[發明專利]異質結電池的加工方法在審
| 申請號: | 202210731242.2 | 申請日: | 2022-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN115117183A | 公開(公告)日: | 2022-09-27 |
| 發明(設計)人: | 夏益民;其他發明人請求不公開姓名 | 申請(專利權)人: | 三一集團有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0224 | 分類號: | H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/072;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 鄭朝然 |
| 地址: | 410100 湖南省長沙市*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 異質結 電池 加工 方法 | ||
1.一種異質結電池的加工方法,其特征在于,包括:
在基底的工作面依次形成鈍化層和傳輸層;
在所述傳輸層的表面形成透明導電層;
在所述透明導電層的表面形成金屬種子層;
在所述金屬種子層的表面形成掩膜,所述掩膜為含硅無機化合物;
去除部分所述掩膜,露出部分所述金屬種子層,形成電極柵線圖形;
在所述電極柵線圖形處形成電極;
去除剩余的所述掩膜;
去除所述電極柵線圖形外的所述金屬種子層。
2.根據權利要求1所述的異質結電池的加工方法,其特征在于,所述掩膜為SiNx、SiOx、SiC中的一種或多種。
3.根據權利要求1所述的異質結電池的加工方法,其特征在于,所述掩膜的厚度為5納米-30微米。
4.根據權利要求1所述的異質結電池的加工方法,其特征在于,所述去除剩余的所述掩膜,包括:
使用HF溶液去除剩余的所述掩膜。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的異質結電池的加工方法,其特征在于,
所述在所述傳輸層的表面形成透明導電層,包括:通過PVD設備在所述傳輸層的表面沉積出透明導電層;
所述在所述透明導電層的表面形成金屬種子層,包括:通過同一臺所述PVD設備在所述透明導電層的表面沉積出金屬種子層;
所述在所述金屬種子層的表面形成掩膜,包括:通過同一臺所述PVD設備在所述金屬種子層的表面沉積出掩膜。
6.根據權利要求1-4中任一項所述的異質結電池的加工方法,其特征在于,所述去除所述電極柵線圖形外的所述金屬種子層,包括:
通過濕法腐蝕去除所述電極柵線圖形外的所述金屬種子層,且反應時間為10秒-1000秒。
7.根據權利要求6所述的異質結電池的加工方法,其特征在于,所述濕法腐蝕采用的溶液為氫氧化鈉溶液、氨水/過氧化氫溶液、過硫酸銨溶液、三氯化鐵溶液、磷酸/硝酸溶液中的至少一種。
8.根據權利要求1-4中任一項所述的異質結電池的加工方法,其特征在于,所述金屬種子層為Cu、Sn、Ni、In、Ti、W、Cr、Co、Mo、Al中的至少一種,且厚度為5納米-200納米。
9.根據權利要求8所述的異質結電池的加工方法,其特征在于,所述電極的材料與所述金屬種子層的材料相同。
10.根據權利要求8所述的異質結電池的加工方法,其特征在于,所述電極包括第一層和第二層,所述第一層位于所述金屬種子層與所述第二層之間,且所述第一層為Cu,所述第二層為Ag,所述金屬種子層為Ni。
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H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





