[發明專利]一種空間位點隔離的聚合物基酸堿催化劑的制備方法

在審

• 申請號: 202210591969.5
• 申請日: 2022-05-27
• 公開（公告）號: CN114805711A
• 公開（公告）日: 2022-07-29
• 發明（設計）人: 陳濤;朱小康;施屹;董旭明;戚棟明
• 申請（專利權）人: 浙江理工大學;浙江彩蝶實業股份有限公司
• 主分類號: C08F293/00
• 分類號: C08F293/00;B01J31/06
• 代理公司: 杭州中成專利事務所有限公司 33212
• 代理人: 金祺

1.一種空間位點隔離的聚合物基酸堿催化劑的制備方法，包括步驟1)的RAFT試劑的制備、步驟2)的BOC保護的堿催化劑的制備、步驟3)的疏水嵌段的RAFT聚合；其特征在于包括以下步驟：

4)、利用步驟3)所得的疏水嵌段的RAFT聚合物進行交聯嵌段的RAFT聚合；

5)、親水嵌段的RAFT聚合；

6)、P1聚合物的制備；

7)、P2聚合物的制備；

8)、P3聚合物的制備；

9)、P4聚合物的制備。

2.根據權利要求1所述的一種空間位點隔離的聚合物基酸堿催化劑的制備方法，其特征在于：

步驟3)的疏水單體：步驟4)的交聯單體：步驟5)的酸催化劑嵌段＝5～20:5～20:40～100的數量比。

3.根據權利要求1或2所述的一種空間位點隔離的聚合物基酸堿催化劑的制備方法，其特征在于：

4)、交聯嵌段的RAFT聚合：

于容器中，將步驟3)所得的疏水嵌段的RAFT聚合物、交聯單體、作為引發劑的AIBN溶解于溶劑中，經過凍融循環，在惰性氣體保護下，于65～70℃聚合反應20～24h，將反應所得物在溶劑中進行沉淀處理，所得沉淀物干燥，得到交聯嵌段的RAFT聚合物；

交聯單體的結構通式為

步驟3)所得的疏水嵌段的RAFT聚合物：交聯單體：作為引發劑的AIBN＝0.2g：0.25±0.02g：3±0.3mg的用量比；

5)、酸催化劑嵌段的RAFT聚合：

于容器中，將步驟4)所得的交聯嵌段的RAFT聚合物、酸催化劑單體、作為引發劑的AIBN溶解于溶劑中，經過凍融循環，在惰性氣體保護下，于65～70℃聚合反應20～24h，將反應所得物在溶劑中進行沉淀處理，所得沉淀物干燥，得到酸催化劑嵌段的RAFT聚合物；

酸催化劑單體的結構通式為；

步驟4)所得的交聯嵌段的RAFT聚合物、酸催化劑單體、作為引發劑的AIBN＝0.2g：0.46±0.04g：1±0.1mg的用量比；

6)、P1聚合物的制備：

將步驟5)所得的酸催化劑嵌段的RAFT聚合物溶解在溶劑中，加入步驟2)所得的TREN-BOC和三乙胺，在惰性氣體保護和室溫條件下反應9～10h；

步驟5)所得的酸催化劑嵌段的RAFT聚合物：步驟2)所得的TREN-BOC：三乙胺＝0.2g：50±5mg：20±2μL的用量比；

將反應所得物在溶劑中進行沉淀處理，所得沉淀物干燥，得到聚合物P1；

7)、P2聚合物的制備：

將步驟6)所得的聚合物P1溶于溶劑中，加入TFA，室溫條件下反應9～10h；

步驟6)所得的聚合物P1：TFA＝0.1～0.2g：2mL的用量比；

反應結束后將pH調為4±0.2，在溶劑中沉淀，所得沉淀物干燥，得到聚合物P2；

8)、P3聚合物的制備：

將步驟6)所得的聚合物P1溶于溶劑中，加入硫醇，光引發劑2,2-二甲基-二苯基苯乙酮，在波長為365nm紫外燈作用下反應9～10h；

步驟6)所得的聚合物P1：硫醇：光引發劑2,2-二甲基-二苯基苯乙酮＝0.2g：0.01±0.001g：0.2±0.02g的用量比；

反應結束后在溶劑中沉淀，所得沉淀物干燥，得到交聯聚合物P3；

所述硫醇的結構通式為

9)、P4聚合物的制備：

將步驟8)所得的交聯聚合物P3溶于溶劑中，加入TFA，室溫條件下反應9～10h；

步驟8)所得的交聯聚合物P3：TFA＝0.2g：2±0.2mL的用量比；

反應結束后將pH調為4±0.2，在溶劑中沉淀，所得沉淀物干燥，得到具有空間位點隔離的酸堿催串聯化劑P4。

4.根據權利要求3所述的一種空間位點隔離的聚合物基酸堿催化劑的制備方法，其特征在于：

所述步驟4)中，交聯單體為以下任一：甲基丙烯酸烯丙酯(AMA)、甲基丙烯酰胺烯丙酯(VMA)；

所述步驟5)中，酸催化劑的潛在單體為以下任一：甲基丙烯酸叔丁酯(tBMA)、甲基丙烯酸(MAA)、甲基丙烯酸β-丙氨酸(MAA-β-Ala)；

所述步驟8)中，硫醇為以下任一：1,5-戊二硫醇、1,4-丁二硫醇、1,3-丙二硫醇。