[發(fā)明專利]熔渣除去裝置以及鍍敷設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210964719.1
• 申請日: 2022-08-11
• 公開（公告）號: CN116065111A
• 公開（公告）日: 2023-05-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 永井孝典
• 申請（專利權(quán)）人: 普銳特冶金技術(shù)日本有限公司
• 主分類號: C23C2/02
• 分類號: C23C2/02;C23C2/40;C21D1/26;C21D1/74;C21D9/56
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 焦秋晨

1.一種熔渣除去裝置，其用于將具有浸漬于熔融金屬鍍敷浴的下端部的爐鼻內(nèi)的熔渣除去，其中，

所述熔渣除去裝置具備承接盤部以及中間壁，

所述承接盤部包括：內(nèi)側(cè)壁，其以面向爐鼻的下端部中的所述爐鼻的內(nèi)壁面的方式遍及一周而設(shè)置；及外側(cè)壁，其以面向所述爐鼻的所述下端部中的所述爐鼻的外壁面的方式遍及一周而設(shè)置，且具有位于比所述內(nèi)側(cè)壁的上端高的位置的上端，且所述承接盤部能夠接收所述爐鼻的所述下端部，

所述中間壁在所述內(nèi)側(cè)壁與所述外側(cè)壁之間從所述承接盤部的底面朝向上方延伸，且具有位于比所述內(nèi)側(cè)壁的所述上端低的位置的上端，

所述內(nèi)側(cè)壁、所述中間壁以及所述底面的至少一部分劃定用于貯存熔融金屬的貯存部，

所述熔渣除去裝置具備排出口，所述排出口用于將經(jīng)由所述中間壁的上端從所述貯存部溢出的熔融金屬朝向比所述底面靠下方的位置排出。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔渣除去裝置，其中，

所述中間壁具有分別連接于所述外側(cè)壁的兩端。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔渣除去裝置，其中，

所述中間壁在所述內(nèi)側(cè)壁與所述外側(cè)壁之間遍及一周而形成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的熔渣除去裝置，其中，

所述排出口設(shè)置于所述承接盤部的所述底面。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的熔渣除去裝置，其中，

所述中間壁包括具有管狀形的管部，

所述管部具有形成所述排出口的上端開口。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的熔渣除去裝置，其中，

所述熔渣除去裝置構(gòu)成為在所述內(nèi)側(cè)壁與所述中間壁之間接收所述爐鼻的所述下端部的至少一部分。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的熔渣除去裝置，其中，

所述熔渣除去裝置構(gòu)成為在所述外側(cè)壁與所述中間壁之間接收所述爐鼻的所述下端部的至少一部分。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的熔渣除去裝置，其中，

所述熔渣除去裝置具備：

螺桿型或壓出槳型的泵，其設(shè)置于經(jīng)由所述排出口從所述承接盤部排出的所述熔融金屬的排出流路；以及

馬達，其設(shè)置于比所述排出口靠上方的位置，且用于驅(qū)動所述泵。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的熔渣除去裝置，其中，

所述熔渣除去裝置具備吸引泵，所述吸引泵構(gòu)成為對經(jīng)由所述排出口從所述承接盤部排出的所述熔融金屬的排出流路內(nèi)的所述熔融金屬進行吸引。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的熔渣除去裝置，其中，

所述熔渣除去裝置具備非活性氣體供給部，所述非活性氣體供給部構(gòu)成為向經(jīng)由所述排出口從所述承接盤部排出的所述熔融金屬的排出流路內(nèi)供給非活性氣體。

11.一種鍍敷設(shè)備，其中，

所述鍍敷設(shè)備具備：

鍍敷槽，其用于貯存熔融金屬；

爐鼻，其具有浸漬于所述鍍敷槽內(nèi)的所述熔融金屬的下端部；以及

權(quán)利要求1至10中任一項所述的熔渣除去裝置，其構(gòu)成為將所述爐鼻內(nèi)的熔渣除去。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的鍍敷設(shè)備，其中，

所述鍍敷設(shè)備具備用于使所述承接盤部至少在上下方向上移動的驅(qū)動部。

13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的鍍敷設(shè)備，其中，

所述鍍敷設(shè)備具備用于使所述承接盤部至少在所述爐鼻的前后方向上移動的驅(qū)動部。

14.根據(jù)權(quán)利要求11至13中任一項所述的鍍敷設(shè)備，其中，

所述鍍敷設(shè)備具備用于使所述承接盤部至少在所述爐鼻的寬度方向上移動的驅(qū)動部。

15.根據(jù)權(quán)利要求12至14中任一項所述的鍍敷設(shè)備，其中，

所述鍍敷設(shè)備具備：

液位檢測部，其用于檢測所述鍍敷槽內(nèi)的所述熔融金屬的液位；以及

控制部，其構(gòu)成為基于由所述液位檢測部檢測出的所述液位控制所述驅(qū)動部，以使所述內(nèi)側(cè)壁的上端與所述鍍敷槽內(nèi)的熔融金屬的液面在上下方向上的距離成為規(guī)定范圍內(nèi)。