[發明專利]一種用于鍍制膜層的掩膜組件及其制作方法在審
| 申請號: | 202210653510.3 | 申請日: | 2022-06-09 |
| 公開(公告)號: | CN115044865A | 公開(公告)日: | 2022-09-13 |
| 發明(設計)人: | 孔祥盛;胡漢林;陳文禮;劉繼偉;孫俊偉;包悅 | 申請(專利權)人: | 煙臺睿創微納技術股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 夏菁 |
| 地址: | 264006 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 鍍制膜層 組件 及其 制作方法 | ||
1.一種用于鍍制膜層的掩膜組件,其特征在于,包括:
掩膜片、具有第一通孔的掩膜片載板、具有第二通孔的定位基板,所述掩膜片載板與所述定位基板固定連接,所述掩膜片與所述掩膜片載板固定連接,所述第一通孔與所述第二通孔對應;
所述第二通孔用于放置待鍍部件,所述掩膜片的圖形化處理區域對應所述第一通孔,所述定位基板和所述掩膜片位于所述掩膜片載板的同一側。
2.如權利要求1所述的用于鍍制膜層的掩膜組件,其特征在于,所述掩膜片載板與所述定位基板之間共晶連接。
3.如權利要求1所述的用于鍍制膜層的掩膜組件,其特征在于,所述掩膜片與所述掩膜片載板之間共晶連接。
4.如權利要求1所述的用于鍍制膜層的掩膜組件,其特征在于,所述第一通孔和所述第二通孔均呈陣列分布。
5.如權利要求1所述的用于鍍制膜層的掩膜組件,其特征在于,還包括:
覆蓋于所述掩膜片中心遮擋區的保護層。
6.如權利要求1至5任一項所述的用于鍍制膜層的掩膜組件,其特征在于,還包括:
設于所述定位基板遠離所述掩膜片載板一側的基板,用于承托所述待鍍部件。
7.如權利要求6所述的用于鍍制膜層的掩膜組件,其特征在于,所述基板與所述掩膜片載板、所述定位基板之間可拆卸連接。
8.如權利要求7所述的用于鍍制膜層的掩膜組件,其特征在于,所述基板與所述掩膜片載板、所述定位基板之間通過螺栓連接。
9.一種用于鍍制膜層的掩膜組件的制作方法,其特征在于,包括:
獲得具有第一通孔的掩膜片載板;
獲得具有第二通孔的定位基板;所述第二通孔用于放置待鍍部件,且所述第二通孔與所述第一通孔對應;
將所述掩膜片載板和所述定位基板固定連接;
將掩膜片與所述掩膜片載板固定連接,得到用于鍍制膜層的掩膜組件,所述定位基板和所述掩膜片位于所述掩膜片載板的同一側,所述掩膜片的圖形化處理區域對應所述第一通孔。
10.如權利要求9所述的用于鍍制膜層的掩膜組件的制作方法,其特征在于,所述將所述掩膜片載板和所述定位基板固定連接包括:
在所述掩膜片載板上放置第一釬焊焊料,并在所述第一釬焊焊料上放置定位基板,得到第一疊合組件;
將所述第一疊合組件放入共晶爐中進行共晶焊接,使所述掩膜片載板與所述定位基板共晶連接。
11.如權利要求10所述的用于鍍制膜層的掩膜組件的制作方法,其特征在于,所述將掩膜片與所述掩膜片載板固定連接包括:
在所述掩膜片載板的空槽處放置第二釬焊焊料,并在所述第二釬焊焊料上放置所述掩膜片,得到第二疊合組件;
將所述第二疊合組件放入共晶爐中進行共晶焊接,使所述掩膜片與所述述掩膜片載板共晶連接。
12.如權利要求9至11任一項所述的用于鍍制膜層的掩膜組件的制作方法,其特征在于,所述將掩膜片與所述掩膜片載板固定連接之后,還包括:
在所述定位基板遠離所述掩膜片載板一側設置基板。
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