[發明專利]自清潔型抗紫外防霧膜及生產方法在審
| 申請號: | 202210665696.4 | 申請日: | 2022-06-10 |
| 公開(公告)號: | CN114879285A | 公開(公告)日: | 2022-08-09 |
| 發明(設計)人: | 羅定彬;蔣鑫;葉盛 | 申請(專利權)人: | 浙江南洋科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B1/18 | 分類號: | G02B1/18;G02B5/22;B01F27/92;B01F35/43;B01F101/36 |
| 代理公司: | 浙江維創盈嘉專利代理有限公司 33477 | 代理人: | 程雪 |
| 地址: | 318000 *** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 清潔 紫外 防霧膜 生產 方法 | ||
1.一種自清潔型抗紫外防霧膜,其特征是,包括:
膜基層(1),所述的膜基層(1)中包含了聚酯材料,
防霧膠層(2),在所述的膜基層(1)外設置有由防霧膠水形成的防霧膠層(2)。
2.根據權利要求1所述的自清潔型抗紫外防霧膜,其特征是,所述的膜基層(1)中還包含抗UV材料,所述的抗UV材料占膜基層(1)中原料的1%-5%。
3.根據權利要求2所述的自清潔型抗紫外防霧膜,其特征是,所述的抗UV材料中包括紫外吸收劑和光穩定劑。
4.根據權利要求3所述的自清潔型抗紫外防霧膜,其特征是,所述的紫外吸收劑為水楊酸酯類、二苯甲酮類、苯并三唑類或苯甲酸酯類中的一種或多種。
5.根據權利要求4所述的自清潔型抗紫外防霧膜,其特征是,所述的光穩定劑為NBC,770,2002及1084中的一種或多種。
6.根據權利要求5所述的自清潔型抗紫外防霧膜,其特征是,所述的防霧膠層(2)中包含了親水性SiO2、改性水性聚氨酯及固化劑。
7.根據權利要求6所述的自清潔型抗紫外防霧膜,其特征是,所述的防霧膠層(2)是由防霧膠水通過微凹涂布的工藝涂于膜基層(1)外形成的。
8.根據權利要求7所述的自清潔型抗紫外防霧膜,其特征是,所述的防霧膠層(2)采用的防霧膠水是由膠水攪拌裝置攪拌制得;
所述的膠水攪拌裝置包括:
攪拌桶(3),攪拌桶(3)通過支撐架進行固定,所述的攪拌桶(3)的底部呈錐狀;
攪拌軸(4),所述的攪拌軸(4)設置在攪拌桶(3)內且一端延伸出攪拌桶(3),并在所述的攪拌軸(4)位于攪拌桶內部的位置上設置有攪拌槳葉(5);
輔助葉片,在所述的攪拌軸(4)上設置有若干按圓周均勻分布的輔助葉片,所述的輔助葉片呈螺旋狀,且通過連接桿與攪拌軸(4)固定連接。
9.根據權利要求8所述的自清潔型抗紫外防霧膜,其特征是,所述的支撐架包括:
錐面承接部(6),所述的錐面承接部(6)與攪拌桶(3)的底部相抵并與攪拌桶(3)底部固定連接;
環狀支撐部(7),在錐面承接部(6)的下側設置有與錐面承接部(6)同軸的環狀支撐部(7),并在錐面承接部(6)與環狀支撐部(7)之間設置有若干按圓周均勻分布的加強筋(8);
減震緩沖支腳,在所述的環狀支撐部(7)的下側設置有若干按圓周均勻分布的減震緩沖支腳。
10.根據權利要求9所述的自清潔型抗紫外防霧膜,其特征是,所述的減震緩沖支腳包括:
上支撐盤(9),所述的上支撐盤(9)設置在環狀支撐部(7)下側;
中間支撐盤(10),所述的中間支撐盤(10)設置在上支撐盤(9)的下側,且中間支撐盤(10)的截面直徑大于上支撐盤(9)的直徑;
下支撐盤(11),所述的下支撐盤(11)設置在中間支撐盤(10)的下側,所述的下支撐盤(11)的直徑小于等于上支撐盤(9)的直徑;
支撐筒(13),支撐筒(13)設置在下支撐盤(11)的下側;
主支撐桿,所述的主支撐桿設置在上支撐盤(9)的下側且穿過中間支撐盤(10)并與下支撐盤(11)相抵;
側支撐桿,所述的若干所述的側支撐桿傾斜得設置在上支撐盤(9)與中間支撐盤(10)之間。
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