[發(fā)明專利]襯底清洗裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210608787.4
• 申請日: 2022-05-31
• 公開（公告）號: CN115591862A
• 公開（公告）日: 2023-01-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 樸庸碩;樸鎬胤;樸康淳
• 申請（專利權(quán)）人: 顯示器生產(chǎn)服務(wù)株式會社
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00;B08B1/02;B08B5/02;B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京商專永信知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11400
• 代理人: 江亞男;方挺

本發(fā)明涉及一種襯底清洗裝置，該襯底清洗裝置對通過多個腔室的襯底同時執(zhí)行多功能的清洗，由此可以有效地執(zhí)行襯底清洗和使襯底清洗及制造空間高效地運行，在清洗工序中穩(wěn)定地控制腔室內(nèi)部的氣流，由此可以防止在腔室內(nèi)部產(chǎn)生的霧或煙流出到外部或包含異物的外部空氣流入腔室內(nèi)部，并且可以防止多個腔室之間的氣流移動，從而更高效地執(zhí)行襯底清洗。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種襯底清洗裝置，具體而言，涉及這樣一種襯底清洗裝置，該襯底清洗裝置對通過多個腔室的襯底同時執(zhí)行多功能的清洗，由此可以有效地執(zhí)行襯底清洗，并且可以有效地運作襯底清洗及制造空間，在清洗工序中穩(wěn)定地控制腔室內(nèi)部的氣流，由此可以防止在腔室內(nèi)部產(chǎn)生的霧或煙流出到外部或包含異物的外部空氣流入腔室內(nèi)部，并且可以防止多個腔室之間的氣流移動，從而更有效地執(zhí)行襯底清洗。

背景技術(shù)

通常，用于制造顯示器的襯底是通過重復(fù)執(zhí)行沉積、圖案形成、蝕刻、化學(xué)/機械拋光、清洗等單元工序來制造的。

在這些單元工序中，清洗工序是用于去除在執(zhí)行各單元工序期間附著在襯底表面上的異物或不需要的膜等的工序，并且在這樣的清洗工序的最后執(zhí)行用于去除殘留在襯底上的清洗液或霧的干燥工序。

如上所述，考慮到襯底清洗工序在襯底制造工序中與其他工序相關(guān)聯(lián)地應(yīng)用這一方面，通過減小在清洗工序中所需的裝置和設(shè)置面積，可以大幅減小整個襯底制造裝置的尺寸和設(shè)置面積。

然而，由于常規(guī)的襯底清洗裝置在減小尺寸或設(shè)置面積方面存在局限性，因而與襯底制造工序的其他工序相關(guān)聯(lián)的連續(xù)工序設(shè)計方面存在困難，并且存在襯底制造工序的效率降低的問題。

例如，清洗工序可以根據(jù)相關(guān)聯(lián)的其他工序而經(jīng)過干式清洗工序、濕式清洗工序和干燥工序等多個清洗工序來保障襯底清洗的質(zhì)量，但由于各清洗工序的排氣壓力條件不同，因而與其他工序相關(guān)聯(lián)的工序設(shè)計變得困難，并且干式清洗工序、濕式清洗工序和干燥工序之間的關(guān)聯(lián)工序設(shè)計也變得困難。

此外，由于各清洗工序的排氣壓力條件不同，因而當(dāng)各清洗室相互間的壓力設(shè)定發(fā)生偏差時，不僅發(fā)生外部空氣容易流入清洗室的問題，而且發(fā)生在相鄰的清洗室之間產(chǎn)生不穩(wěn)定的氣流從而導(dǎo)致清洗質(zhì)量下降的問題。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：韓國登記專利公報第0402901號(2003年10月22日公告)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的技術(shù)問題

用于解決上述問題的本發(fā)明的目的是提供一種襯底清洗裝置，該襯底清洗裝置在清洗工序中穩(wěn)定地控制腔室內(nèi)部的氣流，由此可以防止在腔室內(nèi)部產(chǎn)生的霧或煙流出到外部或包含異物的外部空氣流入腔室內(nèi)部，并且可以防止多個腔室之間的氣流移動，從而更有效地執(zhí)行襯底清洗。

本發(fā)明的另一目的是提供一種襯底清洗裝置，該襯底清洗裝置對同時通過多個腔室的襯底同時執(zhí)行多功能的清洗，由此可以高效地執(zhí)行襯底清洗，并且可以使襯底清洗及制造空間高效地運行。

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題不限于上述技術(shù)問題，并且本發(fā)明所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員可以通過以下描述清楚地理解其他未提及的技術(shù)問題。

用于解決問題的手段