[發明專利]一種DNA@SiO2

在審

• 申請號: 202210930677.X
• 申請日: 2022-08-04
• 公開（公告）號: CN115961940A
• 公開（公告）日: 2023-04-14
• 發明（設計）人: 李娜;張清雨;陳倩霞;葉欣雅;鄧金鑫
• 申請（專利權）人: 成都理工大學
• 主分類號: E21B47/11
• 分類號: E21B47/11;G01N33/24
• 代理公司: 四川北新律師事務所 51366
• 代理人: 謝宇

1.一種DNA@SiO₂示蹤劑的應用方法，其特征在于，包括：

提供裂縫巖樣柱和多種DNA@SiO₂示蹤劑；所述裂縫巖樣柱的設置有至少三個示蹤劑注入口；

利用所述示蹤劑注入口向所述多裂縫巖樣柱中注入DNA@SiO₂示蹤劑；

定時獲取所述裂縫巖樣的排出的示蹤樣品，測量所述示蹤樣品中的各DNA@SiO₂示蹤劑的含量；

根據所述DNA@SiO₂示蹤劑的含量與排出時間獲取一單位時間段內的裂縫產液的貢獻率；

其中，所述單位時間段為兩次獲取所述裂縫巖樣的排出的示蹤樣品之間的時間段。

2.根據權利要求1所述的DNA@SiO₂示蹤劑的應用方法，其特征在于，所述裂縫產液的貢獻率通過下式計算：

其中，M_i為返排液中第i時間段所用示蹤劑質量(g)；n為獲取所述多裂縫巖樣的排出的示蹤樣品的次數，n為正整數；i為某一次獲取的所述多裂縫巖樣的排出的示蹤樣品的序號，i取自1～n的自然數；

其中，M_i＝∑(C_i·t)·v；

其中，C_i為返排液中第i時間段所用示蹤劑濃度(g/m³)；

t為所需計算產液剖面時間段(h)；

v為排液速率(m³/h)。

3.根據權利要求1所述的DNA@SiO₂示蹤劑的應用方法，其特征在于，所述裂縫巖樣柱為單裂縫巖樣柱或多裂縫巖樣柱。

4.根據權利要求1所述的DNA@SiO₂示蹤劑的應用方法，其特征在于，所述裂縫巖樣柱中填充有巖層樣品；所述裂縫巖樣柱一端設置有第一端口、另一端設置有第二端口；所述示蹤劑注入口設置在所述裂縫巖樣柱的側面；

利用所述示蹤劑注入口向所述裂縫巖樣柱中注入DNA@SiO₂示蹤劑，包括：

從所述第一端口向所述裂縫巖樣柱內注入水，浸潤、沖洗所述巖層樣品；

利用所述DNA@SiO₂示蹤劑注入口向所述裂縫巖樣柱內注入所述DNA@SiO₂示蹤劑；

從所述第二端口向所述裂縫巖樣柱內注入驅替液，并采集所述第一端口的流出液，得到示蹤樣品；

獲取所述示蹤樣品中的每一DNA@SiO₂示蹤劑含量。

5.根據權利要求4所述的DNA@SiO₂示蹤劑的應用方法，其特征在于，每一所述示蹤劑注入口注入所述示蹤劑中用于示蹤的有效成分的濃度相同。

6.根據權利要求4所述的DNA@SiO₂示蹤劑的應用方法，其特征在于，從所述第一端口向所述多裂縫巖樣柱內注入水，浸潤、沖洗所述巖層樣品，包括：

以3～6mL/min的流速從所述第一端口向所述多裂縫巖樣柱內注入水，浸潤、沖洗所述巖層樣品15～60min。

7.根據權利要求4所述的DNA@SiO₂示蹤劑的應用方法，其特征在于，從所述第二端口向所述多裂縫巖樣柱內注入驅替液，包括：

以2.5～5mL/min的流速從所述第二端口向所述多裂縫巖樣柱內注入驅替液。

8.根據權利要求4所述的DNA@SiO₂示蹤劑的應用方法，其特征在于，采集所述第一端口的流出液，包括：

定時、定量采集所述第一端口的流出液；其中，相鄰的兩次的所述采集的間隔時間為0.5～2min。

9.根據權利要求3所述的DNA@SiO₂示蹤劑的應用方法，其特征在于，當所述裂縫巖樣柱為多裂縫巖樣柱時，所述巖層樣品設置有多個主裂縫；所述主裂縫與所述示蹤劑注入口相對應。

10.一種多裂縫巖層的多裂縫模擬樣品柱，其特征在于，包括：

殼體，所述殼體內設置有容納腔，所述殼體上設置有多個與所述容納腔連通且用于注入不同的示蹤劑的示蹤劑注入口；所述殼體的兩端還設置有開口；以及

密封端；所述密封端包括第一密封端和第二密封端，所述第一密封端和第二密封端分別與所述殼體兩端的開口密封連接；所述第一密封端上設置有用于注入/流出流體的第一端口；所述第二密封端上設置有用于注入/流出流體的第二端口。