[發(fā)明專利]一種用于自潤(rùn)滑沖頭的金屬基材潤(rùn)滑劑及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210969715.2
• 申請(qǐng)日: 2022-08-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN115305138B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-06-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王家霖;湯鑫超;王聲華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廈門(mén)市佳嘉達(dá)機(jī)械有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C10M169/04
• 分類(lèi)號(hào): C10M169/04;C10M177/00;C10N40/24;C10N30/06
• 代理公司: 廈門(mén)原創(chuàng)聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35293
• 代理人: 黃偉敏

1.一種用于自潤(rùn)滑沖頭的金屬基材潤(rùn)滑劑的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1，提供低熔點(diǎn)金屬物質(zhì)，并將所述低熔點(diǎn)金屬物質(zhì)加熱熔融，其中，所述低熔點(diǎn)金屬物質(zhì)的熔點(diǎn)高于襯套的儲(chǔ)存溫度，并低于沖頭的工作溫度，所述沖頭的實(shí)際溫度在185℃~210℃，所述低熔點(diǎn)金屬物質(zhì)的熔點(diǎn)在80℃~170℃；

S2，提供基礎(chǔ)潤(rùn)滑粉末，并將所述基礎(chǔ)潤(rùn)滑粉末分散于熔融的低熔點(diǎn)合金中，然后冷卻得到金屬基材潤(rùn)滑劑。

2.如權(quán)利要求1所述的用于自潤(rùn)滑沖頭的金屬基材潤(rùn)滑劑的制備方法，其特征在于，所述低熔點(diǎn)金屬物質(zhì)占所述金屬基材潤(rùn)滑劑總重量的80~97wt％。

3.如權(quán)利要求1所述的用于自潤(rùn)滑沖頭的金屬基材潤(rùn)滑劑的制備方法，其特征在于，所述基礎(chǔ)潤(rùn)滑粉末的粒徑小于等于50μm。

4.如權(quán)利要求1所述的用于自潤(rùn)滑沖頭的金屬基材潤(rùn)滑劑的制備方法，其特征在于，所述基礎(chǔ)潤(rùn)滑粉末的粒徑大于等于5μm小于等于40μm。

5.如權(quán)利要求1所述的用于自潤(rùn)滑沖頭的金屬基材潤(rùn)滑劑的制備方法，其特征在于，所述低熔點(diǎn)金屬物質(zhì)為銫、銦、鉍、鉛、錫，以及鎵合金、秘基合金、鉛基合金、鉛錫銻銅中的至少一種或兩種以上的混合物。

6.如權(quán)利要求1所述的用于自潤(rùn)滑沖頭的金屬基材潤(rùn)滑劑的制備方法，其特征在于，所述潤(rùn)滑粉末為石墨、碳納米管、石墨烯、氟化石墨、二硫化鉬、二硒化鈮、氮化硼中的至少一種或兩種以上的混合物。

7.一種用于自潤(rùn)滑沖頭的金屬基材潤(rùn)滑劑，其特征在于，包括低熔點(diǎn)金屬物質(zhì)以及分散于所述低熔點(diǎn)金屬物質(zhì)中的基礎(chǔ)潤(rùn)滑粉末，其中，所述低熔點(diǎn)金屬物質(zhì)的熔點(diǎn)高于襯套的儲(chǔ)存溫度，并低于沖頭的工作溫度，所述沖頭的實(shí)際溫度在185℃~210℃，所述低熔點(diǎn)金屬物質(zhì)的熔點(diǎn)在80℃~170℃。

8.如權(quán)利要求7所述的用于自潤(rùn)滑沖頭的金屬基材潤(rùn)滑劑，其特征在于，所述基礎(chǔ)潤(rùn)滑粉末的粒徑小于等于50μm。

9.如權(quán)利要求7所述的用于自潤(rùn)滑沖頭的金屬基材潤(rùn)滑劑，其特征在于，所述低熔點(diǎn)金屬物質(zhì)占所述金屬基材潤(rùn)滑劑總重量的80~97wt％。

10.如權(quán)利要求7所述的用于自潤(rùn)滑沖頭的金屬基材潤(rùn)滑劑，其特征在于，所述低熔點(diǎn)金屬物質(zhì)為銫、銦、鉍、鉛、錫，以及鎵合金、秘基合金、鉛基合金、鉛錫銻銅中的至少一種或兩種以上的混合物；所述潤(rùn)滑粉末為石墨、碳納米管、石墨烯、氟化石墨、二硫化鉬、二硒化鈮、氮化硼中的至少一種或兩種以上的混合物。