[發(fā)明專利]高精度單像素成像方法及系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210641951.1
• 申請日: 2022-06-08
• 公開（公告）號: CN114721006B
• 公開（公告）日: 2022-09-02
• 發(fā)明（設計）人: 韓凱;來文昌;崔文達;孟琪;雷國忠;王彥
• 申請（專利權(quán)）人: 中國人民解放軍國防科技大學
• 主分類號: G01S17/89
• 分類號: G01S17/89
• 代理公司: 長沙國科天河知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 43225
• 代理人: 周達

1.一種高精度單像素成像方法，其特征在于，包括：

(S1) 根據(jù)目標物體，生成一系列不同階數(shù)的切比雪夫多項式分布的二維光場并加載到空間光調(diào)制器上，方法包括：

目標物體離散化大小為M*N像素的矩陣，目標物體的實際大小為Md_y*Nd_x的矩形，其中M、N為正整數(shù)，d_y、d_x分別為一個像素在y，x方向的幾何尺寸；

生成一系列不同階數(shù)的切比雪夫多項式分布的二維光場Q(x, y, n, m)，其中x，y為x方向和y方向的像素點坐標，n和m分別為x方向和y方向的切比雪夫多項式的階數(shù)，x=1,2,...,N-1；n=1,2,...,N-1；y=1,2,...,M-1；m=1,2,...,M-1；

將不同階數(shù)(n, m)的二維光場Q(x, y, n, m)拆分為光場Q⁺(x, y, n, m)和光場Q^-(x,y, n, m)后依次加載在空間光調(diào)制器上，其中Q⁺(x, y, n, m)保留Q(x, y, n, m)的正數(shù)元素，其余元素用零補齊，Q^-(x, y, n, m)保留Q(x, y, n, m)矩陣二維調(diào)制矩陣中的負數(shù)元素并在負數(shù)元素相應位置取其絕對值，其余元素用零補齊，；

(S2) 空間光調(diào)制器利用所述一系列不同階數(shù)的切比雪夫多項式分布的二維光場對光源發(fā)出的激光進行調(diào)制，調(diào)制后的激光照射到目標物體上，采集目標物體的反射回光；

(S3) 基于所述反射回光以及所述一系列不同階數(shù)的切比雪夫多項式分布的二維光場，對目標物體圖像進行重構(gòu)。