[發(fā)明專利]一種低磁場(chǎng)下高剪切屈服應(yīng)力的耐輻照磁流變液

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210971006.8
• 申請(qǐng)日: 2022-08-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN115295269A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-11-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 余淼;李士煦;綦松;浮潔
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 重慶大學(xué)
• 主分類號(hào): H01F1/44
• 分類號(hào): H01F1/44;H01F41/00
• 代理公司: 北京海虹嘉誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11129
• 代理人: 呂小琴

1.一種低磁場(chǎng)下高剪切屈服應(yīng)力的耐輻照磁流變液，其特征在于：所述磁流變液原料按重量份包括：磁性微米顆粒60～70份、磁性耐輻照增強(qiáng)顆粒1～5份、基載液15～20份、分散劑1～5份、防沉劑1～5份、潤(rùn)滑劑1～5份、觸變劑0.2～1份、表面活性劑1～5份、耐輻照劑0.1～0.5份、抗板結(jié)劑0.01～0.05份，所述磁性耐輻照增強(qiáng)顆粒由無(wú)機(jī)耐輻照增強(qiáng)顆粒材料通過(guò)球磨工藝對(duì)磁性納米顆粒進(jìn)行包覆制得。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低磁場(chǎng)下高剪切屈服應(yīng)力的耐輻照磁流變液，其特征在于：所述磁性耐輻照增強(qiáng)顆粒的制備方法包括以下步驟：

將熱固性粘結(jié)劑加熱至溫度為80～100℃后調(diào)整溫度至40～60℃，緩慢加入丙酮稀釋并加入磁性納米顆粒與無(wú)機(jī)耐輻照增強(qiáng)顆粒攪拌均勻，在磁場(chǎng)作用下加熱至溫度為70～90℃下固化，固化完成后粉碎成顆粒，制得磁性耐輻照增強(qiáng)顆粒。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低磁場(chǎng)下高剪切屈服應(yīng)力的耐輻照磁流變液，其特征在于：所述無(wú)機(jī)耐輻照顆粒與磁性納米顆粒質(zhì)量比為1：1。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的低磁場(chǎng)下高剪切屈服應(yīng)力的耐輻照磁流變液，其特征在于：所述磁性納米顆粒和磁性微米顆粒均為為含鐵、含鈷、含鎳及其合金中的至少一種，所述磁性納米顆粒粒徑在1-500納米，所述磁性微米顆粒粒徑在0.5-500微米，所述無(wú)機(jī)耐輻照顆粒為鎢酸鉛、氧化鉛、四氧化三鉛、氧化鉍、氧化鈰、硫酸鋇、二苯乙炔、二苯甲酮中的一種或兩種以上混合物，所述熱固性粘結(jié)劑為聚酰亞胺樹(shù)脂液。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的低磁場(chǎng)下高剪切屈服應(yīng)力的耐輻照磁流變液，其特征在于：所述磁性納米顆粒粒徑為2-10納米，所述磁性微米顆粒粒徑為1-10微米。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低磁場(chǎng)下高剪切屈服應(yīng)力的耐輻照磁流變液，其特征在于：所述基載液為去離子水、苯甲基硅油、礦物油、石蠟油、合成烴類油、醇類有機(jī)物、硅氧烷共聚物、高溫導(dǎo)熱油、齒輪油、液壓油、植物油、變壓器油、基礎(chǔ)油中的一種或兩種以上的混合物；所述分散劑為石蠟類、脂肪酸類、脂肪族酰胺類、酯類、硬脂酸鹽、磺酸鹽、金屬皂類中的一種或兩種以上混合物。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的低磁場(chǎng)下高剪切屈服應(yīng)力的耐輻照磁流變液，其特征在于：所述防沉劑為聚酯類有機(jī)溶劑、改性聚脲N-甲基吡咯烷酮溶液、蓖麻油衍生物中的一種或兩種以上混合物；所述的潤(rùn)滑劑為固體潤(rùn)滑劑、液體潤(rùn)滑劑中的一種或兩種以上混合物，所述固體潤(rùn)滑劑為二硫化鉬、石墨、氮化硼、二硒化鈮中的一種或兩種以上混合物，所述液體潤(rùn)滑劑為機(jī)械油、蓖麻油、牛脂、聚醚類有機(jī)溶劑、多元醇酯類有機(jī)溶劑中的一種或兩種以上混合物。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的低磁場(chǎng)下高剪切屈服應(yīng)力的耐輻照磁流變液，其特征在于：所述的觸變劑為納米二氧化硅、硅藻土、有機(jī)膨潤(rùn)土、無(wú)機(jī)膨潤(rùn)土、聚烯烴蠟微粒和聚脂肪酸酰胺蠟中的一種或兩種以上混合物。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的低磁場(chǎng)下高剪切屈服應(yīng)力的耐輻照磁流變液，其特征在于：所述耐輻照劑為芳香族化合物聯(lián)苯、萘、菲中的至少一種；所述抗板結(jié)劑為磷酸三鈣。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的低磁場(chǎng)下高剪切屈服應(yīng)力的耐輻照磁流變液，其特征在于：所述表面活性劑為油酸、硬脂酸、偶聯(lián)劑、十二烷基苯磺酸鈉、烷基酚聚氧乙烯醚乳化劑、聚醚多元醇、失水山梨醇脂肪酸酯乳化劑和聚氧乙烯山梨醇酐脂肪酸酯乳化劑中的一種或兩種以上混合物。