[發明專利]蒸發鍍膜裝置

在審

• 申請號: 202210607488.9
• 申請日: 2022-05-31
• 公開（公告）號: CN115011930A
• 公開（公告）日: 2022-09-06
• 發明（設計）人: 呂凱麗;趙利;孫軍旗;孫帥;劉孝玲;任宏志
• 申請（專利權）人: 北海惠科半導體科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 深圳市百瑞專利商標事務所(普通合伙) 44240
• 代理人: 邢濤

本申請公開了一種蒸發鍍膜裝置，蒸發鍍膜裝置包括蒸鍍腔體、蒸鍍源、多個蒸鍍鍋和驅動組件；蒸鍍源用于將蒸鍍材料轉化為氣體分子蒸鍍材料，氣體分子蒸鍍材料在蒸鍍腔體中運動形成蒸鍍區域；多個蒸鍍鍋對應設置在蒸鍍區域內；驅動組件設置在蒸鍍腔體的頂部，驅動多個蒸鍍鍋圍繞蒸鍍源的中心線進行旋轉；多個蒸鍍鍋包括第一蒸鍍鍋和第二蒸鍍鍋，第二蒸鍍鍋的直徑小于第一蒸鍍鍋的直徑，第二蒸鍍鍋設置在兩個第一蒸鍍鍋相互靠近的一端和兩個第一蒸鍍鍋相互遠離的一端之間的間隙內。本申請在一個蒸鍍腔室內設置不同大小的蒸鍍鍋，能夠更好的利用空間，防止蒸鍍源材料的浪費，且同腔體可以生產不同批次的晶圓，提供生產效率。

技術領域

本申請涉及蒸鍍技術領域，尤其涉及一種蒸發鍍膜裝置。

背景技術

蒸鍍，就是將蒸鍍材升華后，使其附著在被鍍物表面形成薄膜，屬于物理沉積的一種，具體為將蒸鍍材料轉化為氣體分子蒸鍍材料，而后氣體分子蒸鍍材料在真空環境中運動附著在待蒸鍍物表面，從而在待蒸鍍物表面形成薄膜的過程。

在現有的蒸鍍鍋公轉蒸鍍系統中，用于蒸鍍晶圓的設備內只設置單個蒸鍍源。然而。單個蒸鍍源在蒸鍍晶圓工作中，真空腔室內的蒸鍍鍋之間有很大的空隙，導致空間利用率低，在蒸鍍材料轉化為氣體分子蒸鍍材料容易從空隙中跑出，造成蒸鍍源材料的浪費。

發明內容

有鑒于此，本申請的目的是提供一種蒸發鍍膜裝置，用于提高蒸鍍源材料的利用率，生產不同批次的晶圓的效率。

為了實現上述目的，本申請提供了一種蒸發鍍膜裝置，蒸發鍍膜裝置包括蒸鍍腔體、蒸鍍源、多個蒸鍍鍋和驅動組件；所述蒸鍍源設置在所述蒸鍍腔體的底部，用于將蒸鍍材料轉化為氣體分子蒸鍍材料，所述氣體分子蒸鍍材料在所述蒸鍍腔體中運動形成蒸鍍區域；所述多個蒸鍍鍋對應設置在所述蒸鍍區域內；所述驅動組件設置在所述蒸鍍腔體的頂部，驅動多個所述蒸鍍鍋圍繞所述蒸鍍源的中心線進行旋轉；其中，多個所述蒸鍍鍋包括第一蒸鍍鍋和第二蒸鍍鍋，所述第二蒸鍍鍋的直徑小于所述第一蒸鍍鍋的直徑，所述第一蒸鍍鍋至少設置有兩個，所述第二蒸鍍鍋至少設置有一個，兩個所述第一蒸鍍鍋相對設置，所述第二蒸鍍鍋設置在兩個所述第一蒸鍍鍋相互靠近的一端和兩個所述第一蒸鍍鍋相互遠離的一端之間的間隙內。

可選地，所述驅動組件包括主電機、第一軌道和第二軌道，所述主電機通過支撐架與所述第一軌道和所述第二軌道驅動連接；所述第一蒸鍍鍋與所述第一軌道固定連接，所述第二蒸鍍鍋與所述第二軌道固定連接，所述主電機工作時，帶動所述支撐架旋轉，從而帶動所述第一軌道上的所述第一蒸鍍鍋和第二軌道上的所述第二蒸鍍鍋進行轉動；其中，所述第二軌道的直徑大于所述第一軌道的直徑。

可選地，所述多個蒸鍍鍋中包括兩個所述第一蒸鍍鍋和兩個所述第二蒸鍍鍋，兩個所述第二蒸鍍鍋相對設置，兩個所述第二蒸鍍鍋分別設置在兩個所述第一蒸鍍鍋相互靠近的一端和兩個所述第一蒸鍍鍋相互遠離的一端之間的兩個間隙內。

可選地，所述支撐架包括行星盤、連接所述第一軌道與所述行星盤的多個第一支撐臂以及連接所述第二軌道與所述行星盤的多個第二支撐臂，所述第一支撐臂和所述第二支撐臂相錯設置且間距相等。

可選地，所述第二支撐臂設置在所述第一軌道的外側，所述第二支撐臂包括第一臂和第二臂，所述第二臂向內彎折，與所述第一臂向內形成的內凹角小于180度；所述第二軌道設置在所述多個蒸鍍鍋的外側。

可選地，兩個所述的第一蒸鍍鍋斜向上設置，且以穿過所述蒸鍍源的中心線成軸對稱，設置在兩個所述第一蒸鍍鍋之間的第二蒸鍍鍋到兩側的所述第一蒸鍍鍋之間的間距相等；多個蒸鍍鍋的朝向都傾斜朝向穿過所述蒸鍍源的所述中心線。

可選地，所述第一軌道和所述第二軌道上設置有輔助電機，每個所述蒸鍍鍋對應設有一個輔助電機，所述輔助電機控制所述蒸鍍鍋進行自轉。