[發明專利]光控調制模塊及由其構成的脈沖激光系統

有效

• 申請號: 202210845013.3
• 申請日: 2022-07-19
• 公開（公告）號: CN115000794B
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發明（設計）人: 張新;佟存柱;王延靖;陸寰宇;蔡凱迪
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: H01S3/106
• 分類號: H01S3/106;H01S3/042;H01S3/16;H01S3/0941
• 代理公司: 長春中科長光知識產權代理事務所(普通合伙) 22218
• 代理人: 高一明

1.一種光控調制模塊，其特征在于，包括：

光控單元，其用于輸出第一預設波長的控制光；

可飽和吸收體本體，其用于在所述控制光的注入下吸收第二預設波長的光子；所述可飽和吸收體本體為摻雜有稀土離子的介質，所述介質為晶體或陶瓷；

散熱系統，其貼合在所述可飽和吸收體本體的底部，用于對所述可飽和吸收體本體進行散熱；

腔反射介質膜，其鍍制在所述可飽和吸收體本體靠近所述散熱系統的一側，以形成腔內反饋。

2.如權利要求1所述的光控調制模塊，其特征在于，所述稀土離子為鈥離子、鉺離子或鏑離子。

3.如權利要求1或2所述的光控調制模塊，其特征在于，所述可飽和吸收體本體為片型結構。

4.如權利要求1或2所述的光控調制模塊，其特征在于，所述光控單元為光纖耦合半導體激光器，所述光纖耦合半導體激光器的波長為976nm，所述第二預設波長為1973nm，所述稀土離子采用摻雜濃度為1mol.%~50mol.%的鉺離子。

5.一種脈沖激光系統，包括：

泵浦光源，用于發出泵浦光；

增益晶體，用于對所述泵浦光產生增益形成激光；

輸出耦合鏡，其設置在所述脈沖激光系統的輸出方向上；

其特征在于，還包括如權利要求1~4中任一項所述的光控調制模塊，所述光控調制模塊中的腔反射介質膜與所述輸出耦合鏡構成諧振腔。

6.如權利要求5所述的脈沖激光系統，其特征在于，所述增益晶體的摻雜離子有銩離子、鉺離子或鏑離子。

7.如權利要求5所述的脈沖激光系統，其特征在于，所述泵浦光源為半導體泵浦激光器，所述脈沖激光系統的輸出波長為2μm，所述增益晶體摻雜有銩離子，所述半導體泵浦激光器的波長為793nm。

8.如權利要求6所述的脈沖激光系統，其特征在于，所述輸出耦合鏡的反射波長為2μm，反射率≥90%。