[發(fā)明專利]一種二維細(xì)胞圖案化的構(gòu)建方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210714820.1
• 申請(qǐng)日: 2022-06-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN115322987A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-11-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 任探琛;朱旸;周徐昊;米日巴尼·買吐松
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 浙江大學(xué)
• 主分類號(hào): C12N13/00
• 分類號(hào): C12N13/00;C12N5/071;C12N5/09;C12N5/077
• 代理公司: 上海統(tǒng)攝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31303
• 代理人: 杜亞

1.一種二維細(xì)胞圖案化的構(gòu)建方法，其特征在于，將粘附型細(xì)胞的細(xì)胞懸液I加入到細(xì)胞培養(yǎng)容器中，在特定磁場(chǎng)下進(jìn)行靜置培養(yǎng)至細(xì)胞貼壁，得到二維圖案α；

所述粘附型細(xì)胞的細(xì)胞懸液I中含有順磁劑；

所述特定磁場(chǎng)是指使得細(xì)胞培養(yǎng)容器內(nèi)的細(xì)胞粘附基底的上表面存在區(qū)域A的磁場(chǎng)，區(qū)域A是指位于其上方的細(xì)胞所受到的向上的磁力和向上的浮力之和大于所受到的向下的重力的區(qū)域；

所述區(qū)域A的最大內(nèi)切圓直徑不小于20μm；

所述二維圖案α是由所述粘附型細(xì)胞的細(xì)胞懸液I中的細(xì)胞集中貼附在細(xì)胞培養(yǎng)容器內(nèi)的細(xì)胞粘附基底的上表面的區(qū)域B中形成的；

所述區(qū)域B的面積不小于單個(gè)細(xì)胞橫截面積的1/2；

所述區(qū)域A與所述區(qū)域B共同構(gòu)成細(xì)胞培養(yǎng)容器內(nèi)的細(xì)胞粘附基底的上表面的區(qū)域。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二維細(xì)胞圖案化的構(gòu)建方法，其特征在于，所述粘附型細(xì)胞的細(xì)胞懸液I的細(xì)胞密度為10²/ml～10⁸/ml；所述靜置培養(yǎng)的時(shí)間不小于1小時(shí)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二維細(xì)胞圖案化的構(gòu)建方法，其特征在于，所述細(xì)胞培養(yǎng)容器為微流道、培養(yǎng)皿、培養(yǎng)瓶或培養(yǎng)板；所述微流道由玻璃、石英、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚氯乙烯中的一種以上構(gòu)成；所述微流道的橫截面為矩形，長(zhǎng)度為10μm～1cm，寬度為10μm～1cm；所述微流道的有效流動(dòng)路徑的長(zhǎng)度大于500μm；所述微流道至少有一個(gè)進(jìn)口和一個(gè)出口，通過(guò)管道和外界相連，進(jìn)口和出口橫截面的等效圓直徑小于等于其所在的流道寬度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二維細(xì)胞圖案化的構(gòu)建方法，其特征在于，所述細(xì)胞培養(yǎng)容器內(nèi)的細(xì)胞粘附基底的上表面為平面、凹凸不平的面或帶有微米級(jí)拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的面。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二維細(xì)胞圖案化的構(gòu)建方法，其特征在于，所述特定磁場(chǎng)是通過(guò)在細(xì)胞培養(yǎng)容器的底部下方安置磁鐵a形成的。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種二維細(xì)胞圖案化的構(gòu)建方法，其特征在于，所述磁鐵a為最大磁感應(yīng)強(qiáng)度為1000Gs～2T的永磁體。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種二維細(xì)胞圖案化的構(gòu)建方法，其特征在于，所述磁鐵a的數(shù)量為2個(gè)以上，相鄰磁鐵a極性相反；所述磁鐵a的形狀為圓柱、棱柱、空心柱、球和異形中的一種或兩種以上的組合。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二維細(xì)胞圖案化的構(gòu)建方法，其特征在于，所述粘附型細(xì)胞的細(xì)胞懸液I中順磁劑的濃度為1～500mM。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種二維細(xì)胞圖案化的構(gòu)建方法，其特征在于，所述二維圖案α為點(diǎn)陣、條帶、環(huán)形、放射狀、螺旋狀、字母或數(shù)字圖案。

10.根據(jù)權(quán)利要求1～9任一項(xiàng)所述的一種二維細(xì)胞圖案化的構(gòu)建方法，其特征在于，得到二維圖案α之后，還更換培養(yǎng)基后進(jìn)行流動(dòng)培養(yǎng)。