[發(fā)明專利]基于ADMM網(wǎng)絡(luò)的反射式熒光分子斷層成像方法及系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210972936.5 | 申請(qǐng)日: | 2022-08-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN115311380A | 公開(公告)日: | 2022-11-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄧勇;劉鍇賢;蔣宇軒;李文松 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華中科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06T11/00 | 分類號(hào): | G06T11/00 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務(wù)所 11569 | 代理人: | 劉芳 |
| 地址: | 430070 湖北*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 admm 網(wǎng)絡(luò) 反射 熒光 分子 斷層 成像 方法 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明公開一種基于ADMM網(wǎng)絡(luò)的反射式熒光分子斷層成像方法及系統(tǒng),涉及分子影像技術(shù)領(lǐng)域,方法包括:根據(jù)待重建反射熒光分布,利用解耦合熒光蒙特卡羅模型構(gòu)建正向矩陣和訓(xùn)練數(shù)據(jù)集;利用正向矩陣構(gòu)建待優(yōu)化目標(biāo)函數(shù);對(duì)待優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)進(jìn)行L1正則化處理;利用交替方向乘子法將處理后的待優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)分解成三個(gè)子問題;對(duì)三個(gè)子問題參數(shù)化得到參數(shù)化ADMM迭代網(wǎng)絡(luò);利用訓(xùn)練數(shù)據(jù)集和損失函數(shù)對(duì)參數(shù)化ADMM迭代網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行訓(xùn)練和優(yōu)化,得到ADMM網(wǎng)絡(luò);將待重建反射熒光分布輸入ADMM網(wǎng)絡(luò)中,得到重建的熒光團(tuán)分布。本發(fā)明能提高反射式FMT圖像重建質(zhì)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及分子影像技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種基于ADMM網(wǎng)絡(luò)的反射式熒光分子斷層成像方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)
熒光分子斷層成像(Fluorescence Molecular Tomography,F(xiàn)MT)是一種基于擴(kuò)散光子的成像技術(shù)。傳統(tǒng)的FMT通常是透射式成像,因此當(dāng)激發(fā)光或熒光無法穿透整個(gè)樣本時(shí),傳統(tǒng)透射式FMT難以對(duì)樣本成像。而反射式FMT僅利用反射光子成像,基本不受樣本尺寸的限制。但是,由于反射式FMT的源-探數(shù)量大,掃描角度和探測(cè)角度單一,導(dǎo)致不同光源對(duì)應(yīng)的熒光分布高度相似,因此反射式FMT逆向問題具有高度病態(tài)性,這意味著傳統(tǒng)的基于數(shù)學(xué)迭代求解的重建方法其重建結(jié)果偽影多,成像質(zhì)量差。因此,如何提高反射式FMT圖像重建質(zhì)量對(duì)反射式FMT具有重大意義。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種基于ADMM網(wǎng)絡(luò)的反射式熒光分子斷層成像方法及系統(tǒng),能夠提高反射式FMT圖像重建質(zhì)量。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了如下方案:
一種基于ADMM網(wǎng)絡(luò)的反射式熒光分子斷層成像方法,所述方法包括:
獲取待重建激發(fā)光源掃描面的反射熒光分布;
根據(jù)所述待重建激發(fā)光源掃描面的反射熒光分布,利用解耦合熒光蒙特卡羅模型構(gòu)建正向矩陣以及所述正向矩陣對(duì)應(yīng)的訓(xùn)練數(shù)據(jù)集;所述訓(xùn)練數(shù)據(jù)集包括不同位置處的真實(shí)熒光團(tuán)分布以及不同位置處的所述真實(shí)熒光團(tuán)分布對(duì)應(yīng)的激發(fā)光源掃描面的反射熒光分布;
利用所述正向矩陣構(gòu)建待優(yōu)化目標(biāo)函數(shù);
對(duì)所述待優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)進(jìn)行L1正則化處理,得到處理后的待優(yōu)化目標(biāo)函數(shù);
利用交替方向乘子法將所述處理后的待優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)分解成三個(gè)子問題;所述三個(gè)子問題包括第一子問題、第二子問題和第三子問題;
對(duì)所述三個(gè)子問題參數(shù)化得到參數(shù)化ADMM迭代網(wǎng)絡(luò);
利用所述訓(xùn)練數(shù)據(jù)集和損失函數(shù)對(duì)所述參數(shù)化ADMM迭代網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行訓(xùn)練和優(yōu)化,得到ADMM網(wǎng)絡(luò);
將所述待重建激發(fā)光源掃描面的反射熒光分布輸入所述ADMM網(wǎng)絡(luò)中,得到所述待重建激發(fā)光源掃描面的反射熒光分布對(duì)應(yīng)的熒光團(tuán)分布。
可選地,所述處理后的待優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)為:
式中,Y為激發(fā)光源掃描面的反射熒光分布;A為正向矩陣;x為激發(fā)光源掃描面的反射熒光分布對(duì)應(yīng)的熒光團(tuán)分布;λ為正則化參數(shù);W為權(quán)重矩陣;為Ax-Y的L2范數(shù)的平方,||Wx||1為Wx的L1范數(shù);E(x)為待優(yōu)化目標(biāo)函數(shù),E(x)最小時(shí)對(duì)應(yīng)的x為重建的熒光團(tuán)分布。
可選地,所述對(duì)所述三個(gè)子問題參數(shù)化得到參數(shù)化ADMM迭代網(wǎng)絡(luò),具體包括:
采用第一三維卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)作為所述第一子問題的初始化算子,采用第二三維卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)作為所述第二子問題的求解算子,采用第三三維卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)作為所述第三子問題的更新算子,得到參數(shù)化ADMM迭代網(wǎng)絡(luò)。
可選地,所述參數(shù)化ADMM迭代網(wǎng)絡(luò)為:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于華中科技大學(xué),未經(jīng)華中科技大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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