[發明專利]拋光機

在審

• 申請號: 202210748697.5
• 申請日: 2022-06-28
• 公開（公告）號: CN115026705A
• 公開（公告）日: 2022-09-09
• 發明（設計）人: 吳倩;鄭金龍;王金靈;周鐵軍
• 申請（專利權）人: 廣東先導微電子科技有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B57/02;B24B41/00
• 代理公司: 北京五洲洋和知識產權代理事務所(普通合伙) 11387
• 代理人: 張向琨

提供一種拋光機，其包括底座、拋盤以及泡沫發生器，底座能夠旋轉，底座具有收容凹部，收容凹部用于收容待拋材料；拋盤能夠旋轉，拋盤具有周壁、底壁以及多個拋光顆粒，周壁和底壁圍成腔體，底壁具有沿上下方向貫通的多個通孔，多個拋光顆粒固定在底壁的平的下表面上并與多個通孔的開口間隔開，多個拋光顆粒用于在拋盤旋轉過程中對待拋材料進行表面拋光；泡沫發生器用于使拋光液形成泡沫且形成的泡沫經由多個通孔的開口流出到對待拋材料的表面上。由于形成的泡沫經由多個通孔的開口流出到對待拋材料的表面上，這樣使得泡沫能夠更為均勻地分布到待拋光的表面的各個部位而不會受到拋光顆粒在徑向上的任何阻擋，提高了拋光液所形成的泡沫的拋光作用。

技術領域

本公開涉及材料表面處理領域，更具體地涉及一種拋光機。

背景技術

隨著電子科技的發展，砷化鎵已經成為半導體行業中一種不可或缺的材料，其禁帶寬度為1.4電子伏，因其具有良好的電性能優勢，常被用來制作襯底、紅外探測器等電子器件。在砷化鎵襯底的制作工藝中，拋光是一道承前啟后的重要工序，此工序直接決定了晶片襯底表面精度的大小，拋光質量的好壞直接影響晶片的成品率。

需要拋光時，需要拋光的晶片正面接觸拋光墊，拋光液源源不斷的噴向陶瓷盤底部收容的晶片和拋光墊之間，由于旋轉的拋光墊的旋轉，晶片與拋光墊之間的間隙非常小，拋光液進入到間隙的中央部位變得困難，這不利于拋光液的與晶片表面發生反應的拋光作用，這種方式可能導致單面拋光的晶片的背面吸附拋光液，這種情況需要重復上一道工序進行修復，增加了一定的成本。此外，這種方式導致拋光液的用量大。此外，噴射的拋光液四處漫流，不利用操作環境保護。

發明內容

鑒于背景技術中存在的問題，本公開的目的在于提供一種拋光機，其至少能提高拋光液在待拋材料表面上的均勻分布。

由此，在一些實施例中，一種拋光機包括底座、拋盤以及泡沫發生器，底座能夠旋轉，底座具有收容凹部，收容凹部用于收容待拋材料；拋盤能夠旋轉，拋盤具有周壁、底壁以及多個拋光顆粒，周壁和底壁圍成腔體，底壁具有沿上下方向貫通的多個通孔，多個拋光顆粒固定在底壁的平的下表面上并與多個通孔的開口間隔開，多個拋光顆粒用于在拋盤旋轉過程中對待拋材料進行表面拋光；泡沫發生器用于使拋光液形成泡沫且形成的泡沫經由多個通孔的開口流出到對待拋材料的表面上。

在一些實施例中，徑向相鄰的拋光顆粒之間分布有通孔，周向相鄰的拋光顆粒之間分布有通孔。

在一些實施例中，各拋光顆粒在上下方向的高度為4μm-6μm；各通孔的直徑為3μm-4μm。

在一些實施例中，底座的旋轉方向和拋盤的旋轉方向相反。

在一些實施例中，底座的旋轉速度小于拋盤的旋轉速度。

在一些實施例中，底座的材料為能夠彈性伸縮的橡膠材料；收容凹部的尺寸設置成收容凹部的周面夾緊待拋材料并收容凹部的周面與待拋材料200 的周面形成密封。

在一些實施例中，拋光液含有氧化劑；待拋材料為晶片。

在一些實施例中，拋光機還包括磁吸機構，磁吸機構將多個拋光顆粒通過磁性吸引而固定在底壁的下表面上。

在一些實施例中，拋光機還包括保護罩，保護罩在將底座、拋盤以及泡沫發生器封閉在其內，保護罩的內周面與底座間隔開，保護罩的底部、保護罩的內周面和底座之間形成收容空間，收容空間用于收容拋光過程中從待拋材料的表面上拋出的材料屑和破碎的泡沫。

在一些實施例中，保護罩為玻璃罩。

本公開的有益效果如下：與背景技術中從旋轉的拋盤和底座之間的外部噴射拋光液、拋光液在徑向上受到阻擋進入拋盤和底座之間的中央較為困難相比，由于形成的泡沫經由多個通孔的開口流出到對待拋材料的表面上，這樣使得泡沫能夠更為均勻地分布到待拋光的表面的各個部位而不會受到拋光顆粒在徑向上的任何阻擋，提高了拋光液所形成的泡沫的拋光作用。