[發(fā)明專利]一種掛具退鍍工藝用的退鍍液及其退鍍方法、檢測方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210790192.5 | 申請日: | 2022-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN115094507A | 公開(公告)日: | 2022-09-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄧靖;鄧和平;高海霞;鄧可為 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢天立表面技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | C25F5/00 | 分類號: | C25F5/00;G01N5/04;G01N17/00;G01N17/02 |
| 代理公司: | 深圳博敖專利代理事務(wù)所(普通合伙) 44884 | 代理人: | 杜蘭英 |
| 地址: | 430015 湖北省武漢市東西湖區(qū)*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 掛具退鍍 工藝 退鍍液 及其 方法 檢測 | ||
本發(fā)明公開了一種掛具退鍍工藝用的退鍍液及其退鍍方法、檢測方法,涉及金屬材料表面處理領(lǐng)域。其中,本發(fā)明的退鍍液,包括緩沖液、氧化劑、絡(luò)合劑和緩蝕劑,按重量份數(shù)計(jì),所述緩沖液33?45份,氧化劑32?40份,絡(luò)合劑12?14份,緩蝕劑8?13份,所述退鍍液的PH為5?7。本發(fā)明的退鍍液安全環(huán)保,無有害氣體產(chǎn)生,在近中性條件下操作,對操作者而言,安全友好;同時(shí),本發(fā)明的退鍍方法操作簡單,體系穩(wěn)定,成本低廉,對掛具不銹鋼鉤頭腐蝕極微,不傷掛具。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及金屬材料表面處理領(lǐng)域,具體涉及一種掛具退鍍工藝用的退鍍液及其退鍍方法、檢測方法。
背景技術(shù)
在電鍍生產(chǎn)過程中,掛具是最基礎(chǔ)的輔助工具,需要重復(fù)利用。各種鍍種,如銅鎳鉻、鎳鎳鉻、銅鎳代鉻、銅鎳槍色、銅鎳仿金、白銅錫、金銀等,掛具不銹鋼鉤頭上一定會沉積上金屬層。這種金屬層必須退除,為后續(xù)的電鍍件提供良好導(dǎo)電性。
傳統(tǒng)的掛具退鍍,是用硝酸浸泡的方法。缺點(diǎn)是:1.產(chǎn)生黃煙(一氧化氮、二氧化氮)污染環(huán)境。2.銅、鎳、錫等金屬離子不易沉降,造成資源浪費(fèi)。
市場上也有許多退鍍粉配成的退鍍液,有一些缺陷:1.PH值不穩(wěn)定,緩蝕劑使用不當(dāng)引起掛具腐蝕,電鍍廠損失嚴(yán)重;2.絡(luò)合劑使用不當(dāng),使退渡槽液濃稠,粘附在掛具上,影響退鍍效果。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供的一種掛具退鍍工藝用的退鍍液及其退鍍方法、檢測方法,旨在解決上述背景技術(shù)中存在的問題。
為了實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的,本發(fā)明主要采用如下技術(shù)方案:
一種掛具退鍍工藝用的退鍍液,包括緩沖液、氧化劑、絡(luò)合劑和緩蝕劑,按重量份數(shù)計(jì),所述緩沖液33-45份,氧化劑32-40份,絡(luò)合劑12-14份,緩蝕劑8-13份,所述退鍍液的PH為5-7。
優(yōu)選的,所述緩沖液為由醋酸鹽和銨鹽形成的緩沖液,所述緩沖液中,按重量份數(shù)計(jì),所述醋酸鹽15-20份,銨鹽18-25份。
進(jìn)一步的,所述醋酸鹽為醋酸鈉,所述銨鹽為硫酸銨。
優(yōu)選的,所述氧化劑為硝酸鈉。
本發(fā)明中,所述絡(luò)合劑對銅離子、鎳離子、鋅離子、三價(jià)鉻離子、鈷離子、錫離子具有絡(luò)合性,絡(luò)合劑選自檸檬酸鈉,酒石酸鉀鈉,乳酸鈉,丁二酸鈉,氨三乙酸鈉,甘氨酸,水楊酸鈉,半胱氨酸,羥基乙叉二膦酸二鈉(HEDP二鈉),乙二胺四甲叉膦酸鈉(EDTMPS),N,N'雙(羥乙基)乙二胺中的兩種或多種。
優(yōu)選的,所述絡(luò)合劑選自檸檬酸鈉,丁二酸鈉,氨三乙酸鈉,甘氨酸,羥基乙叉二膦酸二鈉(HEDP二鈉),乙二胺四甲叉膦酸鈉(EDTMPS),N,N'雙(羥乙基)乙二胺中的兩種或多種。
本發(fā)明中,所述緩蝕劑選自N,N二甲基十二烷基胺丙烷磺酸鹽、N,N二甲基芐基十二胺鹽、正辛酸單乙醇銨鹽、六次甲基四胺、羥乙基單丙炔醇醚、羥乙基單丁炔二醇醚中的兩種或多種。
優(yōu)選的,所述退鍍液的PH為6-6.5。
本發(fā)明還提供了一種電解退鍍方法,包括使用上述的退鍍液,對表面鍍有膜層的掛具進(jìn)行電解退鍍,包括如下步驟:將鍍有膜層的掛具作為陽極、把不銹鋼電極材料作為陰極共同放置在濃度為120-150g/L的電解退鍍液中,退鍍溫度為25-40℃,退鍍時(shí)陽極電流密度為5-10A/d㎡。
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