[發明專利]各向異性紋理過濾

在審

• 申請號: 202210879140.5
• 申請日: 2022-07-25
• 公開（公告）號: CN115690297A
• 公開（公告）日: 2023-02-03
• 發明（設計）人: R·金
• 申請（專利權）人: 想象技術有限公司
• 主分類號: G06T15/04
• 分類號: G06T15/04;G06T7/44;G06T5/20
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 王青芝;徐敏剛

1.一種執行各向異性紋理過濾的方法(1200)，所述方法(1200)包括：

生成描述紋理空間中的橢圓形覆蓋區的一個或多個參數(1202)；

在待采樣橢圓中的一組采樣點中的每個采樣點處執行各向同性過濾，以產生多個各向同性過濾器結果，所述待采樣橢圓基于所述橢圓形覆蓋區(1204,1206)；

基于所述采樣點組的一個或多個參數和所述待采樣橢圓的一個或多個參數，選擇各向異性過濾器的權重，所述權重在所述各向異性過濾器的方差與各向異性比率的平方相關的約束下，使得對所述各向異性過濾器的過濾器響應中的高頻率進行罰分的代價函數最小化，所述各向異性比率是所述待采樣橢圓的長半徑與所述待采樣橢圓的短半徑的比率(1208)；以及

使用所述各向異性過濾器的所選擇權重來組合所述多個各向同性過濾器結果，以生成過濾器結果的至少一部分(1210)。

2.如權利要求1所述的方法(1200)，其中所述各向異性過濾器能夠被表示為第一函數的絕對值平方，并且所述代價函數是所述第一函數的模平方空間方差和光譜方差的乘積。

3.如權利要求2所述的方法(1200)，其中所述代價函數是其中η是所述各向異性比率，φ(x)是所述第一函數，φ′(x)是φ(x)相對于x的導數，并且x表示紋理空間中相對于所述橢圓形覆蓋區的長軸的中點的位置。

4.如權利要求2所述的方法(1200)，其中所述代價函數是S是所述采樣點組，φ是所述第一函數并且

5.如權利要求1所述的方法(1200)，其中所述代價函數是表示所述各向異性過濾器的歐幾里得范數的函數。

6.如權利要求5所述的方法(1200)，其中所述各向異性過濾器能夠被表示為第一函數φ(x)的絕對值平方，所述代價函數是并且x表示紋理空間中相對于所述橢圓形覆蓋區的所述長軸的中點的位置。

7.如權利要求5所述的方法(1200)，其中所述各向異性過濾器能夠被表示為第一函數φ的絕對值平方，并且所述代價函數是∑_n∈S|φ_n|⁴，其中S是所述采樣點組并且

8.如權利要求1所述的方法(1200)，其中所述代價函數是表示所述各向異性過濾器的光譜擴展的函數。

9.如權利要求8所述的方法(1200)，其中所述各向異性過濾器能夠被表示為第一函數φ(x)的絕對值平方，所述代價函數是φ′(x)是φ(x)相對于x的導數，并且x表示紋理空間中相對于所述橢圓形覆蓋區的所述長軸的中點的位置。

10.如權利要求8所述的方法(1200)，其中所述各向異性過濾器能夠被表示為第一函數φ的絕對值平方，所述代價函數是S是所述采樣點組并且

11.如權利要求1至10中任一項所述的方法(1200)，其中所述采樣點組的所述采樣點沿所述橢圓形覆蓋區的長軸定位。

12.如權利要求1至10中任一項所述的方法(1200)，其中所述待采樣橢圓的所述一個或多個參數包括所述待采樣橢圓的所述各向異性比率。

13.如權利要求1至10中任一項所述的方法(1200)，其中所述采樣點組的所述一個或多個參數包括所述采樣點組中的采樣點的數目、第一采樣點從所述橢圓形覆蓋區的所述長半徑的中間點的偏移量，以及所述紋理空間中所述采樣點組中的相鄰采樣點之間的間距。