[發明專利]基于多維超復數連續正交矩的光場圖像零水印方法及系統

在審

• 申請號: 202210735984.2
• 申請日: 2022-06-27
• 公開（公告）號: CN115082280A
• 公開（公告）日: 2022-09-20
• 發明（設計）人: 王春鵬;張清華;夏之秋;馬賓;周琳娜;張強;李琦;李健;韓冰;王曉雨
• 申請（專利權）人: 齊魯工業大學
• 主分類號: G06T1/00
• 分類號: G06T1/00
• 代理公司: 濟南圣達知識產權代理有限公司 37221
• 代理人: 趙妍

1.基于多維超復數連續正交矩的光場圖像零水印方法，其特征在于，包括：

響應于零水印構造指令，獲取四維光場圖像，根據四維光場圖像的結構特點選取超復數，并獲得若干種多維超復數連續正交矩，通過光場圖像零水印算法對所述四維光場圖像進行處理，得到若干種二值特征圖像，并將每種二值特征圖像變換加密，得到光場零水印圖像；

響應于零水印驗證指令，獲取待驗證四維光場圖像，采用零水印構造過程中的超復數和若干種多維超復數連續正交矩，通過光場圖像零水印算法對所述待驗證四維光場圖像進行處理，得到若干種待驗證二值特征圖像，并將零水印構造過程中得到的光場零水印圖像進行逆變換解密后，與所述待驗證二值特征圖像，進行一致性計算。

2.如權利要求1所述的基于多維超復數連續正交矩的光場圖像零水印方法，其特征在于，所述光場圖像零水印算法采用的階數和重復度的范圍與選取的多維超復數連續正交矩相關。

3.如權利要求2所述的基于多維超復數連續正交矩的光場圖像零水印方法，其特征在于，所述光場圖像零水印算法的具體步驟為：

基于所述超復數和多維超復數連續正交矩，計算四維光場圖像的多維超復數張量；

基于所述四維光場圖像的多維超復數張量，構造幅值張量；

將幅值張量二值化，得到四維二值特征張量；

對四維二值特征張量進行轉換，得到二值特征圖像。

4.如權利要求3所述的基于多維超復數連續正交矩的光場圖像零水印方法，其特征在于，所述構造幅值張量的具體方法為：

對所述四維超復數張量取范數，得到包含若干個幅值的幅值張量；

基于幅值的個數，判斷是否滿足零水印容量，若不滿足，則將幅值張量的最后兩維復制并擴展；若超過容量，則截取幅值張量最后兩維的幅值。

5.如權利要求3所述的基于多維超復數連續正交矩的光場圖像零水印方法，其特征在于，所述四維光場圖像的多維超復數張量為：

其中，C是一個常數；f^L(u,v,r,θ)表示四維光場圖像f^L(u,v,s,t)的極坐標形式；n和m分別代表階數和重復度；是基函數B_nm(r,θ)的共軛。

6.如權利要求5所述的基于多維超復數連續正交矩的光場圖像零水印方法，其特征在于，所述基函數表示為：

B_nm(r,θ)＝R_n(r)exp(μmθ)

其中，R_n(r)是徑向基函數，exp(μmθ)是角度傅里葉因子，μ是超復數。

7.如權利要求1所述的基于多維超復數連續正交矩的光場圖像零水印方法，其特征在于，所述一致性為正碼率和歸一化相關性的比值。

8.基于多維超復數連續正交矩的光場圖像零水印系統，其特征在于，包括：

零水印構造模塊，其被配置為：響應于零水印構造指令，獲取四維光場圖像，根據四維光場圖像的結構特點選取超復數，并獲得若干種多維超復數連續正交矩，通過光場圖像零水印算法對所述四維光場圖像進行處理，得到若干種二值特征圖像，并將每種二值特征圖像變換加密，得到光場零水印圖像；

零水印驗證模塊，其被配置為：響應于零水印驗證指令，獲取待驗證四維光場圖像，采用零水印構造過程中的超復數和若干種多維超復數連續正交矩，通過光場圖像零水印算法對所述待驗證四維光場圖像進行處理，得到若干種待驗證二值特征圖像，并將零水印構造過程中得到的光場零水印圖像進行逆變換解密后，與所述待驗證二值特征圖像，進行一致性計算。

9.一種計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機程序，其特征在于，該程序被處理器執行時實現如權利要求1-7中任一項所述的基于多維超復數連續正交矩的光場圖像零水印方法中的步驟。

10.一種計算機設備，包括存儲器、處理器及存儲在存儲器上并可在處理器上運行的計算機程序，其特征在于，所述處理器執行所述程序時實現如權利要求1-7中任一項所述的基于多維超復數連續正交矩的光場圖像零水印方法中的步驟。