[發(fā)明專利]一種陶瓷可調(diào)節(jié)均勻上釉設(shè)備

有效

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• 申請日: 2022-05-30
• 公開（公告）號: CN114750273B
• 公開（公告）日: 2023-06-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 伍玉彬;蔣順生;康娟萍;劉浩然;鄒潁;陳曉;竇勝可;盧章良;劉雯雯
• 申請（專利權(quán)）人: 桂林航天工業(yè)學院
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04
• 代理公司: 蘇州拓鴻知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32664
• 代理人: 郭玉靜

本發(fā)明公開了一種陶瓷可調(diào)節(jié)均勻上釉設(shè)備，其可以實現(xiàn)自動化的對陶瓷進行上釉操作，上釉質(zhì)量高，可實現(xiàn)陶瓷上凹槽、弧角等不規(guī)則位置的上釉，在上釉時，先利用上釉機構(gòu)的上釉套盤對陶瓷的規(guī)則表面的大面積處進行快速上釉，在快速上釉完成后，再利用上釉針頭對陶瓷上凹槽、弧角等重點位置上釉作業(yè)，保證陶瓷的上釉質(zhì)量，上釉套盤的中心設(shè)置有貫通孔，當上釉針頭遠離所述上釉盤且未穿過貫通孔時，上釉盤能夠?qū)μ沾蛇M行上釉作業(yè)，當上釉針頭靠近所述上釉盤且穿過貫通孔時，由上釉針頭對陶瓷進行上釉作業(yè)，這種結(jié)構(gòu)，不僅可以快速的實現(xiàn)上釉盤和上釉針頭的變換，提高變換效率與能力，同時，還可以保證變換后的質(zhì)量與定位精度，提高上釉效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明具體是一種陶瓷可調(diào)節(jié)均勻上釉設(shè)備，涉及陶瓷上釉設(shè)備相關(guān)領(lǐng)域。

背景技術(shù)

目前，對于高質(zhì)量的陶瓷上釉來說，大多采用手工進行，這是因為普通的機械自動化上釉設(shè)備一般是利用上釉刷來對陶瓷進行涂刷，而在涂刷時，利用旋轉(zhuǎn)臺驅(qū)動陶瓷低速轉(zhuǎn)動，在轉(zhuǎn)動過程中，上釉涂刷對陶瓷進行涂刷即可，然而，對于一些高質(zhì)量的陶瓷來說，這種方式在對陶瓷上釉時，陶瓷的凹槽、弧角等非平面或者規(guī)則曲面的位置的上釉質(zhì)量不高，這些不規(guī)則位置上釉往往比較少，而這些位置在后續(xù)的處理工序中，還會容易出現(xiàn)釉的進一步流失問題，這就導(dǎo)致這些位置上釉質(zhì)量不佳，進而使得陶瓷質(zhì)量不可靠，難以實現(xiàn)高質(zhì)量陶瓷的制備，而如果簡單的設(shè)置多個尺寸不同、形狀不同的涂釉刷，則會導(dǎo)致定位精度不高，頻繁更換不僅十分麻煩，而且，更換后精度受到影響，同時，對設(shè)備的空間受限，影響操作。

發(fā)明內(nèi)容

因此，為了解決上述不足，本發(fā)明在此提供一種陶瓷可調(diào)節(jié)均勻上釉設(shè)備。

本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的，構(gòu)造一種陶瓷可調(diào)節(jié)均勻上釉設(shè)備，其包括基座、機架、升降氣缸、上下料機構(gòu)、上釉機構(gòu)、分度臺、陶瓷定位機構(gòu)和定位卡座，其中，所述基座的上端設(shè)置有所述機架，所述機架的中心固定設(shè)置有所述升降氣缸，所述升降氣缸的輸出端朝下，且所述升降氣缸的輸出端連接有所述上釉機構(gòu)，所述基座上位于所述上釉機構(gòu)的下方設(shè)置有所述分度臺，所述分度臺上圓周陣列設(shè)置有多個所述陶瓷定位機構(gòu)，其特征在于，所述陶瓷定位機構(gòu)的上端可拆卸的連接有所述定位卡座，待上釉的陶瓷定位設(shè)置在所述定位卡座上；

所述機架的一側(cè)還設(shè)置有所述上下料機構(gòu)，所述上下料機構(gòu)能夠?qū)⒍ㄎ挥刑沾傻亩ㄎ豢ㄗ徇\或者搬出所述陶瓷定位機構(gòu)；

所述陶瓷定位機構(gòu)構(gòu)設(shè)為能夠驅(qū)動所述定位卡座繞其中心軸線進行轉(zhuǎn)動，且所述陶瓷定位機構(gòu)能夠?qū)λ鲋行妮S線的傾斜偏轉(zhuǎn)角度進行調(diào)節(jié)，以便在上釉時對所述定位卡座上的陶瓷進行角度調(diào)節(jié)。

進一步，作為優(yōu)選，所述基座的底部中心設(shè)置有分度驅(qū)動器，所述分度臺由所述分度驅(qū)動器驅(qū)動分度轉(zhuǎn)動，所述機架上設(shè)置有多個導(dǎo)套，所述上釉機構(gòu)上設(shè)置有導(dǎo)桿，所述導(dǎo)套與所述導(dǎo)桿滑動導(dǎo)向配合。

進一步，作為優(yōu)選，所述上釉機構(gòu)包括升降座、水平調(diào)節(jié)氣缸、調(diào)節(jié)滑臺、變換機構(gòu)、上釉套盤、上釉針頭，其中，所述升降座的上端固定安裝在所述升降氣缸的活塞桿的底部，所述升降座的下端一側(cè)固定設(shè)置有所述水平調(diào)節(jié)氣缸，所述水平調(diào)節(jié)氣缸的活塞桿水平延伸，所述升降座的底部滑動配合有所述調(diào)節(jié)滑臺，所述調(diào)節(jié)滑臺由所述水平調(diào)節(jié)氣缸驅(qū)動，以便調(diào)節(jié)所述調(diào)節(jié)滑臺的水平位置，所述調(diào)節(jié)滑臺上固定安裝有所述上釉套盤，所述調(diào)節(jié)滑臺上還通過所述變換機構(gòu)安裝有所述上釉針頭，所述上釉套盤的中心設(shè)置有貫通孔，所述上釉針頭能夠在所述變換機構(gòu)的驅(qū)動下靠近所述上釉套盤并能夠穿過所述貫通孔，當所述上釉針頭遠離所述上釉套盤且未穿過所述貫通孔時，所述上釉套盤能夠?qū)λ鎏沾蛇M行上釉作業(yè)，當所述上釉針頭靠近所述上釉套盤且穿過所述貫通孔時，由所述上釉針頭對所述陶瓷進行上釉作業(yè)。

進一步，作為優(yōu)選，所述機架上還設(shè)置有供釉組件，所述供釉組件與所述上釉套盤、上釉針頭連接，以便利用所述供釉組件來對所述上釉套盤、上釉針頭添加釉料，進而通過所述上釉套盤、上釉針頭對陶瓷刷涂釉料。