[發明專利]帶雙預旋通道噴嘴的渦輪盤腔結構

在審

• 申請號: 202210960367.2
• 申請日: 2022-08-11
• 公開（公告）號: CN115142905A
• 公開（公告）日: 2022-10-04
• 發明（設計）人: 趙旭洋;張偉;王嘉俊;趙鴻琛;李冬青;張發生;藍吉兵;隋永楓
• 申請（專利權）人: 杭州汽輪機股份有限公司
• 主分類號: F01D9/02
• 分類號: F01D9/02;F01D9/06;F01D25/12
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 汪喆

1.一種帶雙預旋通道噴嘴的渦輪盤腔結構，其特征在于，包括由渦輪盤和靜子件圍設形成的渦輪盤腔和預旋噴嘴；

所述渦輪盤上設置有分流器，所述分流器位于所述渦輪盤腔內并將所述渦輪盤腔分隔為密封腔和冷卻腔，且所述密封腔的入口處設置有迷宮密封結構；

所述預旋噴嘴設置于所述渦輪盤腔的進氣口內，所述預旋噴嘴形成有進氣流道以及與所述進氣流道相連通的第一預旋通道和第二預旋通道；

所述第一預旋通道與所述冷卻腔相連通，所述第一預旋通道用于使流經的氣體產生與所述渦輪盤的轉動方向相同的切向速度；

所述第二預旋通道與所述密封腔相連通，所述第二預旋通道用于使流進的氣體產生與所述渦輪盤的轉動方向相反的切向速度。

2.根據權利要求1所述的帶雙預旋通道噴嘴的渦輪盤腔結構，其特征在于，所述預旋噴嘴呈與所述渦輪盤同軸設置的環形；

所述預旋噴嘴與所述靜子件相對的外環面上設置有裝配部，所述預旋噴嘴通過所述裝配部與所述靜子件固定連接。

3.根據權利要求2所述的帶雙預旋通道噴嘴的渦輪盤腔結構，其特征在于，所述預旋噴嘴與所述渦輪盤相對的內環面上設置有第一密封結構，所述第一密封結構用于對所述預旋噴嘴與所述渦輪盤之間的徑向間隙進行密封。

4.根據權利要求3所述的帶雙預旋通道噴嘴的渦輪盤腔結構，其特征在于，所述第一密封結構包括多個密封齒，多個所述密封齒沿所述預旋噴嘴的軸向方向并排設置。

5.根據權利要求2所述的帶雙預旋通道噴嘴的渦輪盤腔結構，其特征在于，所述預旋噴嘴朝向所述渦輪盤腔的內部的一端的端面為出氣端面，所述出氣端面與所述分流器的一端相對設置；

所述出氣端面于所述第一預旋通道和所述第二預旋通道的出氣口之間設置有第二密封結構，所述第二密封結構用于對所述預旋噴嘴與所述分流器之間的軸向間隙進行密封。

6.根據權利要求5所述的帶雙預旋通道噴嘴的渦輪盤腔結構，其特征在于，所述第二密封結構為密封刷；

或者，所述第二密封結構為單密封齒。

7.根據權利要求1所述的帶雙預旋通道噴嘴的渦輪盤腔結構，其特征在于，所述第一預旋通道內沿其周向間隔地設置有多個供氣體流通的第一流道；

多個所述第一流道分別與其所在位置處的子午面之間具有第一預定偏轉角度，每個所述第一流道由其進氣端至出氣端的偏轉方向與所述渦輪盤的旋轉方向相同；

所述第一流道為開設于所述預旋噴嘴的本體上的通孔；或者，

所述第一預旋通道內沿其周向間隔地設置有多個第一導流部，任意相鄰的兩個所述第一導流部之間形成所述第一流道。

8.根據權利要求7所述的帶雙預旋通道噴嘴的渦輪盤腔結構，其特征在于，所述第二預旋通道內沿其周向間隔地分布有多個供氣體流通的第二流道；

多個所述第二流道分別與其所在位置處的子午面之間具有第二預定偏轉角度，每個所述第二流道由其進氣端至出氣端的偏轉方向與所述渦輪盤的旋轉方向相反；

所述第二流道為開設于所述預旋噴嘴的本體上的通孔；或者，

所述第二預旋通道內沿其周向間隔地設置有多個第二導流部，任意相鄰的兩個所述第二導流部之間形成所述第二流道。

9.根據權利要求8所述的帶雙預旋通道噴嘴的渦輪盤腔結構，其特征在于，所述第一導流部呈直板狀、朝向傾斜方向彎折的折板狀或者呈流線型；和/或，

所述第二導流部呈直板狀、朝向傾斜方向彎折的折板狀或者呈流線型。

10.根據權利要求1所述的帶雙預旋通道噴嘴的渦輪盤腔結構，其特征在于，所述迷宮密封結構包括密封環、形成于所述密封環上的多個第一密封齒部，以及形成于所述分流器上的多個第二密封齒部；

多個第一密封齒部沿著所述渦輪盤的軸向方向并排間隔設置，多個所述第二密封齒部沿著所述渦輪盤的軸向方向并排間隔設置，且多個所述第一密封齒部與多個所述第二密封齒部交替穿插設置。