[發明專利]書寫筆跡顯示方法、控制器及TFT液晶書寫裝置在審
| 申請號: | 202210607930.8 | 申請日: | 2022-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN115098014A | 公開(公告)日: | 2022-09-23 |
| 發明(設計)人: | 李清波;楊猛訓 | 申請(專利權)人: | 山東藍貝思特教裝集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/04883 | 分類號: | G06F3/04883;G06F3/041;G09G3/36 |
| 代理公司: | 濟南圣達知識產權代理有限公司 37221 | 代理人: | 祖之強 |
| 地址: | 250132 山東省濟南市歷*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 書寫 筆跡 顯示 方法 控制器 tft 液晶 裝置 | ||
1.一種書寫筆跡顯示方法,其特征在于:
包括以下過程:
獲取筆跡書寫過程中書寫工具與書寫平面接觸位置的采樣中心點坐標,所述坐標為以書寫平面構建的坐標系下的坐標;
以所述中心點坐標為圓心,擦除以r為半徑的圓以外且當前筆跡范圍以內的筆跡,且圓邊穿過的像素作為筆跡保留;之前被保留的筆跡與當前欲擦除區域重疊時,不擦除之前被保留的筆跡,擦除后保持視覺上筆跡的連續性;
其中,r為預設值。
2.如權利要求1所述的書寫筆跡顯示方法,其特征在于:
筆跡范圍在相鄰采樣中心點連線的垂線方向上表現為書寫工具的寬度、液晶的流動寬度和安全距離的加和。
3.一種書寫筆跡顯示方法,其特征在于:
包括以下過程:
獲取筆跡書寫過程中書寫工具與書寫平面接觸位置的采樣中心點坐標,所述坐標為以書寫平面構建的坐標系下的坐標;
以所述中心點坐標為圓心,擦除以R為直徑的圓以外且當前筆跡范圍以內的筆跡,且圓邊穿過的像素作為筆跡保留;之前被保留的筆跡與當前欲擦除區域重疊時,不擦除之前被保留的筆跡,擦除后保持視覺上筆跡的連續性;
其中,R為預設值。
4.如權利要求3所述的書寫筆跡顯示方法,其特征在于:
筆跡范圍在相鄰采樣中心點連線的垂線方向上表現為書寫工具的寬度、液晶的流動寬度和安全距離的加和。
5.一種書寫筆跡顯示方法,其特征在于:
包括以下過程:
獲取筆跡書寫過程中書寫工具與書寫平面接觸位置的采樣中心點坐標,所述坐標為以書寫平面構建的坐標系下的坐標;
以所述中心點坐標為圓心,擦除以r為半徑的圓以外且當前筆跡范圍以內的筆跡,且圓邊穿過的像素作為筆跡保留;之前被保留的筆跡與當前欲擦除區域重疊時,不擦除之前被保留的筆跡,擦除后保持視覺上筆跡的連續性;
其中,當前筆跡的第一個采樣中心點對應的圓半徑與書寫工具的書寫壓力正相關,對連續書寫的除第一個采樣中心點的其他中心點對應的圓半徑根據書寫工具的壓力以及相鄰前一中心點圓的半徑確定。
6.如權利要求5所述的書寫筆跡顯示方法,其特征在于:
筆跡范圍在相鄰采樣中心點連線的垂線方向上表現為書寫工具的寬度、液晶的流動寬度和安全距離的加和。
7.如權利要求5所述的書寫筆跡顯示方法,其特征在于:
對第一個采樣中心點:r=kpF+kq;
對連續書寫的除第一個采樣中心點的其他采樣中心點:r=k1ru+k2F+k3;
其中,其中,r即為最終的圓半徑,ru為相鄰前一圓的擦除半徑,F為書寫工具壓力,k1、k2、k3、kp和kq為參數。
8.如權利要求5所述的書寫筆跡顯示方法,其特征在于:
根據筆跡變化速度對半徑r進行修正:rt=(ru+ur)/(1+u),其中,rt為修正值,s為權重,筆跡變化速度越快則s越大。
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