[發明專利]校正方法以及物品制造方法

在審

• 申請號: 202210595578.0
• 申請日: 2022-05-30
• 公開（公告）號: CN115437223A
• 公開（公告）日: 2022-12-06
• 發明（設計）人: 茂泉純
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 程晨

1.一種校正方法，校正利用照明光學系統對掩模進行照明并利用投影光學系統將所述掩模的圖案投影到基板的曝光裝置中的所述投影光學系統的光學特性，其特征在于，具有：

測量工序，通過在所述照明光學系統的瞳面上形成光強度分布A，測量所述投影光學系統的光學特性；以及

校正工序，通過在所述照明光學系統的瞳面上形成與所述光強度分布A不同的光強度分布B，對所述投影光學系統進行加熱，校正所述投影光學系統的光學特性，

在所述校正工序中，

根據所述測量工序中的測量結果來決定利用所述光強度分布B對所述投影光學系統進行加熱時的所述光強度分布B的照射條件，在所述光強度分布B的所決定的所述照射條件下對所述投影光學系統進行加熱，校正所述投影光學系統的光學特性。

2.根據權利要求1所述的校正方法，其特征在于，

使用所述光強度分布A的參數的值，決定所述光強度分布B的照射條件。

3.根據權利要求1所述的校正方法，其特征在于，

使用所述光強度分布A的參數的值，計算由于利用所述光強度分布B對所述投影光學系統進行加熱而產生的所述投影光學系統的光學特性的變動量，根據計算出的所述變動量，決定所述光強度分布B的照射條件。

4.根據權利要求3所述的校正方法，其特征在于，

根據由于利用所述光強度分布B對所述投影光學系統進行加熱而產生的所述投影光學系統的光學特性的變動量和所述照明光學系統的瞳面的光強度分布的參數的值的相關關系，計算所述變動量。

5.根據權利要求4所述的校正方法，其特征在于，

使用通過將形成于所述照明光學系統的瞳面的光強度分布的參數設定為相互不同的值來多次測量由于利用所述光強度分布B對所述投影光學系統進行加熱而產生的所述投影光學系統的光學特性的變動量而得到的測量結果，求取所述相關關系。

6.根據權利要求1所述的校正方法，其特征在于，

所述光強度分布B在不通過配置于所述投影光學系統的物體面的光學元件的情況下通過所述投影光學系統，對所述投影光學系統進行加熱。

7.根據權利要求6所述的校正方法，其特征在于，

所述光學元件具有未形成圖案的區域，

在所述校正工序中照射到所述投影光學系統的光透射所述區域。

8.根據權利要求1所述的校正方法，其特征在于，

在所述校正工序中，照射到所述投影光學系統的光通過所述投影光學系統的物體面的開口部。

9.根據權利要求1所述的校正方法，其特征在于，

所述校正工序在光不到達所述基板的狀態下執行。

10.根據權利要求9所述的校正方法，其特征在于，

使用配置于所述投影光學系統的內部的光圈來設為光不到達所述基板的狀態。

11.根據權利要求2所述的校正方法，其特征在于，

所述參數是NA以及與有效光源有關的信息中的至少1個。

12.根據權利要求1所述的校正方法，其特征在于，

所述光強度分布A是在所述基板的曝光中使用的照明條件。

13.根據權利要求1所述的校正方法，其特征在于，

所述照射條件是照射時間或者照射量。

14.根據權利要求1所述的校正方法，其特征在于，

所述光學特性包括像散。

15.一種物品制造方法，其特征在于，包括：

使用權利要求1所述的校正方法來校正投影光學系統的光學特性的工序；

利用照明光學系統對掩模進行照明并利用校正后的所述投影光學系統將所述掩模的圖案投影到基板而對所述基板進行曝光的工序；以及

使曝光后的所述基板顯影的工序，

其中，從顯影后的所述基板制造物品。