[發明專利]電子照相感光構件、處理盒、和電子照相設備

在審

• 申請號: 202210935007.7
• 申請日: 2022-08-05
• 公開（公告）號: CN115903411A
• 公開（公告）日: 2023-04-04
• 發明（設計）人: 關谷道代;渡口要;加來賢一
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03G5/047
• 分類號: G03G5/047;G03G21/18
• 代理公司: 北京魏啟學律師事務所 11398
• 代理人: 魏啟學

本發明涉及電子照相感光構件、處理盒、和電子照相設備。一種電子照相感光構件，其在支承體上具有膜厚度為0.2μm以上的電荷產生層和電荷輸送層，其中在23.5℃并且50％RH的情況下，對感光構件進行以下操作和測量：具體的(1)、(2)、(3)和(4)，在電場強度E為10至40V/μm的范圍內，由復合常數P_e和電場強度E之間的關系表達式表示的線性近似直線的斜率α的絕對值為4×10^?3以下，所述關系表達式從通過在將I_exp以0.001μJ/cm²的間隔從0.000μJ/cm²改變為1.000μJ/cm²的同時重復進行(1)至(4)的特定操作和測量而獲得的特定圖表來獲得。

技術領域

本公開涉及電子照相感光構件，以及各自具有該電子照相感光構件的處理盒和電子照相設備。

背景技術

例如復印機和激光束打印機等電子照相設備中使用的電子照相感光構件需要對用于圖像曝光的光具有充分的感光度。已知用作電荷輸送材料的偶氮顏料和酞菁顏料在寬的波長范圍內顯示出對光的高感光度。除了以上情況以外，近年來，要求以著色(colorization)為代表的高圖像品質，并且由于著色，以照片為代表的半色調圖像和實心圖像增多，并且其圖像品質逐年提高。

為了提高圖像品質，作為電子照相感光構件所期望的功能，需要從初始階段到耐久壽命期間均維持高的對比度。

在電子照相感光構件中，從高感光度的觀點，期望將電荷產生層的膜厚度設計為厚的，但在該情況下，獲得的電子照相感光構件具有產生記憶(memory)的缺點。另外，從更高感光度的觀點，電荷輸送層的膜厚度也最好設計為較厚，但在該情況下，獲得的電子照相感光構件具有導致殘余電荷增加的缺點，并且上述記憶也傾向于劣化。

另一方面，為了降低環境負荷，期望節能，并且從降低施加至電子照相設備中的充電裝置的電壓的觀點是可能的，但當施加的電壓降低時，施加至電子照相感光構件的電場強度變小，因此，源自上述電荷產生層的記憶進一步劣化。

在日本專利申請特開No.H10-115939中，描述了通過具有其中在作為電子照相感光構件的量子效率η和電場E之間的關系中、η具有充分弱的程度的電場依賴性的電荷產生層和電荷輸送層的組合，并且電荷輸送層具有特定的膜厚度而具有優異的耐久性和感光度的電子照相感光構件。

日本專利申請特開No.2005-091882中描述了一種電子照相設備，其中在改變曝光能量的同時在曝光時測量圖像承載體上的表面電位，并且用基于圖像承載體的光衰減特性表面電位變為理論值的1.3倍以上的曝光能量J照射圖像承載體。該電子照相設備控制復合率，具體地，增加圖像承載體中產生的電荷(載體)的量和增加載體的復合；并且由此控制潛像電位的減少，調節圖像承載體上調色劑的量，由此可以形成具有高圖像品質和優異的灰度屬性(gradation?property)的圖像。

日本專利申請特開No.2018-189957發現，關于當將使用酞菁顏料的電荷產生層形成為厚膜時發生的暗衰減增加，酞菁顏料在π堆疊方向和分子軸方向上的取向度之間存在相關性，具體地，晶體相關長度之間的比與暗衰減之間存在相關性。將從X射線衍射光譜獲得的參數用于晶體相關長度之間的比，并且描述了暗衰減通過將該比設定為特定值而受到抑制。

發明內容

根據本發明人的研究，在日本專利申請特開No.H10-115939中描述的電子照相感光構件中，量子效率η和電場E之間的關系的電場依賴性小，并且靈敏度令人滿意，但是會產生記憶。其原因在于實施例中公開的構造的電荷產生層的膜厚度為0.4μm，和電荷在電荷產生層中累積的事實。此外，電荷輸送層的膜厚度為25μm以上，由此，記憶現象更加顯著地出現，因為隨著電荷輸送層的膜厚度增加，電場強度降低。