[發明專利]PVD鍍腔內壁構件用涂層組合物、PVD鍍腔內壁構件及其制備方法和清洗方法

有效

• 申請號: 202210814512.6
• 申請日: 2022-07-12
• 公開（公告）號: CN115181460B
• 公開（公告）日: 2023-09-26
• 發明（設計）人: 朱峰;熊志紅
• 申請（專利權）人: 深圳仕上電子科技股份有限公司
• 主分類號: C09D129/04
• 分類號: C09D129/04;C09D7/63;C23C14/22
• 代理公司: 深圳中細軟知識產權代理有限公司 44528
• 代理人: 田麗麗

1.一種PVD鍍腔內壁構件，其特征在于，包括鍍腔內壁構件本體和形成于所述鍍腔內壁構件本體上的涂層，所述涂層包括涂層組合物，所述涂層組合物的原料包括以下質量份數的組分：

3份~10份的聚乙烯醇、0.5份~10份的交聯劑和0.03份~0.1份的多元醇增塑劑；

所述交聯劑包括水性封閉型異氰酸酯交聯劑或硅氧烷交聯劑；

所述硅氧烷交聯劑包括正硅酸乙酯、甲基三乙氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷和γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷中的至少一種；

所述水性封閉型異氰酸酯交聯劑包括HDI/三羥甲基己基內酯交聯聚合物、IPDI三聚體/聚乙二醇單甲醚和氨基磺酸鹽改性HDI三聚體中的至少一種；

所述多元醇增塑劑包括丙三醇、季戊四醇和甘露醇中的至少一種；

所述聚乙烯醇包括聚乙烯醇1788、聚乙烯醇1792和聚乙烯醇1799中的至少一種；

所述涂層的厚度為100?μm~500?μm；

將所述涂層組合物用溶劑分散，得到涂層漿料；

將所述涂層漿料形成于所述鍍腔內壁構件本體的表面，使所述涂層漿料發生交聯反應，固化后形成所述涂層；

當所述交聯劑包括所述水性封閉型異氰酸酯交聯劑時，所述使所述涂層漿料發生交聯反應的溫度大于所述水性封閉型異氰酸酯交聯劑的解封溫度；

當所述交聯劑包括所述硅氧烷交聯劑時，所述使所述涂層漿料發生交聯反應的過程中還加入0.5份~10份質量份數的酸催化劑。

2.根據權利要求1所述的PVD鍍腔內壁構件，其特征在于，所述涂層組合物的最大熱分解速率溫度為300℃~400℃。

3.一種如權利要求1或2所述的PVD鍍腔內壁構件的制備方法，其特征在于，包括以下過程：

將所述涂層組合物用溶劑分散，得到涂層漿料；

將所述涂層漿料形成于所述鍍腔內壁構件本體的表面，使所述涂層漿料發生交聯反應，固化后形成所述涂層。

4.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，當所述交聯劑包括所述水性封閉型異氰酸酯交聯劑時，所述使所述涂層漿料發生交聯反應的溫度大于所述水性封閉型異氰酸酯交聯劑的解封溫度；

當所述交聯劑包括所述硅氧烷交聯劑時，所述使所述涂層漿料發生交聯反應的過程中還加入0.5份~10份質量份數的酸催化劑。

5.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述酸催化劑包括鹽酸、乙酸、草酸和檸檬酸中的至少一種。

6.根據權利要求3~5中任意一項所述的制備方法，其特征在于，包括以下特征a~b中的至少一個：

a.?所述溶劑的質量份數為90份~96份；

b.?所述溶劑包括乙醇和/或水中的至少一種。

7.一種如權利要求1或2所述的PVD鍍腔內壁構件或如權利要求3~6中任意一項所述的制備方法制得的PVD鍍腔內壁構件的清洗方法，其特征在于，包括以下過程：對被雜質層污染后的所述PVD鍍腔內壁構件進行水洗，所述水洗過程中，所述雜質層和所述涂層均被去除，得到清洗后的鍍腔內壁構件本體。