[發明專利]一種銀納米片團簇及其制備方法和應用在審
| 申請號: | 202210622597.8 | 申請日: | 2022-06-02 |
| 公開(公告)號: | CN115015215A | 公開(公告)日: | 2022-09-06 |
| 發明(設計)人: | 朱儲紅;王妍;劉丹;徐更生;嚴滿清;杜海威;袁玉鵬 | 申請(專利權)人: | 安徽大學 |
| 主分類號: | G01N21/65 | 分類號: | G01N21/65;C25D3/46;C25D5/54 |
| 代理公司: | 合肥金律專利代理事務所(普通合伙) 34184 | 代理人: | 楊霞 |
| 地址: | 230000 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 納米 片團簇 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種銀納米片團簇,其特征在于,其是由傾斜或垂直生長在導電襯底上的多個銀納米片組成,多個銀納米片平行疊加在一起形成團簇,每個銀納米片的尺寸大小為≥10μm,厚度為40-100nm。
2.根據權利要求1所述的銀納米片團簇,其特征在于,所述平行疊加在一起的多個銀納米片之間具有尺寸大小為≤10nm的納米間隙。
3.根據權利要求1或2所述的銀納米片團簇,其特征在于,所述銀納米片為扇形,邊緣為具有多個納米尖端和納米拐角的鋸齒狀。
4.一種權利要求1-3任一項所述銀納米片團簇的制備方法,其特征在于,包括:將導電襯底作為陰極,在包括銀離子和四氧化三鐵的電解液中進行電沉積,即在所述導電襯底上形成所述銀納米片團簇。
5.根據權利要求4所述銀納米片團簇的制備方法,其特征在于,所述電沉積的電流密度為120-200μA/cm2,電沉積的時間為1-2h。
6.根據權利要求4或5所述銀納米片團簇的制備方法,其特征在于,所述電解液中四氧化三鐵的濃度為0.02-0.05g/L,銀離子濃度為0.5-2g/L;
優選地,所述四氧化三鐵的粒徑為1-3μm。
7.根據權利要求4-6任一項所述銀納米片團簇的制備方法,其特征在于,所述導電襯底為硅片襯底、氧化銦錫襯底或摻氟的二氧化錫導電玻璃襯底。
8.一種權利要求1-3任一項所述銀納米片團簇的用途,其特征在于,包括:將所述銀納米片團簇作為活性基底,對待測物進行表面增強拉曼散射檢測。
9.根據權利要求8所述銀納米片團簇的用途,其特征在于,所述待測物為羅丹明6G。
10.根據權利要求9所述銀納米片團簇的用途,其特征在于,所述表面增強拉曼散射檢測的激發光波長為532nm,功率為0.05-1mW,積分時間為1-300s。
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