[發明專利]一種CMOS雙排DUP與內部ESD器件的連接結構在審
| 申請號: | 202210642404.5 | 申請日: | 2022-06-08 |
| 公開(公告)號: | CN114843263A | 公開(公告)日: | 2022-08-02 |
| 發明(設計)人: | 茹金泉;陳明瑜;陳永烈;陳明嬌 | 申請(專利權)人: | 珠海鴻芯科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/02 | 分類號: | H01L27/02;H01L27/092 |
| 代理公司: | 珠海智專專利商標代理有限公司 44262 | 代理人: | 林永協 |
| 地址: | 519000 廣東省珠海市高*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 cmos dup 內部 esd 器件 連接 結構 | ||
1.一種CMOS雙排DUP與內部ESD器件的連接結構,包括雙排PAD與多個GPIO,所述雙排PAD中的每個PAD的最底層金屬連接所述GPIO,所述GPIO包括I/O口與ESD器件,所述ESD器件與所述I/O口沿電路版圖從里向外依次設置,所述I/O口連接所述ESD器件;所述ESD器件包括上下并排設置的二個ESD PMOS管以及上下并排設置的二個ESD NMOS管,所述上下并排設置的二個ESD PMOS管設置在所述上下并排設置的二個ESD NMOS管的上方;所述上下并排設置的二個ESD NMOS管的下方設置有第一金屬接口,其特征在于:
所述上下并排設置的二個ESD PMOS管之間設置有第二金屬接口;所述PAD的最底層金屬連接所述第一金屬接口或所述第二金屬接口。
2.如權利要求1所述的CMOS雙排DUP與內部ESD器件的連接結構,其特征在于:
所述I/O口與所述上下并排設置的二個ESD PMOS管之間設置不與PAD連接的第三金屬接口。
3.如權利要求2所述的CMOS雙排DUP與內部ESD器件的連接結構,其特征在于:
所述I/O口與所述上下并排設置的二個ESD PMOS管之間設置有第一保護環。
4.如權利要求1至3任一所述的CMOS雙排DUP與內部ESD器件的連接結構,其特征在于:
所述上下并排設置的二個ESD NMOS管與所述上下并排設置的二個ESD PMOS管之間設置有第二保護環。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





