[發(fā)明專利]層疊體、轉(zhuǎn)印膜、圖案形成方法、電路板的制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210609332.4
• 申請(qǐng)日: 2022-05-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN115542669A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-12-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 藤本進(jìn)二
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/095
• 分類號(hào): G03F7/095;G03F7/09
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 薛海蛟

1.一種層疊體，其依次具有第1組合物層、第1透明導(dǎo)電層、透明基材、第2透明導(dǎo)電層及第2組合物層，

所述第1組合物層至少包含第1感光性層，

所述第2組合物層至少包含第2感光性層，

所述層疊體的JIS-K-7136中規(guī)定的霧度值為0.5％以上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊體，其中，

所述第1感光性層在最大靈敏度波長(zhǎng)處的光學(xué)濃度為0.5以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊體，其中，

所述第2感光性層在最大靈敏度波長(zhǎng)處的光學(xué)濃度為0.5以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的層疊體，其中，

所述第1透明導(dǎo)電層及所述第2透明導(dǎo)電層中的至少一個(gè)為包含選自金屬納米線及金屬納米粒子中的1種以上的層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的層疊體，其中，

所述第1感光性層的最大靈敏度波長(zhǎng)及所述第2感光性層的最大靈敏度波長(zhǎng)中的至少一個(gè)在250nm～395nm的范圍內(nèi)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的層疊體，其中，

所述第1感光性層的最大靈敏度波長(zhǎng)及所述第2感光性層的最大靈敏度波長(zhǎng)中的至少一個(gè)在超過(guò)395nm且500nm以下的范圍內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的層疊體，其中，

所述透明基材的JIS-K-7136中規(guī)定的霧度值為0.5％以上。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的層疊體，其中，

所述第1組合物層從所述第1透明導(dǎo)電層側(cè)依次包含所述第1感光性層及第1散射層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的層疊體，其中，

所述第1散射層包含粒子。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的層疊體，其中，

所述第1感光性層包含粒子。

11.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的層疊體，其中，

所述第1組合物層的表面的算術(shù)平均粗糙度為0.01μm～1μm。

12.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的層疊體，其中，

所述第1組合物層從所述第1透明導(dǎo)電層側(cè)依次包含第1散射層及所述第1感光性層。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的層疊體，其中，

所述第1散射層包含粒子。

14.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的層疊體，其中，

所述第2組合物層滿足下述(X1)～(X4)中的任一個(gè)以上，

(X1)所述第2組合物層從所述第2透明導(dǎo)電層側(cè)依次包含所述第2感光性層及第2散射層，

(X2)所述第2感光性層包含粒子，

(X3)所述第2組合物層的表面的算術(shù)平均粗糙度為0.01μm～1μm，

(X4)所述第2組合物層從所述第2透明導(dǎo)電層側(cè)依次包含第2散射層及所述第2感光性層。

15.一種轉(zhuǎn)印膜，其具有臨時(shí)支承體及組合物層，

所述組合物層包含感光性層，

所述轉(zhuǎn)印膜滿足必要條件1及必要條件2中的任意者，

必要條件1：以所述轉(zhuǎn)印膜的與所述臨時(shí)支承體側(cè)相反的一面接觸玻璃基板的方式貼合所述轉(zhuǎn)印膜和所述玻璃基板之后，剝離所述臨時(shí)支承體而獲得的層疊體的JIS-K-7136中規(guī)定的霧度值為0.5％以上，

必要條件2：以所述轉(zhuǎn)印膜的與所述臨時(shí)支承體側(cè)相反的一面接觸玻璃基板的方式貼合所述轉(zhuǎn)印膜和所述玻璃基板而獲得的層疊體的JIS-K-7136中規(guī)定的霧度值為0.5％以上。