[發明專利]高溫噴射裝置在審
| 申請號： | 202210838150.4 | 申請日： | 2022-07-17 |
| 公開（公告）號： | CN115307432A | 公開（公告）日： | 2022-11-08 |
| 發明（設計）人： | 凱薩·妮可萊寧;王偉 | 申請（專利權）人： | 羅托布斯特（上海）氫能科技有限公司 |
| 主分類號： | F27B14/08 | 分類號： | F27B14/08;F27D7/02;F27D9/00 |
| 代理公司： | 上海老虎專利代理事務所(普通合伙) 31434 | 代理人： | 葛瑛 |
| 地址： | 200000 上海市浦東新區中國(上海*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 高溫 噴射 裝置 | ||
1.高溫噴射裝置，其特征在于，包括可變平移驅動機構，所述可變平移驅動機構包括有安裝在鏡腿結構(103)上方的蝸桿螺母(101)，所述蝸桿螺母(101)下端設置有分散管(105)，所述分散管(105)下方位于設置有第一石墨塞(104)，所述第一石墨塞(104)外圈設置有彈簧(106)，所述第一石墨塞(104)垂直穿入設置有軟管(102)，所述軟管(102)的上端橫向貫穿分散管(105)。
2.根據權利要求1所述的高溫噴射裝置，其特征在于：所述鏡腿結構(103)被機械或自動驅動以壓下分散管(105)，所述分散管(105)橫向連接到柔性入口軟管(102)并與彈簧(106)重合，所述分散管(105)壓縮彈簧(106)并降低連接到第一石墨塞(104)的分散管(105)。
3.根據權利要求1所述的高溫噴射裝置，其特征在于：所述第一石墨塞(104)的下方設置有坩堝(108)，所述第一石墨塞(104)具有雙法蘭結構和預定長度的軸以控制范圍和深度垂直平移到坩堝(108)中。
4.根據權利要求1所述的高溫噴射裝置，其特征在于：分散管(105)的下部連接到的第二石墨塞(107)，所述第二石墨塞(107)直徑小于第一石墨塞(104)。
5.根據權利要求1所述的高溫噴射裝置，其特征在于：所述第一石墨塞(104)具有雙法蘭結構和預定長度的軸以控制范圍和深度垂直平移到坩堝(108)中。
6.根據權利要求1所述的高溫噴射裝置，其特征在于：當預定深度到達第一石墨塞(104)的上法蘭密封該單元的上部以防止任何氣體進入或離開，第二石墨塞(107)的上法蘭通過坐在高溫墊圈(110)上而完全密封坩堝(108)的上部。
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