[發(fā)明專利]三維仿真刻蝕模型的構(gòu)建方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210925497.2 | 申請(qǐng)日: | 2022-08-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN116467994A | 公開(公告)日: | 2023-07-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 盧俊勇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 先進(jìn)半導(dǎo)體材料(安徽)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06F30/392 | 分類號(hào): | G06F30/392;G06F30/398;G06T7/00;G06T7/13 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 武振華 |
| 地址: | 239004 安徽省滁州市*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 三維 仿真 刻蝕 模型 構(gòu)建 方法 | ||
1.一種三維仿真刻蝕模型的構(gòu)建方法,其特征在于,包括:
對(duì)于多個(gè)光刻設(shè)計(jì)圖形,均采用多個(gè)預(yù)設(shè)的刻蝕時(shí)長對(duì)樣本進(jìn)行刻蝕,以得到對(duì)應(yīng)的刻蝕輪廓;
測量各個(gè)刻蝕輪廓的尺寸,并確定各個(gè)光刻設(shè)計(jì)圖形在各個(gè)刻蝕時(shí)長下的多個(gè)測量位置的刻蝕深度;
針對(duì)每個(gè)刻蝕時(shí)長,采用二維仿真刻蝕模型確定每個(gè)所述測量位置的刻蝕概率;
根據(jù)所述刻蝕時(shí)長、各個(gè)測量位置的刻蝕概率,對(duì)所述刻蝕深度進(jìn)行擬合,確定擬合函數(shù);
根據(jù)所述擬合函數(shù),構(gòu)建所述三維仿真刻蝕模型。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維仿真刻蝕模型的構(gòu)建方法,其特征在于,根據(jù)所述刻蝕時(shí)長、各個(gè)測量位置的刻蝕概率,對(duì)所述刻蝕深度進(jìn)行擬合,確定擬合函數(shù)包括:
對(duì)于每個(gè)刻蝕時(shí)長,采用插值法確定多個(gè)預(yù)設(shè)的目標(biāo)仿真位置的刻蝕概率以及刻蝕深度,以得到多個(gè)插值數(shù)據(jù)組,其中,每個(gè)插值數(shù)據(jù)組包含刻蝕時(shí)長、插值刻蝕深度以及插值刻蝕概率;
以所述刻蝕時(shí)長、所述刻蝕概率為元,采用所述插值數(shù)據(jù)組確定所述刻蝕深度的二元擬合函數(shù)的各個(gè)擬合參數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的三維仿真刻蝕模型的構(gòu)建方法,其特征在于,所述采用插值法確定多個(gè)預(yù)設(shè)的目標(biāo)仿真位置的刻蝕概率以及刻蝕深度包括:
對(duì)于每個(gè)刻蝕時(shí)長,對(duì)至少一部分測量位置的刻蝕深度進(jìn)行插值處理,以確定各個(gè)預(yù)設(shè)的目標(biāo)仿真位置的插值刻蝕深度;
對(duì)至少一部分測量位置的刻蝕概率進(jìn)行插值處理,以確定各個(gè)預(yù)設(shè)的目標(biāo)仿真位置的插值刻蝕概率;
關(guān)聯(lián)具有相同目標(biāo)仿真位置的插值刻蝕深度以及插值刻蝕概率,以得到所述插值數(shù)據(jù)組。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的三維仿真刻蝕模型的構(gòu)建方法,其特征在于,采用下述二元擬合多項(xiàng)式公式,以所述刻蝕時(shí)長、所述刻蝕概率為元,采用所述插值數(shù)據(jù)組確定所述刻蝕深度的二元擬合函數(shù)的各個(gè)擬合參數(shù):
z(x,y,Nt)=
d(x,y,Nt)c+b1×Nt+b2×Nt2+…+bc×Ntc
其中,z(x,y,Nt)用于表示刻蝕深度的二元擬合函數(shù),d(x,y,Nt)用于表示在刻蝕時(shí)長Nt下目標(biāo)仿真位置(x,y)的刻蝕概率,c為正整數(shù),a1至ac、b1至bc為各個(gè)擬合參數(shù),z0用于表示預(yù)設(shè)的刻蝕深度初始值;
其中,所述插值數(shù)據(jù)組的數(shù)量大于等于所述擬合參數(shù)的數(shù)量。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維仿真刻蝕模型的構(gòu)建方法,其特征在于,根據(jù)所述擬合函數(shù),構(gòu)建所述三維仿真刻蝕模型包括:
其中,z(x,y,Nt)用于表示在刻蝕時(shí)長Nt下目標(biāo)仿真位置(x,y)的刻蝕深度,d(x,y,Nt)用于表示在刻蝕時(shí)長Nt下目標(biāo)仿真位置(x,y)的刻蝕概率,D0(Nt)用于表示在刻蝕時(shí)長Nt下的刻蝕概率閾值。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維仿真刻蝕模型的構(gòu)建方法,其特征在于,還包括:
采用待仿真刻蝕時(shí)長以及所述二維仿真刻蝕模型,確定待仿真坐標(biāo)的刻蝕概率;
將一個(gè)或多個(gè)所述仿真坐標(biāo)的刻蝕概率以及待仿真刻蝕時(shí)長,代入所述三維仿真刻蝕模型,以得到各個(gè)仿真坐標(biāo)的刻蝕深度的仿真值。
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