[發明專利]一種用于高功率脈沖磁控濺射的裝置及方法

有效

• 申請號: 202210751230.6
• 申請日: 2022-06-28
• 公開（公告）號: CN114921764B
• 公開（公告）日: 2023-09-22
• 發明（設計）人: 田修波;柏賀達
• 申請（專利權）人: 松山湖材料實驗室
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京超凡宏宇知識產權代理有限公司 11463
• 代理人: 賈耀斌

1.一種用于高功率脈沖磁控濺射的裝置，其特征在于，包括磁控靶及兩個電磁鐵，所述磁控靶為磁控陰極，所述電磁鐵的面積相等，但供電相互獨立，兩個所述電磁鐵分別平行放置于所述磁控靶靶面的兩側，兩個所述電磁鐵的極性始終保持相反狀態，每個所述電磁鐵由至少兩個面積相等的分磁鐵組成，所述至少兩個分磁鐵的磁場強度不等，但極性相同，所述電磁鐵連接電磁鐵電源，所述電磁鐵電源用于調控所述電磁鐵的磁極及產生的磁場強度，使所述兩個電磁鐵的極性在N極和S極之間周期性變化和/或使磁場強度進行周期性的變化。

2.一種用于高功率脈沖磁控濺射的裝置，其特征在于，包括磁控靶及大于二的偶數個的電磁鐵和環形托盤，所述環形托盤與所述磁控靶圓心重合，所述磁控靶為磁控陰極，所述電磁鐵的面積相等，但供電相互獨立，所述電磁鐵環繞所述磁控靶的靶面設置，且相鄰兩個所述電磁鐵的極性均相反，所述電磁鐵連接電磁鐵電源，所述電磁鐵電源用于調控所述電磁鐵的磁極及產生的磁場強度，使所述大于二的偶數個的兩個電磁鐵的極性在N極和S極之間周期性變化和/或使磁場強度進行周期性的變化。

3.根據權利要求2所述的用于高功率脈沖磁控濺射的裝置，其特征在于，所述電磁鐵的數量為四個，四個所述電磁鐵設于所述環形托盤上，且相鄰兩個所述電磁鐵之間的距離相等，相鄰兩個所述電磁鐵的極性均相反，所述環形托盤用于帶動設于其上的所述電磁鐵圍繞所述磁控靶的圓心進行旋轉。

4.一種用于高功率脈沖磁控濺射的方法，其特征在于，包括：

提供一磁控陰極靶及兩個電磁鐵，所述電磁鐵的面積相等，但供電相互獨立；

將所述兩個所述電磁鐵分別平行放置于所述磁控靶靶面的兩側，兩個所述電磁鐵的極性始終保持相反狀態，每個所述電磁鐵由至少兩個面積相等的分磁鐵組成，所述至少兩個分磁鐵的磁場強度不等，但極性相同；

所述電磁鐵連接電磁鐵電源；

所述電磁鐵電源用于調控所述電磁鐵的磁極及產生的磁場強度，使所述兩個電磁鐵的極性在N極和S極之間周期性變化和/或使磁場強度進行周期性的變化。

5.一種用于高功率脈沖磁控濺射的方法，其特征在于，包括：

提供一磁控陰極靶及大于二偶數個的電磁鐵和環形托盤，所述電磁鐵的面積相等，但供電相互獨立；

將所述電磁鐵環繞所述磁控靶的靶面設置，且相鄰兩個所述電磁鐵的極性均相反，所述環形托盤與所述磁控靶圓心重合；

所述電磁鐵連接電磁鐵電源，所述電磁鐵電源用于調控所述電磁鐵的磁極及產生的磁場強度，使所述大于二偶數個的電磁鐵的極性在N極和S極之間周期性變化和/或使磁場強度進行周期性的變化。

6.根據權利要求4或5所述的方法，其特征在于，所述電磁鐵的寬度大于所述磁控陰極靶的靶面寬度。

7.根據權利要求4或5所述的方法，其特征在于，每個所述電磁鐵與所述磁控陰極靶之間的距離相等。