[發(fā)明專利]移動設備消毒

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210700203.6
• 申請日: 2019-06-10
• 公開（公告）號: CN115177754A
• 公開（公告）日: 2022-10-14
• 發(fā)明（設計）人: D·W·巴曼
• 申請（專利權）人: UV合伙有限公司
• 主分類號: A61L2/10
• 分類號: A61L2/10;A61L2/24;A61L2/26;H02J7/00
• 代理公司: 深圳尚業(yè)知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 44503
• 代理人: 文蓉

包含在移動設備的殼體中或消毒充電器的支撐面中的消毒劑透過材料，以使難以到達的區(qū)域得到消毒。殼體可以是自行消毒的。消毒充電器可以具有監(jiān)視和安全系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以檢測距離并向用戶提供有關安全性、消毒和充電狀態(tài)的反饋以及自動聯(lián)鎖功能，以保護用戶避免過度暴露于消毒劑中。

背景技術

本發(fā)明涉及消毒，并且更具體地涉及與消毒有關的系統(tǒng)和方法。

眾所周知，細菌可以駐留在移動設備的表面上，并且可以通過物理接觸在移動設備之間進行傳播，從而導致感染傳播。為了降低由細菌和相關感染引起的風險，已經(jīng)進行了各種努力。例如，隨著目的是減少感染傳播的殺菌活動在社會中越來越普遍，人們對于針對移動設備進行的殺菌活動也越來越感興趣。這包括越來越多地使用UV(“紫外線”)消毒系統(tǒng)進行重復的或系統(tǒng)化的消毒。當前在商業(yè)市場上有許多不同類型的紫外線消毒產(chǎn)品。許多常規(guī)的紫外線消毒產(chǎn)品具有多種缺點。例如，紫外線能量具有使塑料和其他材料降解的趨勢。因此，常規(guī)的紫外線消毒處理方案可能會導致對處理范圍內(nèi)的和周圍的物體造成過度的、不期望的損壞的無意之中的結果。

為了安全起見，一些消毒系統(tǒng)涉及將一個設備或一組設備隔離在盒子或推車中，同時用紫外線輻射過量地給該設備進行快速消毒。這些系統(tǒng)通常利用大功率燈和驅(qū)動器提供的高強度紫外線能量，這導致了許多限制，而這些限制使得上述系統(tǒng)不受歡迎、昂貴且最終不切實際。設備通常通過與殼體，推車或機架關聯(lián)的支撐結構，物理地被保持在系統(tǒng)中。該結構可能隱藏細菌和病原體或屏蔽表面，使其無法被消毒。如果紫外線劑量太低，則設備可能更難以被消毒或不能地可靠地被消毒。為了解決這些問題，一些紫外線消毒系統(tǒng)傳遞更多的紫外線能量，以確保紫外線能量到達設備的盡可能多的位置。但是，這并不總是解決問題，因為根據(jù)機架內(nèi)的位置或設備的特定物理配置，設備的某些部分可能很難使用UV光到達。此外，支撐結構的接觸區(qū)域可能根本沒有被充分地處理，這在用戶在取回他們的設備的同時接觸支撐結構時會導致問題。

一些已知的消毒系統(tǒng)被集成到充電機架中，使得可以同時對設備進行消毒和充電。這會使消毒更加困難，可靠性降低。例如，由于充電機架的物理布局，要完全消毒設備可能是一個挑戰(zhàn)。消毒充電機架具有附加的支撐結構，以支撐充電功能，該功能可以增加隱藏的細菌的數(shù)量或防護罩表面不被消毒的程度。這些系統(tǒng)的設計并不是為了便于交互和/或智能自動交互。一個特別成問題的消毒隱患涉及充電連接點，該充電連接點可能是細菌和病原體生長增加的原因。無論充電機架是利用線纜還是其他類型的物理充電連接，在充電過程的開始和結束時手動操作設備和物理充電連接都可能導致生物負荷增加，從而帶來不必要的交叉污染幾率及其相關成本。另外，給消毒機架充電通常會涉及更多重復和頻繁的相互作用。這種增加的活動提出了另外的挑戰(zhàn)，即必須達至設備的整個表面積以提供令人滿意的消毒，同時保持在充滿了人類的環(huán)境中使用的安全性。

隨著人們更多地了解了紫外線能量對設備的影響，傳統(tǒng)紫外線消毒系統(tǒng)的更多問題和不足變得明顯。以前的紫外線消毒系統(tǒng)在涉及紫外線能量時“越多越好”的理念，具有負面影響，這與不適合強烈紫外線照射的材料被破壞或劣化有關。已知的紫外線消毒系統(tǒng)的其他問題包括缺乏自動化和較差的用戶界面。已知的紫外線系統(tǒng)通常需要用戶過多的手動干預，并且經(jīng)常使得過程模糊，導致用戶不了解設備在整個過程中的充電和消毒狀態(tài)。

發(fā)明概述

本發(fā)明的一些方面涉及與減少紫外線透射殼體的感染傳播有關的改進。便攜式電子設備可以被安裝在提供紫外線透射層的紫外線透射殼體中，該紫外線透射層使得能夠在圍繞便攜式電子設備的路徑中傳輸紫外線能量。三維紫外線能量路徑能夠?qū)Ρ銛y式電子設備和殼體的外部暴露表面進行快速可靠的消毒。紫外線透射殼體可以包括紫外線反射基底，以輔助將紫外線能量引導回紫外線透射路徑。紫外線透射殼體的一些實施方式可以是自行消毒的，具有集成在紫外線透射殼體內(nèi)的紫外線消毒控制系統(tǒng)和紫外線源。