[發(fā)明專利]一種仿刺繡衍射光柵圖的制圖方法及選色模型在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210622005.2 | 申請日: | 2022-06-02 |
| 公開(公告)號: | CN114861251A | 公開(公告)日: | 2022-08-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 桑建新 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州印象鐳射科技有限公司 |
| 主分類號: | G06F30/12 | 分類號: | G06F30/12;G06T11/00;G02B5/18;D05C11/00 |
| 代理公司: | 上海碩力知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31251 | 代理人: | 劉桂芝 |
| 地址: | 215128 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 刺繡 衍射 光柵 制圖 方法 模型 | ||
1.一種仿刺繡衍射光柵圖的選色模型,其特征在于,包括:
仿絲線段模塊,用于定義仿絲線段;
仿絲線段的區(qū)域指示模塊,用于指示所述仿絲線段的所在區(qū)域;
角度定義圖示模塊,用于定義所述仿絲線段的角度;
絲線角度標(biāo)示模塊,用于指示所述仿絲線段的角度;
起落針指示模塊,用于指示所述仿絲線段的起落針;
灰度值標(biāo)示模塊,用于標(biāo)示所述仿絲線段的灰度值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的仿刺繡衍射光柵圖的選色模型,其特征在于,
所述角度定義圖示模塊,還用于基于指示的所述仿絲線段的起落針,定義所述仿絲線段的角度;
其中,由上至下定義為0°,由下至上定義為180°,由左至右定義為90°,由右至左定義為-90°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1~2中任一項所述的仿刺繡衍射光柵圖的選色模型,其特征在于,
所述灰度值的取值范圍為0~255;
所述灰度值為0時,對應(yīng)的仿絲線段的角度為0°;
所述灰度值為n時,對應(yīng)的仿絲線段的角度為θ=n*0.703125°,n=1~254;
所述灰度值為255時,對應(yīng)的仿絲線段的角度為180°。
4.一種仿刺繡衍射光柵圖的制圖方法,其特征在于,基于所述權(quán)利要求1~3中任一項所述的仿刺繡衍射光柵圖的選色模型進行制圖,包括:
步驟S1獲取仿刺繡樣稿的子繪圖區(qū)域的繡跡對應(yīng)的絲線的角度;
步驟S2基于所述絲線的角度,在所述選色模型中選取與所述絲線的角度匹配的仿絲線段,并將所述仿絲線段復(fù)制到所述繡跡對應(yīng)的絲線的位置;
步驟S3根據(jù)所述繡跡對應(yīng)的絲線的長度,調(diào)整所述仿絲線段的長度,以完成制圖。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的仿刺繡衍射光柵圖的制圖方法,其特征在于,所述獲取仿刺繡樣稿的子繪圖區(qū)域的繡跡對應(yīng)的絲線的角度,包括:
識別仿刺繡樣稿的子繪圖區(qū)域的繡跡,并獲得所述繡跡的起針點、落針點;
根據(jù)所述繡跡的起針點、落針點,得到所述絲線的角度。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的仿刺繡衍射光柵圖的制圖方法,其特征在于,所述根據(jù)所述繡跡的起針點、落針點,得到所述絲線的角度,包括:
連接所述繡跡的起針點、落針點,得到所述絲線;
以所述選色模型中角度定義圖示模塊的標(biāo)示0°為基線,測量所述絲線的角度。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的仿刺繡衍射光柵圖的制圖方法,其特征在于,在所述識別所述繪圖區(qū)域的繡跡,并獲得所述繡跡的起針點、落針點之前,還包括:
從所述仿刺繡樣稿的繪圖區(qū)域,選定所述子繪圖區(qū)域;
基于代表絲線直徑的線寬,調(diào)整所述選色模型中仿絲線段的線寬。
8.根據(jù)權(quán)利要求4~7中任一項所述的仿刺繡衍射光柵圖的制圖方法,其特征在于,
所述子繪圖區(qū)域包括若干個繡跡。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的仿刺繡衍射光柵圖的制圖方法,其特征在于,所述根據(jù)所述繡跡對應(yīng)的絲線的長度,調(diào)整所述仿絲線段的長度,以完成制圖,包括:
當(dāng)完成一個繡跡的繪制時,根據(jù)步驟S1~S3進行另一個繡跡的繪制直至完成所述子繪圖區(qū)域的繪制。
10.根據(jù)權(quán)利要求9述的仿刺繡衍射光柵圖的制圖方法,其特征在于,
所述仿刺繡樣稿的繪圖區(qū)域包括若干個子繪圖區(qū)域;
當(dāng)完成一個子繪圖區(qū)域的繪制時,復(fù)制另一個子繪圖區(qū)域進行繪制,直至完成所述仿刺繡樣稿的繪制。
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