[發(fā)明專利]噴涂設備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210806802.6
• 申請日: 2022-07-08
• 公開（公告）號: CN114987064A
• 公開（公告）日: 2022-09-02
• 發(fā)明（設計）人: 陳建超;李朝暉
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: B41J3/407
• 分類號: B41J3/407;B41J2/01
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 熊明

1.一種噴涂設備，其特征在于，具有用于在蓋板上噴涂對位標記的噴涂工位，所述噴涂設備包括：

輸送裝置，包括輸送載臺、掩膜以及驅(qū)動組件，所述輸送載臺具有用來直接或者間接的承載所述蓋板的工作面，所述掩膜與所述工作面相對設置、并可拆卸地固定在所述輸送載臺上，所述驅(qū)動組件用來帶動所述輸送載臺沿第一方向進入或者離開所述噴涂工位；以及，

噴涂裝置，對應所述噴涂工位布設，當所述輸送載臺進入所述噴涂工位后，所述噴涂裝置用來從所述掩膜遠離所述工作面的一側(cè)向所述蓋板噴射用于形成所述對標記的噴涂材料。

2.如權(quán)利要求1所述的噴涂設備，其特征在于，在所述輸送載臺的工作面上設有承載區(qū)及支撐件，其中：

所述承載區(qū)位于所述工作面的中心處，用來直接或者間接的承載所述蓋板；

所述支撐件位于所述承載區(qū)的外圍、且固定在所述輸送載臺上，用于支撐所述掩膜。

3.如權(quán)利要求2所述的噴涂設備，其特征在于，所述掩膜具有鏤空圖案和定位結(jié)構(gòu)，其中：

所述鏤空圖案用于形成所述對位標記；

所述定位結(jié)構(gòu)與所述支撐件插接配合。

4.如權(quán)利要求1所述的噴涂設備，其特征在于，所述噴涂設備還包括基臺；

所述驅(qū)動組件包括至少一條主動輸送線，所述主動輸送線設置在所述基臺上并沿所述第一方向的延伸方向延伸，用來承載并帶動所述輸送載臺沿所述第一方向移動。

5.如權(quán)利要求1所述的噴涂設備，其特征在于，所述噴涂設備還包括基臺，所述輸送載臺以能相對所述基臺沿所述第一方向移動的方式設置在所述基臺上；

所述噴涂裝置包括兩個安裝支架和分別對應兩個所述安裝支架的兩個噴頭組，其中：

兩個所述安裝支架以能沿所述第一方向相互靠近或者遠離方式設置在所述基臺上，每一所述安裝支架沿垂直于所述第一方向的第二方向的跨設于所述輸送載臺的輸送路徑的寬度方向兩側(cè)；以及，

每一所述噴頭組包括至少兩個噴頭，每一所述噴頭以能相對所述安裝支架沿所述第二方向移動的方式安裝在所述安裝支架上。

6.如權(quán)利要求5所述的噴涂設備，其特征在于，在所述基臺上設有兩條移動導軌，兩條所述移動導軌沿所述第一方向延伸、且沿所述第二方向間隔排布于所述輸送載臺的輸送路徑的寬度方向兩側(cè)；

所述安裝支架沿所述第二方向跨設于所述輸送載臺的輸送路徑的兩側(cè)并可滑動地安裝在兩個所述移動導軌上。

7.如權(quán)利要求1所述的噴涂設備，其特征在于，所述噴涂設備還包括至少一組測試組件，所述測試組件包括：

測試基板，沿所述第一方向設置在所述輸送載臺的一側(cè)；以及，

至少一清潔件，用來清潔所述測試基板上的噴涂材料。

8.如權(quán)利要求7所述的噴涂設備，其特征在于，所述測試組件的數(shù)目為兩組，兩組所述測試組件沿所述第一方向分別設置在所述輸送載臺的相對兩側(cè)。

9.如權(quán)利要求1所述的噴涂設備，其特征在于，所述噴涂設備還包括至少一噴涂材料存儲裝置，所述噴涂材料存儲裝置與所述噴涂裝置流體連接，以向所述噴涂裝置提供噴涂材料。

10.如權(quán)利要求1所述的噴涂設備，其特征在于，所述噴涂設備還具有更換蓋板的換料工位，所述噴涂設備還包括換料裝置，所述換料裝置對應所述換料工位布設，所述驅(qū)動組件用來帶動所述輸送載臺沿所述第一方向移動并途徑所述噴涂工位和所述換料工位；

所述換料裝置具有換料組件和切換組件，其中：

所述切換組件用于使所述掩膜在第一位置和第二位置之間切換，在所述第一位置，所述掩膜與所述工作面相對設置、且固定在所述輸送載臺，在所述第二位置，所述掩膜避讓所述工作面；

所述換料組件用于在所述掩膜處于所述第二位置時更換所述工作面上的蓋板。