[發明專利]一種一體式真空斷路器模塊

在審

• 申請號: 202210705031.1
• 申請日: 2022-06-21
• 公開（公告）號: CN114927370A
• 公開（公告）日: 2022-08-19
• 發明（設計）人: 顏麗琴;吳廣軍;王紅艷;鄭文福
• 申請（專利權）人: 愛啟（廈門）電氣技術有限公司
• 主分類號: H01H33/662
• 分類號: H01H33/662;H01H33/664;H01H31/02
• 代理公司: 廈門納益維知專利代理事務所(普通合伙) 35273
• 代理人: 黃華

1.一種一體式真空斷路器模塊，其特征在于：包括絕緣殼體、連接導體、隔離開關組件及真空開關組件；

所述絕緣殼體中設置有上空腔和下空腔；

所述連接導體包括互相導通的上導體和下導體，所述上導體位于所述上空腔中，所述下導體位于所述下空腔中；

所述隔離開關組件包括依次設置于所述上空腔中的接地端蓋、絲桿機構、隔離觸頭及上出線導體，所述隔離觸頭設置于所述上導體中，并通過所述絲桿機構帶動與所述接地端蓋和上出線導體導通；

所述真空開關組件包括依次設置于所述下空腔中的拉桿機構、真空滅弧室及下出線導體，所述拉桿機構與真空滅弧室相連接，所述下出線導體與真空滅弧室相導通。

2.如權利要求1所述的一種一體式真空斷路器模塊，其特征在于：所述上空腔包括相互連通的接地腔室、隔離腔室及合閘腔室，所述接地腔室的端口處設置有所述接地端蓋，所述上導體設置于所述隔離腔室中，所述絕緣殼體中設置有與所述合閘腔室相通的上出線座，所述上出線導體安裝于所述上出線座中。

3.如權利要求2所述的一種一體式真空斷路器模塊，其特征在于：所述合閘腔室中設置有中空結構的隔離筒，所述隔離筒的左右端分別設置有左壓環和右壓環，所述上導體通過所述左壓環固定，所述上出線導體通過所述右壓環固定，所述左壓環與隔離筒、上導體之間分別設置有第一密封圈，所述右壓環與隔離筒、上出線導體之間分別設置有第二密封圈。

4.如權利要求2所述的一種一體式真空斷路器模塊，其特征在于：所述絲桿機構包括螺桿和絲桿副，所述螺桿設置于所述接地端蓋上，并伸入所述接地腔室、隔離腔室及合閘腔室中，所述絲桿副設置于所述隔離觸頭中，并與所述螺桿相配合，所述螺桿通過絲桿副帶動所述隔離觸頭在所述接地端蓋和上出線導體之間移動。

5.如權利要求4所述的一種一體式真空斷路器模塊，其特征在于：所述絲桿機構還包括第三密封圈、安裝座及密封座，所述接地端蓋的前后兩側分別設置有接地柱體和密封凹槽，所述接地柱體插入所述接地腔室中，且在所述接地柱體與接地腔室之間設置有所述第三密封圈，所述螺桿設置于所述安裝座上，所述安裝座設置于所述接地端蓋的前側，所述密封座設置于密封凹槽中，所述密封座為中空環形結構，其內環設置有內唇邊、外環設置于外唇邊，所述內唇邊與螺桿相密封，所述外唇邊與安裝座相密封。

6.如權利要求2所述的一種一體式真空斷路器模塊，其特征在于：所述上導體和下導體為T字形的一體式結構，所述上導體為中空的筒狀結構，所述上導體的內壁中設置有導向塊，所述隔離觸頭上設置有沿其長度方向的導向槽，所述導向槽與導向塊滑動配合。

7.如權利要求2所述的一種一體式真空斷路器模塊，其特征在于：所述下空腔包括相互連通的導通腔室和滅弧腔室，所述下導體位于所述導通腔室中，所述下導體上設置有導電座，所述拉桿機構上設置有軟連接，所述拉桿機構的一端穿過所述導電座，并通過所述軟連接與導電座相導通，所述絕緣殼體上設置有與所述滅弧腔室相通的下出線座，所述下出線導體安裝于所述下出線座中。

8.如權利要求7所述的一種一體式真空斷路器模塊，其特征在于：所述拉桿機構包括拉動桿、壓板、安裝板及密封件，所述壓板、安裝板及密封件分別穿設于所述拉動桿中，所述壓板固設于開關柜的操作板上，所述密封件位于所述壓板和安裝板之間，所述密封件包括密封本體、前密封部及后密封部，所述密封本體為可伸縮的波紋狀結構，所述密封本體的前后兩端分別設置有所述前密封部和后密封部，所述前密封部與安裝板相密封，所述后密封部與壓板相密封。

9.如權利要求7所述的一種一體式真空斷路器模塊，其特征在于：所述隔離筒的兩端分別設置有第一屏蔽罩，所述上導體的側邊設置有第二屏蔽罩，所述下空腔中的設置有第三屏蔽罩，所述第一屏蔽罩和第二屏蔽罩均為筒狀結構，所述第三屏蔽罩包括一體結構的第一罩體和第二罩體，所述第一罩體包覆在所述下導體和導電座外，所述第二罩體包覆在所述真空滅弧室的側邊。

10.如權利要求7所述的一種一體式真空斷路器模塊，其特征在于：所述絕緣殼體采用環氧樹脂材料制成，所述絕緣殼體的表面涂覆有半導體涂層，所述上空腔和下空腔并排設置，所述合閘腔室和滅弧腔室之間互相隔開，并在所述合閘腔室和滅弧腔室之間設置有加強部，所述加強部中設置有插口。