[發明專利]mos版圖及應用其的mos管單元及功率mos管在審
| 申請號: | 202210591932.2 | 申請日: | 2022-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN115084128A | 公開(公告)日: | 2022-09-20 |
| 發明(設計)人: | 劉道國 | 申請(專利權)人: | 深圳市尚鼎芯科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/02 | 分類號: | H01L27/02;H01L29/08;H01L29/78 |
| 代理公司: | 深圳市知高達專利代理有限公司 44869 | 代理人: | 劉琴 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區西麗街道西麗*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | mos 版圖 應用 單元 功率 | ||
1.一種mos版圖,其特征在于,根據版圖規則設計版圖,包括有襯底層、源漏層、柵極層和金屬層;其中,源漏層包括有長條和短條,柵極層與長條的形成并聯單元,長條上形成多個第一漏極和第一源極,且相鄰設置的第一源極和第二漏極合并為同一位置;柵極層與短條形成串聯單元,短條上形成多個依次排列的第二漏極、串聯點和第二源極,且相鄰設置的第二源極和第二漏極合并為同一位置。
2.根據權利要求1所述的mos版圖,其特征在于,柵極層由多個柵極單元重復排列組成,柵極單元的排列數量根據長條和短條的組數以及長度所適配。
3.根據權利要求2所述的mos版圖,其特征在于,柵極單元包括分為上區域與下區域,上區域的面積大于下區域的面積;上區域與長條形成并聯單元,下區域與短條形成串聯單元。
4.根據權利要求1所述的mos版圖,其特征在于,金屬層由多組金屬單元重復排列而成,金屬單元的排列數量根據串聯單元與并聯單元的數量所適配。
5.根據權利要求1所述的mos版圖,其特征在于,還包括有的切割層,切除層設有多個用于形成版圖接線位置的切割點,切割點位于合并的第一漏極和第二漏極上位置上,和合并的第二源極和第二源極位置上。
6.一種mos管單元,其特征在于,根據權利要求1至5所述的mos版圖所制得。
7.一種功率mos管,其特征在于,包括多組重復排列的矩陣單元,其矩陣單元為權利要求6所述的mos管單元按照比例排列所得,根據外界所需電流的大小以調整mos管單元的組成數量。
8.根據權利要求7所述的功率mos管,其特征在于,矩陣單元的mos管單元排列比例為40*20。
9.根據權利要求7所述的功率mos管,其特征在于,多組mos管單元的漏極和源極之間還設有保護二極管。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





