[發明專利]一種近紅外雙光子光敏染料IMBDP-Lys及其制備方法和應用

在審

• 申請號: 202210720552.4
• 申請日: 2022-06-23
• 公開（公告）號: CN115010738A
• 公開（公告）日: 2022-09-06
• 發明（設計）人: 錢鷹;劉瑞波;劉苗;劉巴蒂
• 申請（專利權）人: 東南大學
• 主分類號: C07F5/02
• 分類號: C07F5/02;C09B23/10;A61K41/00;A61K47/54;A61K49/00;A61P35/00;A61P35/04
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 王艷

本發明公開了一種近紅外雙光子光敏染料IMBDP?Lys及其制備方法和應用，所述雙光子光敏染料IMBDP?Lys包含吲哚?氟硼二吡咯共軛結構及雙溶酶體靶向基團。所述近紅外雙光子光敏染料IMBDP?Lys的制備方法是由吲哚氟硼二吡咯IMBDP與1?（2?嗎啉代乙基）?1H?吲哚?3?甲醛在哌啶催化下反應制得。所述近紅外雙光子光敏染料IMBDP?Lys的應用是在近紅外光照射下，近紅外雙光子光敏染料IMBDP?Lys能高效釋放單線態氧，誘導腫瘤細胞凋亡，抑制腫瘤細胞遷移。作為性能優異的近紅外波段雙光子光敏染料，在近紅外波段雙光子熒光成像、熒光標記及雙光子光動力治療方面具有廣泛應用。

技術領域

本發明屬于光敏染料技術領域，具體涉及一種近紅外雙光子光敏染料IMBDP-Lys及其制備方法和應用。

背景技術

在光激發下，光敏染料通過光控能量轉移在腫瘤部位產生單線態氧。單線態氧對腫瘤細胞具有高毒性，能促進腫瘤組織細胞的凋亡，實現腫瘤細胞的光動力治療。溶酶體是細胞內重要的細胞器，破壞溶酶體的膜結構會導致細胞凋亡。光動力學治療具有選擇性好、組織創傷小、易于控制等優勢，適用范圍廣泛。但現有技術中絕大多數用于光動力治療的光敏染料位于可見光區域，生物相容性差，且缺少靶向基團，難以滿足生物體系光動力治療的要求，極大地限制了其應用范圍。

近紅外雙光子光敏染料可以有效減少光損傷，在生物組織中穿透力強，安全可靠；溶酶體靶向基團可以增強光動力治療效果。因此，設計制備性能優異、具有溶酶體靶向基團的近紅外雙光子光敏染料是近期的研究熱點。

發明內容

發明目的：本發明所要解決的技術問題是提供了一種雙光子熒光性能優異、單線態氧產率高、雙溶酶體靶向的近紅外雙光子光敏染料IMBDP-Lys。

本發明還要解決的技術問題是提供上述近紅外雙光子光敏染料IMBDP-Lys的制備方法。

本發明還要解決的技術問題是提供上述近紅外雙光子光敏染料IMBDP-Lys在作為雙光子光動力治療光敏劑中的應用。

本發明最后要解決的技術問題是提供了上述雙光子光敏染料IMBDP-Lys在近紅外波段雙光子熒光成像或熒光標記中的應用。

技術方案：為了解決上述技術問題，本發明提供了一種近紅外雙光子光敏染料IMBDP-Lys，包括如下結構式：

其中，所述染料IMBDP-Lys包括吲哚氟硼二吡咯IMBDP與1-(2-嗎啉代乙基)-1H-吲哚-3-甲醛制備而成，所述吲哚氟硼二吡咯IMBDP結構式如下：

本發明內容還包括一種近紅外雙光子光敏染料IMBDP-Lys的制備方法，包括以下步驟：惰性氣體保護和100～110℃下，吲哚氟硼二吡咯IMBDP與1-(2-嗎啉代乙基)-1H-吲哚-3-甲醛在哌啶催化下反應6～8h，柱色譜提純，得到所述近紅外雙光子光敏染料。

本發明的近紅外雙光子光敏染料IMBDP-Lys的產率為26％～37％。

其中，所述吲哚氟硼二吡咯IMBDP、1-(2-嗎啉代乙基)-1H-吲哚-3-甲醛的摩爾比為1∶1.3～1∶2。

本發明內容還包括近紅外雙光子光敏染料IMBDP-Lys在作為雙光子光動力治療光敏劑中的應用。

其中，所述應用為對腫瘤細胞的光動力治療。

本發明內容還包括所述的近紅外雙光子光敏染料IMBDP-Lys在近紅外波段雙光子熒光成像和熒光標記中的應用。