[發(fā)明專利]含磷改性劑改性氧化鋯及其制備方法和光學(xué)膜

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210969379.1
• 申請日: 2022-08-12
• 公開（公告）號: CN115197587A
• 公開（公告）日: 2022-10-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱恒;張棟;聶麗萍;馬海洋
• 申請（專利權(quán)）人: 山東國瓷功能材料股份有限公司
• 主分類號: C09C1/00
• 分類號: C09C1/00;C09C3/08;C09D7/62;C09D4/02;C08J7/04;G02B1/10;C08L67/02
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 張金銘

本發(fā)明提供了一種含磷改性劑改性氧化鋯及其制備方法和光學(xué)膜，涉及光學(xué)材料技術(shù)領(lǐng)域。該含磷改性劑改性氧化鋯是由氧化鋯表面包覆有含磷改性劑；含磷改性劑為(R₁O)_3?nPO(OH)_n和/或(R₁)_3?nPO(OH)_n，n為1或2；其中，R₁組成的元素包括第一元素和任選的第二元素；所述第一元素為C，所述第二元素為N、O和S中的至少一種；所述R₁中C、N和O的總原子數(shù)≥8，且R₁中包括低極性基團和雙鍵基團。利用P?O鍵進行結(jié)合接枝不同基團得到表面包覆的氧化鋯，接枝更牢靠，解決后期涂覆霧度上升的關(guān)鍵問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光學(xué)材料技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種含磷改性劑改性氧化鋯及其制備方法和光學(xué)膜。

背景技術(shù)

由于氧化鋯顆粒本身親水性比較強，所以要想使氧化鋯均勻的分散在有機體系中需對氧化鋯表面進行充分改性，才能使氧化鋯顆粒在酯溶性的有機溶劑或單體樹脂中維持單分散狀態(tài)。

盡管已有一些有機體系的氧化鋯分散液被成功制備，其絕大部分是采用的羧酸類化合物或偶聯(lián)劑類(如硅烷偶聯(lián)劑、鈦酸酯偶聯(lián)劑、鋁酸酯偶聯(lián)劑等)或其組合進行表面改性，通過與氧化鋯表面羥基形成C-O鍵或Si-O鍵連接有機基團來完成的。這種制備方法在前期制備以及使用時不會有什么問題出現(xiàn)，但在分散液放置過程中尤其是后期涂覆使用后，例如應(yīng)用在顯示屏內(nèi)的增亮涂層，在環(huán)境中氧氣和水分等多種因素的影響下，C-O或Si-O等鍵容易被破壞，造成粉體表面接枝的有機物脫落導(dǎo)致涂層或薄膜的霧度提高，影響屏幕的成像效果。同時納米顆粒表面接枝的有機基團極性不能太高，極性高的有機基團后期分散液放置或分散液涂覆后納米顆粒表面由于極性高容易吸附水分子也會造成涂層或薄膜的霧度上升，影響后期使用效果。

有鑒于此，特提出本發(fā)明。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的之一在于提供一種含磷改性劑改性氧化鋯，以緩解現(xiàn)有技術(shù)中羧酸類化合物或偶聯(lián)劑類改性的氧化鋯制成的分散液不穩(wěn)定，引起光學(xué)膜霧度升高的技術(shù)問題。

為了實現(xiàn)本發(fā)明的上述目的，特采用以下技術(shù)方案：

本發(fā)明第一方面提供了一種含磷改性劑改性氧化鋯，氧化鋯表面包覆有含磷改性劑；

所述含磷改性劑為(R₁O)_3-nPO(OH)_n和/或(R₁)_3-nPO(OH)_n，n為1或2；

其中，R₁組成的元素包括第一元素和任選的第二元素；

所述第一元素為C，所述第二元素為N、O和S中的至少一種；

所述R₁中C、N和O的總原子數(shù)≥8，且R₁中包括低極性基團和雙鍵基團。

可選地，所述低極性基團包括甲基、亞甲基、苯環(huán)、酰氧基、雙鍵和酯基中的至少一種。優(yōu)選地，所述氧化鋯的粒徑為1nm-30nm，優(yōu)選為1nm-10nm。

本發(fā)明的第二方面提供了含磷改性劑改性氧化鋯的制備方法，在氧化鋯的有機溶劑相溶液中加入含磷改性劑，回流攪拌，反應(yīng)得到含磷改性劑改性氧化鋯。

可選地，所述回流攪拌的溫度為50℃-150℃。

優(yōu)選地，所述含磷改性劑的添加量為氧化鋯質(zhì)量的1wt.％-30wt.％。

優(yōu)選地，反應(yīng)的時間為0.5h-168h。

可選地，還包括在反應(yīng)后干燥得到含磷改性劑改性氧化鋯。