[發(fā)明專利]TOPCON太陽能電池背面結(jié)構(gòu)制備方法及電池在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210759245.7 | 申請日: | 2022-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN115101626A | 公開(公告)日: | 2022-09-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 沈健;趙福祥 | 申請(專利權(quán))人: | 韓華新能源(啟東)有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/0216;H01L31/068 |
| 代理公司: | 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103 | 代理人: | 樊曉娜 |
| 地址: | 226200 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | topcon 太陽能電池 背面 結(jié)構(gòu) 制備 方法 電池 | ||
1.一種TOPCON太陽能電池背面結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
在硅基體的背面由內(nèi)向外依次生長隧穿氧化層、摻雜納米晶氧化硅層、鈍化層,再制備背面金屬電極,其中,在所述的隧穿氧化層上沉積所述的摻雜納米晶氧化硅層的步驟為:在反應(yīng)爐中通入反應(yīng)氣體,反應(yīng)氣體包括磷烷、乙硼烷中的一種以及硅烷、氫氣、二氧化碳,待反應(yīng)結(jié)束后,進(jìn)行退火,完成晶化得到所述的摻雜納米晶氧化硅層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的TOPCON太陽能電池背面結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,在反應(yīng)爐中通入反應(yīng)氣體進(jìn)行反應(yīng)的時間為300-700s。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的TOPCON太陽能電池背面結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,當(dāng)所述的硅基體為N型晶體硅,所述的反應(yīng)氣體為磷烷、硅烷、氫氣、二氧化碳,所述的硅烷的流量為3.5-4.5sccm,所述的氫氣的流量為450-550sccm,所述的二氧化碳的流量為1-3sccm,所述的磷烷的流量為0.07-0.09sccm;
當(dāng)所述的硅基體為P型晶體硅,所述的反應(yīng)氣體為乙硼烷、硅烷、氫氣、二氧化碳,所述的硅烷的流量為8-10sccm,所述的氫氣的流量為800-1000sccm,所述的二氧化碳的流量為1-3sccm,所述的乙硼烷的流量為0.008-0.010sccm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的TOPCON太陽能電池背面結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,通過PECVD設(shè)備在所述的隧穿氧化層上生長所述的摻雜納米晶氧化硅層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的TOPCON太陽能電池背面結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,所述的PECVD設(shè)備使用的壓力為1-2Torr,射頻功率為30-70mW/cm2,溫度為100-120℃。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的TOPCON太陽能電池背面結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,在所述的隧穿氧化層上沉積所述的摻雜納米晶氧化硅層的步驟中,待反應(yīng)結(jié)束后,在溫度850℃-1000℃下進(jìn)行退火;退火時間為15-30min。
7.一種由權(quán)利要求1至6任意一項(xiàng)所述的TOPCON太陽能電池背面結(jié)構(gòu)的制備方法制備得到的TOPCON太陽能電池背面結(jié)構(gòu),其特征在于,硅基體的背面由內(nèi)向外依次設(shè)置隧穿氧化層、摻雜納米晶氧化硅層、鈍化層、背面金屬電極,所述的硅基體為N形硅基體或P形硅基體,所述的隧穿氧化層的材質(zhì)為二氧化硅,所述的摻雜納米晶氧化硅層的材質(zhì)包括摻雜元素、SiOX、納米晶硅,摻雜元素包括磷或硼。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的TOPCON太陽能電池背面結(jié)構(gòu),其特征在于,所述的摻雜納米晶氧化硅層的厚度為30-100nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的TOPCON太陽能電池背面結(jié)構(gòu),其特征在于,所述的摻雜納米晶氧化硅層的厚度為30-50nm。
10.一種太陽能電池,其特征在于:包括權(quán)利要求7-9中任意一項(xiàng)所述的TOPCON太陽能電池背面結(jié)構(gòu)。
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H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
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