[發明專利]水性UV光固化抗菌耐磨納米涂層的反應設備及使用方法

在審

• 申請號: 202210676209.4
• 申請日: 2022-06-15
• 公開（公告）號: CN114931916A
• 公開（公告）日: 2022-08-23
• 發明（設計）人: 葛亞;陳沖
• 申請（專利權）人: 江蘇吉福新材料股份有限公司
• 主分類號: B01J19/00
• 分類號: B01J19/00;B01J19/18
• 代理公司: 宿遷市永泰睿博知識產權代理事務所(普通合伙) 32264
• 代理人: 倉定平

本發明公開了水性UV光固化抗菌耐磨納米涂層的反應設備及使用方法，涉及涂料加工設備技術領域。包括反應釜組件，鎖緊機構以及定位機構，所述反應釜組件包括反應釜主體、支撐板以及底板，所述反應釜主體的兩側通過活動軸連接有支撐板。通過設置反應釜組件，鎖緊機構以及定位機構，相較于常規反應釜的清理方式，該裝置通過鎖緊機構以及定位機構將反應釜主體翻轉，降低反應釜主體的整體高度，無需工作人員爬高下低，清理過程更加安全，同時不采用自動清理結構，降低了反應釜主體內壁被刮傷的風險，同時降低了制造成本，采用人工目視清理，清理效果更佳，保證了反應釜主體內部的產品生產質量，符合經濟效益，應用前景廣闊。

技術領域

本發明涉及涂料加工設備技術領域，具體為水性UV光固化抗菌耐磨納米涂層的反應設備及使用方法。

背景技術

水性UV光固化抗菌耐磨納米涂層，采用水性UV光油固化工藝，將原料涂覆后，采用UV光固化技術，使得涂料在物面上形成一層薄薄的納米級防護層，納米級涂層，指納米無毒涂層的先進工藝，科技含量高的納米涂層技術，納米抗菌防護涂層，是在納米涂層基礎上的改善.主要特點起到了抗菌保護作用。

現有技術中，水性UV光固化抗菌耐磨納米涂層的原料反應釜技術較為承受，可以進行加熱、冷卻和攪拌，但是其結構固定，使得加工結束后的清理過程難度較大，尤其是對體積較大的反應釜來說，需要工作人員不停的爬高下低，過程緩慢且有一定的危險性，一些具有自動清洗結構的反應釜，清理有死角，潔凈效果差且容易刮傷反應釜的內壁涂層，導致反應釜需要返廠維修，造成嚴重經濟損失，已無法滿足使用需求。

發明內容

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：水性UV光固化抗菌耐磨納米涂層的反應設備及使用方法，包括反應釜組件，鎖緊機構以及定位機構，所述反應釜組件包括反應釜主體、支撐板以及底板，所述反應釜主體的兩側通過活動軸連接有支撐板，所述反應釜主體的兩側設置有一端穿設于支撐板內部且位于活動軸上方的定位軸；

所述鎖緊機構包括設置于支撐板上的電動推桿一以及電動推桿二，所述電動推桿一的輸出端上設置有U形定位夾，所述U形定位夾的內部與定位軸的表面活動套接，所述U形定位架內壁的兩側均設置有夾板，所述U形定位夾的兩側均設置有螺桿，兩個所述螺桿分別用于驅動兩個夾板，以實現所述夾板對定位軸的夾持，所述電動推桿二的輸出端上設置有與螺桿傳動連接的齒桿；

所述定位機構包括設置于底板底部的減速電機以及設置于支撐板一側的弧形阻尼板，所述減速電機的輸出端設置有一端貫穿底板延伸至其中一個支撐板內部并與定位軸表面相連接的鋼絲繩，所述弧形阻尼板的內部設置有數量不少于一個的定位銷組件。

作為本發明的一種優選技術方案，所述支撐板的底部與底板的頂部固定連接，所述底板的底部設置有支撐腿，所述底板呈L形設置，所述底板的頂部開設有操作槽，所述操作槽的內部設置有用于承接清洗產生的廢水的廢水收集槽，所述底板的頂部位于反應釜主體的底部開設有排料槽且排料槽內壁的一側開設有周轉口，用于容納所述反應釜主體底部的排料管。

作為本發明的一種優選技術方案，所述鎖緊機構還包括有開設于支撐板一側且數量不少于兩個的限位支撐槽，所述U形定位架包括設置于兩個支撐限位槽內部的側板以及設置于兩個側板之間的固定板，所述側板的一端延伸至支撐限位槽的外部。

作為本發明的一種優選技術方案，兩個所述側板的相對面均開設有活動腔，所述夾板設置于活動腔的內部，所述活動腔的內部設置有穩定桿且穩定桿的表面活動設置有穩定筒，所述穩定筒的一端與夾板的一側固定連接，所述活動腔內壁的一側與夾板之間設置有彈簧。

作為本發明的一種優選技術方案，所述電動推桿二的輸出端設置有活動桿，所述齒桿的一端固定安裝于活動桿上，所述活動桿上的齒桿數量不少于兩個，所述螺桿設置于側板的內部并與側板螺紋連接，所述螺桿的一端延伸至側板的外部并設置有齒軸，所述螺桿的另一端與夾板的一側相抵觸，所述齒桿的一側設置有與齒軸相嚙合的卡齒。