[發明專利]一種立式雙溫區-雙通道化學氣相沉積設備有效
| 申請號: | 202210726752.0 | 申請日: | 2022-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN115094402B | 公開(公告)日: | 2023-04-11 |
| 發明(設計)人: | 黃曉青;張松;王鵬飛;張輝;王冬;劉爽 | 申請(專利權)人: | 清華大學;錦州市三特真空冶金技術工業有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/46 | 分類號: | C23C16/46;C23C16/26 |
| 代理公司: | 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319 | 代理人: | 茍冬梅 |
| 地址: | 100084*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 立式 雙溫區 雙通道 化學 沉積 設備 | ||
1.一種立式雙溫區-雙通道化學氣相沉積設備,其特征在于,包括:
沉積爐,所述沉積爐內包括介質容置區,所述介質容置區將所述沉積爐的內部腔室劃分為上加熱區和下加熱區;所述介質容置區用于容置多孔介質,所述多孔介質用于沉積制備復合材料;所述沉積爐包括爐殼和內膽,所述內膽的內部腔室構成所述沉積爐的內部腔室;
第一加熱體,用于對所述上加熱區進行加熱,以對所述多孔介質面向所述上加熱區的一端進行加熱;
第二加熱體,用于對所述下加熱區進行加熱,以對所述多孔介質面向所述下加熱區的一端進行加熱;
其中,在沉積階段時,所述第一加熱體的功率不同于所述第二加熱體的功率,以使所述多孔介質的上下兩端的溫度不同形成溫差;
其中,所述第一加熱體呈“幾”字型環繞在所述上加熱區,和/或,所述第二加熱體呈“幾”字型環繞在所述下加熱區;
第一管路,與所述沉積爐的內部腔室連通,用于向所述沉積爐的內部腔室輸入氣態原材料,所述氣態原材料用于在所述多孔介質發生沉積得到所述復合材料;
第二管路,與所述沉積爐的內部腔室連通,用于將所述沉積爐的內部腔室的氣體輸出到所述沉積爐的外部。
2.根據權利要求1所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,所述第二管路包括位于所述沉積爐上部的第一子管路和位于所述沉積爐下部的第二子管路。
3.根據權利要求2所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,所述第一管路位于所述沉積爐的下部,所述第二子管路套設在所述第一管路外,且所述第二子管路與所述第一管路之間具有間隙。
4.根據權利要求1所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,還包括:
混氣預熱腔體,位于所述沉積爐的下部;
所述混氣預熱腔體的一端與所述第一管路連通,另一端與所述沉積爐的內部腔室連通,用于對所述氣態原材料進行預熱。
5.根據權利要求4所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,所述混氣預熱腔體的內部間隔設置有多個分氣擋板,每個所述分氣擋板上開設有多個孔隙。
6.根據權利要求1所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,在所述爐殼和所述內膽之間填充有軟氈。
7.根據權利要求6所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,所述內膽的上段為坩堝、中段為剛玉、下段為所述坩堝;
所述內膽的上蓋和下蓋均為所述剛玉;在所述上加熱區、所述下加熱區以及所述介質容置區中均設置有環繞所述內膽壁的硬氈。
8.根據權利要求7所述的化學氣相沉積設備,其特征在于,所述上加熱區的硬氈、所述下加熱區的硬氈以及所述介質容置區中的硬氈所形成的內部腔室呈對稱的漏斗形。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





