[發明專利]微型反射鏡陣列加工方法及系統

在審

• 申請號: 202210860109.7
• 申請日: 2022-07-22
• 公開（公告）號: CN114924406A
• 公開（公告）日: 2022-08-19
• 發明（設計）人: 施可彬;高翔;馬睿;楊燕青;李艷莉;賀心雨;王艷丹;耿樂;馮邱鍇;楊宏;龔旗煌
• 申請（專利權）人: 北京大學長三角光電科學研究院
• 主分類號: G02B26/08
• 分類號: G02B26/08;G02B27/09;G02B27/30
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 周治宇

1.一種微型反射鏡陣列加工方法，其特征在于，包括：

發射第一光束；

控制所述第一光束的照射方向，并調整所述第一光束的焦點對準在待加工樣品上，以使所述待加工樣品的被照射位置發生特性變化，所述特性變化包括折射率的變化和光化學反應；

根據預設軌跡參數控制所述第一光束的焦點與所述待加工樣品周期性相對移動，以在所述待加工樣品上形成多個微型反射鏡結構，形成微型反射鏡陣列。

2.根據權利要求1所述的微型反射鏡陣列加工方法，其特征在于，所述發射第一光束之前還包括：

基于所述待加工樣品確定所述第一光束的預設參數。

3.根據權利要求2所述的微型反射鏡陣列加工方法，其特征在于，所述微型反射鏡陣列加工方法還包括：

獲取所述第一光束的實際參數；

根據所述實際參數與所述預設參數的關系，調整所述第一光束的發射參數。

4.根據權利要求1所述的微型反射鏡陣列加工方法，其特征在于，所述根據預設軌跡參數控制所述第一光束的焦點與所述待加工樣品周期性相對移動，包括：

根據所述預設軌跡參數，控制所述第一光束以預設掃描參數周期性掃描照射所述待加工樣品；

和/或，根據所述預設軌跡參數，控制所述待加工樣品周期性移動。

5.根據權利要求1所述的微型反射鏡陣列加工方法，其特征在于，控制所述第一光束的照射方向，并調整所述第一光束的焦點對準在待加工樣品上，以使所述待加工樣品的被照射位置發生特性變化，所述特性變化包括折射率的變化和光化學反應，之前還包括：

對所述第一光束進行準直；

對準直后的所述第一光束進行擴束整形，以調整所述第一光束的光斑。

6.根據權利要求1所述的微型反射鏡陣列加工方法，其特征在于，所述微型反射鏡陣列加工方法還包括：

實時獲取所述待加工樣品上的微型反射鏡陣列的形成信息；

根據所述微型反射鏡陣列的形成信息，調整所述第一光束的發射參數，和/或調整所述第一光束的焦點與所述待加工樣品的相對移動參數。

7.根據權利要求6所述的微型反射鏡陣列加工方法，其特征在于，所述實時獲取所述待加工樣品上的微型反射鏡陣列的形成信息，包括：

向待加工樣品照射第二光束；

在所述第二光束經過所述待加工樣品后，獲取所述第二光束的光信號，根據所述光信號獲得所述待加工樣品的圖像；

根據所述圖像，獲得所述微型反射鏡陣列的形成信息。

8.一種微型反射鏡陣列加工系統，其特征在于，包括：

樣品臺，用于放置待加工樣品；

第一光源，用于發射第一光束；

光學裝置，用于控制所述第一光束的照射方向，以使所述第一光束朝向所述待加工樣品；

物鏡，沿所述第一光束的傳播路徑設于所述樣品臺與所述光學裝置之間，所述物鏡用于調整所述第一光束的焦點對準所述待加工樣品上，以使所述待加工樣品的被照射位置發生特性變化，所述特性變化包括折射率變化和光化學反應；

其中，所述第一光束的焦點與所述樣品臺能夠根據預設軌跡參數周期性相對移動，以在所述待加工樣品上形成多個微型反射鏡結構，形成微型反射鏡陣列。

9.根據權利要求8所述的微型反射鏡陣列加工系統，其特征在于，所述微型反射鏡陣列加工系統還包括準直裝置和擴束整形裝置，所述準直裝置和所述擴束整形裝置沿所述第一光束的傳播路徑依次設于所述第一光源與所述光學裝置之間；

所述準直裝置用于對所述第一光束進行準直；

所述擴束整形裝置用于對準直后的所述第一光束進行擴束整形，以調整所述第一光束的光斑與所述物鏡相匹配。