[發(fā)明專利]減反膜及其制作方法與殼體

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210605327.6
• 申請(qǐng)日: 2022-05-30
• 公開（公告）號(hào): CN114895384A
• 公開（公告）日: 2022-08-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 盧湘武;趙榮琦;陳志斌
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: OPPO廣東移動(dòng)通信有限公司
• 主分類號(hào): G02B1/11
• 分類號(hào): G02B1/11;G02B1/111
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300
• 代理人: 聞盼盼

1.一種減反膜，其特征在于，包括：

基材；

光學(xué)膜層，設(shè)置于所述基材的一側(cè)，所述光學(xué)膜層包括無機(jī)材料層和有機(jī)材料層，所述有機(jī)材料層設(shè)于所述無機(jī)材料層遠(yuǎn)離所述基材的一側(cè)，所述無機(jī)材料層包括交替層疊設(shè)置的第一無機(jī)層和第二無機(jī)層，所述第一無機(jī)層與所述第二無機(jī)層的折射率不同；

其中，所述有機(jī)材料層含有疏水基團(tuán)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減反膜，其特征在于，所述第二無機(jī)層的折射率大于所述第一無機(jī)層的折射率，所述無機(jī)材料層中與所述有機(jī)材料層直接接觸的結(jié)構(gòu)層為所述第二無機(jī)層，并且，所述第二無機(jī)層的折射率大于所述有機(jī)材料層的折射率。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的減反膜，其特征在于，所述第一無機(jī)層的材料包括二氧化硅，所述第二無機(jī)層的材料包括五氧化二鈮和二氧化鈦中的至少一種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減反膜，其特征在于，所述有機(jī)材料層的硬度大于所述基材的硬度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減反膜，其特征在于，所述減反膜還包括硬化層，所述硬化層設(shè)于所述基材和所述光學(xué)膜層之間，并且，所述硬化層的硬度大于所述基材的硬度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減反膜，其特征在于，所述有機(jī)材料層的厚度為80nm～110nm，所述第一無機(jī)層的厚度為5nm～40nm，所述第二無機(jī)層的厚度為10nm～40nm。

7.一種減反膜的制作方法，其特征在于，包括：

提供基材；

在所述基材的一側(cè)濺射鍍膜以形成無機(jī)材料層，所述無機(jī)材料層包括交替層疊設(shè)置的第一無機(jī)層和第二無機(jī)層，所述第一無機(jī)層與所述第二無機(jī)層的折射率不同；

在所述無機(jī)材料層遠(yuǎn)離所述基材的一側(cè)涂布有機(jī)材料層，得到減反膜。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的減反膜的制作方法，其特征在于，所述有機(jī)材料層含有疏水基團(tuán)；所述有機(jī)材料層的硬度大于所述基材的硬度。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的減反膜的制作方法，其特征在于，所述在所述基材的一側(cè)設(shè)置無機(jī)材料層包括：

在所述基材的一側(cè)設(shè)置硬化層，所述硬化層的硬度大于所述基材的硬度；

在所述硬化層遠(yuǎn)離所述基材的一側(cè)設(shè)置所述無機(jī)材料層。

10.一種殼體，其特征在于，包括：

殼體本體；

減反膜，設(shè)于所述殼體本體的一側(cè)，所述減反膜為如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的減反膜或者如權(quán)利要求7-9中任一項(xiàng)所述的制作方法制得的減反膜。