要求的所有可用等同方案。
玻璃襯底可潛在地用作波導(dǎo)介質(zhì),以在光子組件中承載光學(xué)信號或?qū)⒐庾釉O(shè)備集成到常規(guī)電子組件中。然而,使用具有波導(dǎo)的玻璃襯底沒有被廣泛采用,并且當(dāng)前對于光子集成電路(PIC)和使用玻璃襯底形成的波導(dǎo)之間的光學(xué)耦合還沒有已被良好建立的解決方案。PIC和波導(dǎo)之間的光學(xué)耦合應(yīng)當(dāng)具有低信號損耗。通過在PIC和波導(dǎo)之間具有優(yōu)化的對準(zhǔn),可以減少光學(xué)信號損耗。但是PIC和波導(dǎo)之間的光學(xué)耦合的對準(zhǔn)不應(yīng)該是復(fù)雜的。用于PIC與波導(dǎo)之間的光學(xué)耦合的對準(zhǔn)的相對寬松的公差可以允許對準(zhǔn)是被動的(passive)。這將降低包括光子設(shè)備的組件的復(fù)雜性。
圖1是包括PIC 104的電子設(shè)備102的示例的視圖。PIC 104包括至少一個光學(xué)信號源106或其他光學(xué)信號介質(zhì)(例如,波導(dǎo))。光學(xué)信號源106可以是激光二極管。電子設(shè)備102包括發(fā)射透鏡108和另一光學(xué)元件110。發(fā)射透鏡108在圖1中從側(cè)面示出。在一些示例中,發(fā)射透鏡108具有弧形形狀。在一些示例中,發(fā)射透鏡108具有與PIC 104的頂表面正交的正交半圓柱形狀,如圖5中可見。發(fā)射透鏡108可以與PIC 104一起制造,或者發(fā)射透鏡108可以在制造PIC 104之后添加到PIC 104。發(fā)射透鏡108被示出為與光學(xué)信號源106相鄰,但是可以在光學(xué)信號源106和發(fā)射透鏡108之間布置另一波導(dǎo)。
發(fā)射透鏡108從光學(xué)信號源接收光,并將光引向光學(xué)元件110。箭頭展示發(fā)射透鏡108擴(kuò)展來自PIC 104的光學(xué)信號的寬度。箭頭還展示光基本上在平行于PIC 104的頂表面的方向上被發(fā)送到光學(xué)元件110(例如,在平行的幾度內(nèi)),盡管光束在擴(kuò)展。
PIC 104可以包括在PIC 104的頂表面和PIC 104的底表面中間的高度處的隱埋絕緣體層118(例如,隱埋氧化物或BOX層)。PIC 104的光學(xué)結(jié)構(gòu)可以制造為抵靠隱埋絕緣體層118。發(fā)射透鏡108布置在隱埋氧化物層118上方的PIC上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于英特爾公司,未經(jīng)英特爾公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210973776.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 單光子探測器用于分辨光子數(shù)的測量方法
- 利用光子調(diào)控增強(qiáng)光子計數(shù)激光雷達(dá)探測靈敏度的方法和系統(tǒng)
- 光子電路設(shè)計系統(tǒng)和計算機(jī)可讀介質(zhì)
- 測量熒光量子產(chǎn)率的方法及裝置
- 用于光子掃描裝置的脈寬調(diào)制
- 用于使用糾纏光子在量子密鑰分發(fā)系統(tǒng)中空脈沖減輕的方法和系統(tǒng)
- 單光子激光雷達(dá)水下光子位移校正、測深方法及裝置
- 單光子激光雷達(dá)水下光子位移校正、測深方法及裝置
- 單光子激光雷達(dá)水下光子位移校正、測深方法及裝置
- 光子半導(dǎo)體裝置及其制造方法





