[發(fā)明專(zhuān)利]一種PTFE管的連續(xù)蝕刻系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210858223.6
• 申請(qǐng)日: 2022-07-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN115042459A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-09-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張鵬;查尚文
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 上海翊科聚合物科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B29C73/02
• 分類(lèi)號(hào): B29C73/02;B29C71/04;B08B3/08;B08B3/12;B08B13/00;B29L23/00
• 代理公司: 北京弘權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11363
• 代理人: 逯長(zhǎng)明;許偉群

1.一種PTFE管的連續(xù)蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，包括：放卷輥(1)、滑輪(2)、化學(xué)試劑超聲清洗槽(3)、處理器(4)、蝕刻槽(5)、去離子水超聲清洗槽(6)、乙酸清洗槽(7)、收卷輥(8)、晾干裝置(9)和PTFE基管(10)，其中，

所述化學(xué)試劑超聲清洗槽(3)一側(cè)設(shè)置有所述放卷輥(1)，所述化學(xué)試劑超聲清洗槽(3)另一側(cè)設(shè)置有所述處理器(4)；

所述蝕刻槽(5)靠近所述化學(xué)試劑超聲清洗槽(3)一側(cè)設(shè)置有所述處理器(4)，所述蝕刻槽(5)遠(yuǎn)離所述化學(xué)試劑超聲清洗槽(3)一側(cè)設(shè)置有所述去離子水超聲清洗槽(6)；

所述乙酸清洗槽(7)靠近所述蝕刻槽(5)一側(cè)設(shè)置有所述去離子水超聲清洗槽(6)，所述乙酸清洗槽(7)遠(yuǎn)離所述蝕刻槽(5)一側(cè)設(shè)置有所述收卷輥(8)，所述收卷輥(8)遠(yuǎn)離所述乙酸清洗槽(7)一側(cè)設(shè)置有所述晾干裝置(9)；

所述放卷輥(1)的周向方向外設(shè)有所述PTFE基管(10)，所述PTFE基管(10)一端與放卷輥(1)固定，通過(guò)所述放卷輥(1)放卷，所述PTFE基管(10)通過(guò)若干個(gè)滑輪(2)依次穿過(guò)所述化學(xué)試劑超聲清洗槽(3)、所述處理器(4)、所述蝕刻槽(5)、所述去離子水超聲清洗槽(6)、所述乙酸清洗槽(7)和所述收卷輥(8)，最后懸掛于晾干裝置(9)上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PTFE管的連續(xù)蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述放卷輥(1)和所述收卷輥(8)的兩側(cè)均與圓形護(hù)板(11)固定連接，所述圓形護(hù)板(11)與所述放卷輥(1)和所述收卷輥(8)的圓心相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的PTFE管的連續(xù)蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述放卷輥(1)的圓形護(hù)板(11)上部和下部對(duì)稱(chēng)設(shè)置有卡口(111)，所述卡口(111)的長(zhǎng)度和寬度均與所述PTFE基管(10)的直徑相匹配。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的PTFE管的連續(xù)蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述PTFE基管(10)穿過(guò)所述卡口(111)，通過(guò)管材卡口裝置(12)與所述放卷輥(1)的任意一個(gè)圓形護(hù)板(11)固定連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的PTFE管的連續(xù)蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述管材卡口裝置(12)包括底板(121)、連接軸(122)、下壓桿(123)和下壓桿固定裝置(124)，所述底板(121)上設(shè)置有所述連接軸(122)和下壓桿固定裝置(124)，所述連接軸(122)設(shè)置于所述底板(121)一端的中部，所述下壓桿固定裝置(124)與所述連接軸(122)的距離與所述下壓桿(123)的長(zhǎng)度相匹配，所述下壓桿(123)通過(guò)所述連接軸(122)與所述底板(121)相連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PTFE管的連續(xù)蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述滑輪(2)包括第一組滑輪(21)，所述第一組滑輪(21)設(shè)置于所述放卷輥(1)、所述化學(xué)試劑超聲清洗槽(3)、所述處理器(4)、所述蝕刻槽(5)、所述去離子水超聲清洗槽(6)、所述乙酸清洗槽(7)、所述收卷輥(8)和所述晾干裝置(9)外，所述處理器(4)為在線(xiàn)式等離子體處理器和電暈處理器中任意一種。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的PTFE管的連續(xù)蝕刻系統(tǒng)，其特征在于，所述滑輪(2)還包括第二組滑輪(22)，所述第二組滑輪(22)包括第一滑輪(31)和第二滑輪(32)，所述化學(xué)試劑超聲清洗槽(3)內(nèi)設(shè)置有所述第一滑輪(31)和所述第二滑輪(32)，所述去離子水超聲清洗槽(6)內(nèi)設(shè)置有第三滑輪(61)和第四滑輪(62)，所述第一滑輪(31)與所述第二滑輪(32)、所述第三滑輪(61)與所述第四滑輪(62)位置對(duì)稱(chēng)，所述化學(xué)試劑超聲清洗槽(3)底部中心設(shè)置有第一排污管口(33)，所述去離子水超聲清洗槽(6)底部中心設(shè)置有第二排污管口(63)。