[發明專利]摻加錫粉的鈉系渣劑去除工業硅中雜質的裝置及其方法

在審

• 申請號: 202210896800.0
• 申請日: 2022-07-28
• 公開（公告）號: CN115353109A
• 公開（公告）日: 2022-11-18
• 發明（設計）人: 蔡云;蔡華憲;李瑞宇;羅學濤
• 申請（專利權）人: 商南中劍實業有限責任公司
• 主分類號: C01B33/037
• 分類號: C01B33/037
• 代理公司: 安徽濰達知識產權代理事務所(普通合伙) 34166
• 代理人: 羅琳

1.摻加錫粉的鈉系渣劑去除工業硅中雜質的裝置，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)上從左至右依次安裝有混合設備(2)、熔煉設備(3)、粉碎設備(4)和酸洗設備(5)，所述混合設備(2)包括安裝在底座(1)上的混合箱(6)，所述混合箱(6)的后側設有進料管，所述混合箱(6)的上端安裝有第一電機(7)，所述第一電機(7)的輸出端固定連接有圓桿(9)，所述混合箱(6)的內底部固定連接有兩個支撐桿(16)，兩個所述支撐桿(16)的上端共同固定連接有圓筒(14)，所述圓桿(9)位于圓筒(14)內，且所述圓桿(9)的外壁固定連接有多個第一螺旋葉(15)，所述混合箱(6)內安裝有與圓桿(9)連接的混合機構，所述混合箱(6)的底部安裝有排料管(17)，所述排料管(17)上安裝有定量閥(18)，所述底座(1)上安裝有位于排料管(17)底部的壓塊機構，所述粉碎設備(4)包括安裝在底座(1)上的研磨箱(24)，所述研磨箱(24)的上端安裝有進料斗(28)，所述研磨箱(24)的內部安裝有兩個粉碎輥(27)，且所述研磨箱(24)的內壁固定連接有第一研磨板(26)，所述第一研磨板(26)上設有與其相抵的第二研磨板(29)，所述第二研磨板(29)的兩端均固定連接有矩形桿(30)，兩個所述矩形桿(30)均貫穿研磨箱(24)并與其滑動連接，所述研磨箱(24)上安裝有驅動矩形桿(30)移動的驅動機構，所述研磨箱(24)的底部安裝有出料管(36)。

2.根據權利要求1所述的摻加錫粉的鈉系渣劑去除工業硅中雜質的裝置，其特征在于，所述混合箱(6)通過四個第一支撐腳(23)固定在底座(1)上，四個所述第一支撐腳(23)呈矩形分布。

3.根據權利要求1所述的摻加錫粉的鈉系渣劑去除工業硅中雜質的裝置，其特征在于，所述混合箱(6)和研磨箱(24)的內底部均設有錐形面(8)。

4.根據權利要求1所述的摻加錫粉的鈉系渣劑去除工業硅中雜質的裝置，其特征在于，所述混合機構包括與混合箱(6)的內頂部轉動連接有兩個豎桿(12)，所述圓桿(9)和兩個豎桿(12)上均安裝有鏈輪(10)，三個所述鏈輪(10)通過鏈條(11)相連接，兩個所述豎桿(12)的外壁均安裝有多個第二螺旋葉(13)。

5.根據權利要求1所述的摻加錫粉的鈉系渣劑去除工業硅中雜質的裝置，其特征在于，所述壓塊機構包括固定在底座(1)上的電動推桿(19)，所述電動推桿(19)的輸出端固定連接有L型板(20)，所述底座(1)上固定連接有箱體(21)，所述箱體(21)的上端、靠近電動推桿(19)的一端均呈開口設置，所述L型板(20)與箱體(21)的內壁相匹配，所述箱體(21)上貫穿設有通槽(22)，所述通槽(22)與L型板(20)相對設置。

6.根據權利要求1所述的摻加錫粉的鈉系渣劑去除工業硅中雜質的裝置，其特征在于，所述第一研磨板(26)、第二研磨板(29)相對面的上端均設有楔形槽(37)。

7.根據權利要求1所述的摻加錫粉的鈉系渣劑去除工業硅中雜質的裝置，其特征在于，所述驅動機構包括安裝在研磨箱(24)外壁的橫板(31)，所述橫板(31)上安裝有安裝座(32)，所述安裝座(32)上安裝有第二電機(33)，所述第二電機(33)的輸出端固定連接有圓板(35)，所述圓板(35)上偏心鉸接連接有連桿(34)，所述連桿(34)與矩形桿(30)鉸接連接。

8.摻加錫粉的鈉系渣劑去除工業硅中雜質的方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、按比例配好造渣劑，渣劑成分為Sn-SiO2-Na2O；

S2、將造渣劑與工業硅按合適質量比混合均勻，并將其壓成塊狀；

S3、將渣硅加入石墨坩堝中，置于中頻感應熔煉設備(3)內，控制電源功率為300-500kW，使反應溫度維持在1600-1700℃，造渣熔煉時間為3h；

S4、造渣后，將渣硅倒入另一石墨坩堝中，待冷卻凝固后進行渣硅分離；

S5、將造渣后的硅料破碎研磨，得到粉狀顆粒；

S6、將得到粉狀顆粒進行酸洗，得到高純硅。